【課題】微細なパターンの形成においてもＣＤＵ等のリソグラフィー特性に優れるフォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】［Ａ］γ−ブチロラクトン環を含む構造単位を有するアダマンチル基及びアダマンタン環を含む酸解離性基含有重合体、及び［Ｂ］酸発生体を含有するフォトレジスト組成物であって、上記構造単位の含有割合が６０モル％を超えることを特徴とするフォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリント法によるパターン形成において、モールド充填性に優れるナノインプリント用感放射線性組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】同一又は異なる分子中に芳香環及びフッ素原子を含み、フッ素原子に対する芳香環のモル比が６．０以下であるナノインプリント用感放射線性組成物である。上記ナノインプリント用感放射線性組成物は、［Ａ］下記式（１）で表される重合性化合物を含有することが好ましく、また、［Ｂ］フッ素化アルキル基を有する特定の構造のアルコールのアクリレートからなる群より選択される少なくとも１種の重合性化合物をさらに含有することが好ましい。
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【課題】 優れた帯電付与特性を有する高分子化合物が得られる重合性単量体を提供する。
【解決手段】 サリチル酸或いはサリチル酸誘導体とスチレン或いはスチレン誘導体とが、連結基−Ａ−ＮＨ−で連結された構造を有する重合性単量体。 （もっと読む）

【課題】 長期間の高電圧の印加によっても電気抵抗が上昇しにくい電子写真用の導電性部材の提供。
【解決手段】導電性の支持体および導電性の弾性層を有する電子写真用の導電性部材であって、該弾性層は、非イオン導電性ブロック（Ａブロック）、および、イオン交換基を有するイオン導電性ブロック（Ｂブロック）から構成されるＡ−Ｂ−Ａ型のブロック共重合体を含み、該ブロック共重合体はミクロ相分離構造を形成し、該Ａブロックが球状構造、シリンダー構造および共連続構造からなる群より選ばれるいずれかの構造をなし、該Ｂブロックがそのマトリックスをなしていることを特徴とする電子写真用の導電性部材。 （もっと読む）

【課題】各種基材、特に電子部品に撥水性、撥油性および撥ＩＰＡ性を付与するとともに、耐熱性の高い表面処理剤の提供。
【解決手段】式（ａ）で表される（メタ）アクリレートから導かれる構成単位（Ａ）と、Ｎ−置換マレイミドから導かれる構成単位（Ｂ）とを含有する重合体を溶媒中に含む表面処理剤。
ＣＨ₂-＝Ｃ（Ｒ¹）-ＣＯＯ-（ＣＨ₂）_ｎ１-Ｒ^ｆ （ａ）
ｎ^１：０〜４の整数、Ｒ^ｆ：炭素数１〜６のポリフルオロアルキル基またはポリフルオロエーテル基。 （もっと読む）

【課題】平版印刷における高い耐刷性を実現し、しかも露光部の良好な現像性をも達成する平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】親水性表面を有する支持体上側に、下層及び上層をこの順に配設した記録層を有してなる赤外線感光性ポジ型平版印刷版原版であって、前記上層および／または下層が、特定のマレイミド樹脂Ａと、両性界面活性剤および／またはアニオン性界面活性剤と、赤外線吸収剤とを、同じ層に、あるいはそれぞれ別々に層に含有する平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】柔軟性に富み、低硬度であり、制振性に優れたエチレン・α―オレフィン・非共役ポリエン共重合体を提供する。
【解決手段】エチレン［Ａ］、炭素数６〜２０のα−オレフィン［Ｂ］、および少なくとも一種以上の非共役ポリエン［Ｃ］に由来する構造単位を含むエチレン系共重合体であって、（１）炭素数６〜２０のα−オレフィン［Ｂ］に由来する構造単位が、全構造単位１００モル％中、３０〜５０モル％であり、（２）非共役ポリエン［Ｃ］に由来する構造単位が、全構造単位１００モル％中、０．５〜１０．０モル％であり、（３）１３５℃のデカリン溶液で測定した極限粘度［η］が、１．０〜５．０ｄＬ／ｇであり、（４）エチレン系共重合体が下記式（Ｉ）を満たす。
３＊（［η］−１）＜ ＭＬ₁₊₄（１００℃）＜３２．８５＊（［η］−１）（Ｉ） （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、レジストパターンを形成した際に生じるＢｌｏｂ欠陥を抑制することができ、かつ保存安定性に優れた液浸上層膜形成用組成物を提供することである。
【手段】 重合体成分（Ａ）および溶剤（Ｂ）を含む液浸上層膜形成用組成物であって、 重合体成分（Ａ）が有する全繰り返し単位のうちの少なくとも一部として、カルボキシル基を有する繰り返し単位（ｃ）と、スルホ基を有する繰り返し単位（ｓ）とを有し、 溶剤（Ｂ）として、炭素数が２以上８以下のエーテル系溶剤（Ｂ１）を含む、液浸上層膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】インクジェットプリンターに使用することができ、且つ、耐熱性、耐薬品性、絶縁性及び保存安定性に優れるインクジェット用硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で示されるビスアリルナジイミド化合物と、


（式中、Ｒ^１は、炭素数２〜１８のアルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す。）特定構造のビスマレイミド化合物と、（Ｃ）希釈剤と、（Ｄ）ヒドロキノン及びヒドロキノン誘導体の少なくとも一方を含有するインクジェット用硬化性樹脂組成物であって、その粘度が２５℃で１５０ｍＰａ・ｓ以下であることを特徴とするインクジェット用硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】インクジェット法を用いて光硬化組成物の適用を行っても超微細パターンが良好に形成できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】重合性化合物および重合開始剤を含有する光硬化性組成物を基材上または微細パターンを有するモールド上に適用し、該光硬化性組成物をモールドまたは基材で挟んだ状態で光照射することを含むパターン形成方法であって、光硬化性組成物の２５℃における粘度が１２〜１００ｍＰａ・ｓであり、光硬化性組成物は、液滴を吐出により、基材上または微細パターンを有するモールド上に適用し、前記光硬化性組成物の吐出時の温度が２８℃以上である、パターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】押出成形性が良好であり、薬液透過防止性、層間接着性、柔軟性、耐薬品性、透
明性に優れた積層チューブを提供する。
【解決手段】少なくとも層（ａ）と層（ｂ）とを有する積層チューブであって、前記層（ａ）が、ポリアミドエラストマー（樹脂Ｘ）１００質量部に対して、ポリカーボネート（樹脂Ｒ）０．３〜５質量部を含むポリアミドエラストマー組成物（樹脂Ａ）からなり、
前記層（ｂ）が含フッ素系重合体（樹脂Ｂ）からなり、前記樹脂Ｘは、末端アミノ基濃度が２０μｅｑ／ｇ以上であり、前記樹脂Ｂは、アミノ基に対して反応性を有する官能基を分子鎖中に導入されている積層チューブ。 （もっと読む）

【課題】 本発明のナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物は、ナノインプリントリソグラフィーによるパターン形成方法において、レジスト膜の剥がれが生じ難い形状転写層を形成することができるという効果を奏するものである。
【解決手段】 （Ａ）重合性化合物と、（Ｂ）２５℃、１ａｔｍの条件下においてＡＳＴＭ−Ｄ３５３９に準拠して測定される相対蒸発速度の値が、酢酸ブチルの値を１としたとき１〜１５の範囲内にある有機溶媒とを含有し、（Ａ）成分１００重量部に対して（Ｂ）成分を０．０１〜１０重量部含有する、ナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】調製するＡＥコンクリートの流動性や空気連行量、また得られる硬化体の圧縮強度や中性化抑制に悪影響を及ぼすことなく、得られる硬化体の収縮率を５０マイクロ以下に抑えて該硬化体を実質的に無収縮のものにすることができる無収縮ＡＥコンクリートの調製方法を提供する
【解決手段】セメント、細骨材、粗骨材、乾燥収縮低減剤、膨張材、セメント分散剤、空気量調節剤及び水を用いてＡＥコンクリートを調製するに際し、セメントとして早強ポルトランドセメントを特定割合で用い、また細骨材の少なくとも一部として特定の高炉スラグ細骨材を特定割合で用い、同時に乾燥収縮低減剤及び膨張材を特定割合で用い、且つ単位量率が特定範囲となるようにした。 （もっと読む）

【課題】フッ素を有するシルセスキオキサンを含む重合体を提供し、この重合体を表面改質剤として利用すること、好ましくはマトリックス樹脂の表面改質剤として利用することである。
【解決手段】下記式の構造を有している化合物（ａ−１）と、（メタ）アクリル酸化合物またはスチレン化合物からなる付加重合性単量体（ｂ）との付加共重合体を含有する表面処理剤から得られるコーティング膜。
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【課題】経時安定性に優れ、経時によっても塗布膜厚の変化が生じにくい感光性樹脂組成物、及びその感光性樹脂組成物から形成されたスペーサを有する液晶パネルを提供する。
【解決手段】本発明に係る感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、光重合性モノマー（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、及び溶剤（Ｓ）を含有する。このうち、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、不飽和カルボン酸（ａ１）と脂環式エポキシ基含有不飽和化合物（ａ２）とを少なくとも重合させた共重合体（Ａ１）を含む。また、溶剤（Ｓ）は、（ポリ）アルキレングリコールジアルキルエーテル系溶剤を含み、溶剤（Ｓ）に占める（ポリ）アルキレングリコールジアルキルエーテル系溶剤の割合が５６質量％以上である。 （もっと読む）

【課題】従来技術の問題点を解消した、有用な反応性可塑剤として使用できる新規材料を含有するゴム組成物を提供すること。
【解決手段】低粘度エチレン系共重合体（Ｌ）５〜５０重量部と、高粘度エチレン系共重合体（Ｈ）９５〜５０重量部〔ただし、共重合体（Ｌ）の重量と共重合体（Ｈ）の重量との合計は１００重量部である〕と、架橋剤とを含むゴム組成物であって、前記低粘度エチレン系共重合体（Ｌ）および高粘度エチレン系共重合体（Ｈ）が、特定の要件を満たすことを特徴とするゴム組成物。 （もっと読む）

【課題】従来の重合体と比較して十分な再汚染防止能を有する重合体を提供することを目的とする
【解決手段】
１質量％以上、８９質量％以下のヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート由来の構造単位（ａ）、１０質量％以上、９８質量％以下のカルボキシル基含有単量体（Ｂ）由来の構造単位（ｂ）、及び、１質量％以上、８９質量％以下のポリアルキレングリコール系単量体（Ｃ）由来の構成単位（ｃ）、を必須構造単位として有する共重合体である。 （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、露光ラチチュード及びドライエッチング耐性に優れ、かつ露光により形成されるパターン部の膜厚低下、いわゆる膜べりを抑制するパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】（ア）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位（ａ）、及び酸の作用により分解してアルコール性水酸基を生じる基と多環の脂環式炭化水素基とを有する繰り返し単位（ｂ）を有する樹脂（Ｐ）並びに活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程を含む、パターン形成方法。
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【課題】塗工適正と塗膜物性にバランスよく優れたポリマーセメント組成物の提供を目的とする。
【解決手段】水への溶解度〔水１００ｇに対する溶解量〕が２０ｇ／１００ｇ以下であり、かつ不飽和基を有しない有機溶剤（Ａ）と水との存在下で、エチレン性不飽和単量体を乳化重合して得られるアクリル系樹脂エマルジョンを含有することを特徴とするポリマーセメント組成物。 （もっと読む）

【課題】
表面硬度が高いハードコート層を形成できるハードコート剤の成分と有用な重合性ジアセチレン化合物、及びハードコート剤として有用な紫外線硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
式（Ｉ）
【化１】


〔式中、Ｙ_１〜Ｙ_６は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−等を表し、Ｇ_１及びＧ_２は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の脂肪族基等を表し、Ｚ_１及びＺ_２は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基を表し、Ａ_１及びＡ_２は、炭素数６〜２０の２価の芳香族基を表す。〕
で示される重合性ジアセチレン化合物、及び、この化合物を含有する紫外線硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）