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Fターム[4J100BA03]の内容

付加系(共)重合体、後処理、化学変成 (209,625) | 構成元素 (28,779) | O含有基 (18,190) | −OH基 (4,097)

Fターム[4J100BA03]に分類される特許

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【課題】 フォトレジスト用樹脂の構成モノマーとして有用な新規なラクトン骨格を有する化合物を提供する。
【解決手段】 下記式(I)
【化1】


(式中、Raは水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のハロアルキル基を示す。R1、R2は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す。但し、R1、R2のうち少なくとも一方は炭化水素基である。R1及びR2は、互いに結合して、隣接する炭素原子と共に環を形成していてもよい。R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す)
で表される少なくとも1種のモノマー単位を含む高分子化合物。 (もっと読む)


【課題】 フォトレジスト用樹脂の構成モノマーとして有用な新規なラクトン骨格を有する化合物を提供する。
【解決手段】 下記式(1)
【化1】


(式中、Raは水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のハロアルキル基を示す。Rbは酸脱離性基を示す。R1、R2は、同一又は異なって、炭化水素基を示す。R1及びR2は、互いに結合して、隣接する炭素原子と共に環を形成していてもよい。R3、R4は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す)
で表されるα−不飽和アシルオキシ−γ−ブチロラクトン誘導体。 (もっと読む)


本発明は、特定の中和剤で中和された、ポリエチレングリコール(メタ)アクリラートモノマー、カチオン性モノマー、及び場合によっては両性、アニオン性及び/又は親水性の非イオン性モノマーを含有する、新規のエチレン性コポリマーに関する。また本発明は、前記コポリマーを含有する特定の化粧品用又は製薬用組成物、並びに該コポリマーの調製方法、及びそれらを使用する美容処理方法に関する。 (もっと読む)


本発明は、以下の
A)式(I)及び(II)[式中、Rはそれぞれ互いに無関係に水素又はメチル基であり、Rはそれぞれ互いに無関係に直鎖状又は分枝鎖状の脂肪族又は脂環式の基又は置換又は非置換の芳香族又は複素芳香族の基であり、かつm及びnはそれぞれ互いに無関係に0以上の整数であるが、m+n>0を意味する]の化合物並びにB)式(I)及び(II)の化合物とは異なる少なくとも1種のエチレン性不飽和モノマー(A)を含有する混合物に関する。また本発明は前記混合物の重合法法、こうして得られる高透明ポリマー並びにその使用に関する。
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【課題】 金属成分等の不純物含有量の極めて少ないフォトレジスト用高分子化合物を提供する。
【解決手段】 本発明のフォトレジスト用高分子化合物は、ラクトン骨格を含む単量体(a)、酸により脱離してアルカリ可溶性となる基を含む単量体(b)、及びヒドロキシル基を有する脂環式骨格を含む単量体(c)から選択された少なくとも1種の単量体を含む単量体混合物を滴下重合に付して得られるフォトレジスト用高分子化合物であって、(i)前記滴下重合により得られたポリマーを、有機溶媒と水とを用いた抽出操作に付す抽出工程(B)、又は(ii)前記滴下重合により得られたポリマーを含有する特定のポリマー溶液を特定のフィルターに通液させる工程(I)を経ることにより、ナトリウム含有量(ポリマー重量基準)が95重量ppb以下に低減されている。 (もっと読む)


【課題】本発明は、高圧下でヨウ素移動重合を行うことにより、重合開始剤が少ないにもかかわらず重合速度が大幅に増大し、非ヨウ素移動重合法に匹敵する生産性の高い含フッ素エラストマーの製造方法を提供する。さらに、この方法によって製造した含フッ素エラストマーを提供する。
【解決手段】反応槽内の気相部分における各モノマーの臨界温度、臨界圧力、およびそれぞれの組成比からPeng−Robinson式を用いて算出した臨界定数の換算温度が0.95以上、換算圧力が0.80以上の条件下で行なわれる、バッチ式共重合法による含フッ素エラストマーの製造方法であって、一般式(1):
f1・Ix (1)
で示されるヨウ素化合物の存在下に、少なくとも1種のフルオロオレフィンを含むエチレン性不飽和化合物と、一般式(2):
【化1】


で示される化合物および/または、一般式(3):
CF2=CF(CX12p(CX34qI (3)
で示される化合物とを共重合させる含フッ素エラストマーの製造方法。 (もっと読む)


【課題】
低屈折率かつ耐擦傷性の強い硬化皮膜を形成し得る組成物および該組成物からなるコーティング組成物を提供すること。更には、該コーティング組成物を用いて十分な反射防止性を有しながら耐擦傷性の向上した反射防止フィルム、この反射防止フィルムを用いた偏光板及び画像表示装置を提供すること。
【解決手段】
少なくとも一種の、重合性基を2つ以上有する含フッ素多官能モノマーと、中空のシリカ微粒子を含有することを特徴とする組成物、コーティング組成物、及び該コーティング組成物から形成された反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置。 (もっと読む)


【課題】長期熱安定性に優れ、低温で塗膜形成可能な防曇塗料及びこれを塗布、乾燥して得られる防曇性成形品を提供する。
【解決手段】 (I)ポリアルキレングリコール構造を有し、そのオキシアルキレン基くり返し数(鎖長)の平均値が3以上である重合反応性単量体の1種以上、アニオン性重合反応性単量体の1種以上、N−アルキル(メタ)アクリルアミド単量体の1種以上及び前記三者と共重合可能な単量体の1種以上が重合した重合物と、
(II)全固形分中総量0.5〜5重量%の、アルキルアミン類及び有機金属類の1種以上及び/又は(III)全固形分中総量1〜5重量%の、濡れ性向上剤、粘度調整剤、pH調整剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤、可塑剤、防腐剤及び防カビ剤の1種以上とを含有する防曇塗料。 (もっと読む)


【課題】 薬液透過防止性、層間接着性、低温耐衝撃性、耐薬品性、及び環境応力負荷耐性に優れた積層ホースを提供する。
【解決手段】 (A)脂肪族ポリアミドからなる(a)層、(B)下記構造単位(I)を0.3〜40モル%含有する、エチレン含有量5〜55モル%の変性エチレン/酢酸ビニル共重合体ケン化物からなる(b)層、及び(C)アミノ基又はヒドロキシル基に対して反応性を有する官能基が分子鎖中に導入された含フッ素系重合体からなる(c)層を有する、少なくとも3層以上からなることを特徴とする積層ホース。
【化1】
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【課題】触媒組成物およびその調製に関する方法。ならびに非極性オレフィンモノマー、極性オレフィンモノマーおよびのその組み合わせを含むエチレン性不飽和モノマーを、触媒組成物の存在下で重合、ポリマーを調製する方法。
【解決手段】少なくとも一つのカチオン性金属対錯体を含む触媒組成物で、対の金属原子は少なくとも1.5オングストロームで20オングストローム以下のスルースペース核間距離を有する特定構造の錯体を含有する触媒組成物、および触媒組成物を用いて重合したポリマーを提供する。 (もっと読む)


【課題】 高エチレン含量のエチレン−ビニルアルコール共重合体であっても容易に製造
可能なエチレン−ビニルアルコール共重合体の製造方法、該エチレン−ビニルアルコール
共重合体の製造方法により得られたエチレン−ビニルアルコール共重合体、及び、高エチ
レン含量のエチレン−ビニルアルコール共重合体であっても容易に、かつ、高い効率でア
セタール化、ケタール化又はエステル化できる変性エチレン−ビニルアルコール共重合体
の製造方法を提供する。
【解決手段】 エチレン−酢酸ビニル共重合体と、水及び/又はアルコールとを混合し、
超臨界状態又は亜臨界状態の流体中で反応させるエチレン−ビニルアルコール共重合体の
製造方法。 (もっと読む)


本発明は、室温下に架橋可能かつ熱処理により後架橋可能なホルマリンを含まないコーティングを生成し得る共反応性ラテックスに基づく単一成分系に関し、この系は、それぞれ、水性媒体中で、それぞれAおよびBモノマー:(a)式(A)の官能基を有し、モノマーAの組成物の構成成分である少なくとも1種のフリーラジカル重合性エチレン不飽和モノマー、および(b)モノマー(a)と同一または異なるラジカル(R)を有し、官能基が、アセタール、メルカプタール、メルカプト−ル、ジオキソランおよびジチオランから選択され、モノマーB組成物の構成成分である少なくとも1種のフリーラジカル重合性エチレン不飽和モノマーの組成物を乳化重合して得た2種の粒子分散物(A)および(B)の混合物からなる。本発明はさらにこの系の製造法およびコーティング分野における利用に関する。 (もっと読む)


【課題】 凝集物等の巨大粒子の少ない合成ゴムラテックスが容易に得られる製造方法を提供すること。
【解決手段】 共役ジエン(a1)、カルボキシル基含有エチレン性不飽和単量体(b1)および前記エチレン性不飽和単量体(b1)以外のエチレン性不飽和単量体(c1)を乳化重合させてシード用重合物を製造する工程と前記シード用重合物の存在下で共役ジエン(a2)、カルボキシル基含有エチレン性不飽和単量体(b2)および前記エチレン性不飽和単量体(b2)以外のエチレン性不飽和単量体(c2)を乳化重合する工程とを含有する合成ゴムラテックスの製造方法であり、前記(a1)と(a2)、(b1)と(b2)および(c1)と(c2)がそれぞれ同一の化合物であることを特徴とする合成ゴムラテックスの製造方法。 (もっと読む)


【課題】 EBまたはEUV照射下で充分良好な感度、コントラスト、解像力、ラインエッジラフネスを実現できるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 酸の作用により分解して、アルカリ可溶性基を生じるとともに、特定構造を有する脱離基を生じる基を有する、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び活性光線または放射線の作用により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 (もっと読む)


本発明は、強酸性を示す水溶液に対しても増粘効果及び安定性に優れる水溶性増粘剤及び液状酸性洗浄剤である。本発明は、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸又はその塩とアクリル酸及び/又はその塩を必須成分とし、必要に応じて共重合可能なその他の単量体として下記式(1)で表される化合物及び/又はその塩を構成成分とする単量体混合物であって、全単体量中2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸及び/又はその塩が20モル%以上含む、を重合して得られる重量平均分子量600万以上の水溶性共重合体を含有してなるものである。


〔但し、式(1)において、nは1〜12の整数である。〕
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【課題】
低屈折率で優れた硬度を有し、且つ、耐擦傷性、および防汚性に優れる含フッ素重合体を与える、含フッ素多官能モノマーを提供すること。さらに該含フッ素多官能モノマーを用いてなる反射防止膜を提供すること。該反射防止膜を用いた反射防止フィルム、画像表示装置を提供すること。
【解決手段】
重合性基を3つ以上有する含フッ素化合物であって、フッ素含有率が該含フッ素化合物の分子量の35.0質量%以上であり、前記重合性基を重合させたとき、すべての架橋間分子量の計算値が300以下であることを特徴とする、含フッ素多官能モノマー。 (もっと読む)


【課題】少なくとも一種のカチオン重合性モノマーの単独重合体、ないし該モノマーとノルボルネン型モノマーとの共重合体を製造する方法、並びに該製造方法によって得られる重合体を提供する。
【解決手段】0.1〜99.9重量%の少なくとも1種のノルボルネン型モノマーおよび0.1〜99.9重量%の少なくとも1種のカチオン重合性モノマーとを、VIII族遷移金属イオン源を含む単一成分もしくは多成分触媒の存在下、溶媒中で重合する。該カチオン重合性モノマーとしては、オレフィン、イソオレフィン、分岐状α−オレフィン、共役オレフィン、二環性ビニルエーテル、環状エーテル、N−ビニルカルバゾールおよびラクトンモノマーよりなる群から選ばれるモノマーが好適に使用される。 (もっと読む)


【課題】高解像性、高感度であって、かつパターン倒れが抑制されたレジストパターンを形成できる高分子化合物および該高分子化合物を含むポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】脱保護エネルギーが3級エステルの保護基に比べて低い特定の構造単位(a1)、ラクトン含有環式基を含む(α−低級アルキル)アクリル酸エステルから誘導される単位(a2)及び、単位(a1)と単位(a2)以外の単位であって、脂肪族環式基含有非酸解離性溶解抑制基を含み、かつ極性基を含まない、(α−低級アルキル)アクリル酸エステルから誘導される単位(a3)を含む高分子化合物を用いてレジスト組成物とする。 (もっと読む)


(メタ)アクリル酸及び1種以上の(メタ)アクリレート又は(メタ)アクリルアミド防汚性ポリマーを含有する防汚剤組成物、及び、(メタ)アクリル酸の工程における汚れの付着を防止する方法であって、(メタ)アクリレート又は(メタ)アクリルアミド防汚性ポリマーを(メタ)アクリル酸のプロセス流中へ添加する工程を含むことを特徴とする方法。 (もっと読む)


【課題】 150度以上の超撥水性と無色透明性を兼ね備え、しかも表面硬度に優れる硬化塗膜の形成が可能な組成物、およびそのような特性を有する成形物、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 1分子中に2個以下のラジカル重合性不飽和二重結合を有する化合物および/または重合性不飽和二重結合を含まない樹脂を、組成物(塗膜形成成分)100質量部中に35質量部以下の割合で含有する、全光線透過率が90%以上、ヘイズ値が1%以下、および水に対する接触角が150度以上の硬化物を形成しうる組成物。 (もっと読む)


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