【課題】本発明は、特定のＣＳＭの添加時期を制限することで、圧縮永久歪み、耐熱性、応力緩和などの物性が優れる含フッ素エラストマーの製造方法を提供する。さらに、この方法によって製造した含フッ素エラストマーおよび成形品を提供する。
【解決手段】該製造方法は、少なくとも１種のフルオロオレフィンを含むエチレン性不飽和化合物と、一般式（１）：
ＣＹ^１_２＝ＣＹ^２Ｒ_ｆ^１Ｘ^１ （１）
（式中、Ｙ^１、Ｙ^２はフッ素原子、水素原子または−ＣＨ_３；Ｒ_ｆ^１はエーテル結合性酸素原子を有していてもよく水素原子の一部または全部がフッ素原子で置換された直鎖状または分岐状の含フッ素アルキレン基；Ｘ^１はヨウ素原子または臭素原子）
で示される化合物とを共重合させる含フッ素エラストマーの製造方法であって、
一般式（１）で示される化合物の添加を、重合開始剤添加後に重合系内に添加する前記エチレン性不飽和化合物の全添加量の０〜１０重量％を添加した時期に開始することを特徴とする含フッ素エラストマーの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】ゴム組成物のヒステリシスロスを大幅に低下させると共に、耐摩耗性を大幅に向上させることが可能な変性剤、変性共役ジエン系重合体及びその製造方法、ゴム組成物、及び空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】下記一般式（I）：


［式中、Ａ１〜Ａ５、Ｂ１〜Ｂ５は、互いに同一であっても異なっていてもよく、水素原子、ヒドロカルビル基、保護された第１級もしくは第２級のアミノ基、第３級アミノ基、アルコキシ基、アセタール基、保護されたカルボキシル基、保護されたチオール基、一般式−Ｓｉ（Ｒ１）_ｎ（ＮＲ２）_３−ｎで表される基。］の化合物からなる変性剤。 （もっと読む）

【課題】金及び銀に対して接着性に優れる樹脂ペースト組成物及び半導体装置を提供する。
【解決手段】（Ａ１）１分子中に、２個のアクリロイルオキシ基と、炭素数５〜２０の脂環式構造又は炭素数４〜２０の脂肪族構造とを有するアクリロイルオキシ基含有化合物、（Ａ２）１分子中に、２個のメタクリロイルオキシ基と、炭素数５〜２０の脂環式構造又は炭素数４〜２０の脂肪族構造とを有するメタクリロイルオキシ基含有化合物、（Ｂ）重合開始剤、及び（Ｃ）充填材を含有する樹脂ペースト組成物。支持部材、支持部材の表面に設置された半導体素子、支持部材の表面と半導体素子との間に介在して支持部材と半導体素子とを固定する上記樹脂ペースト組成物の硬化物、及び支持部材の一部と半導体素子とを封止する封止材を有する半導体装置。 （もっと読む）

【課題】高耐熱性、高屈折率を有する活性エネルギー線硬化物を与えるウレタン（メタ）アクリレート化合物の提供。
【解決手段】下記一般式（１）


のアルコール化合物と２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート、１，１−ビス（アクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネートから選ばれる化合物を反応させて得られる化合物。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れたネガ型現像用レジスト組成物、及び該ネガ型現像用レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により有機溶剤に対する溶解性が減少する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、及び前記レジスト膜を、前記有機溶剤を含有する現像液を用いたネガ型現像によりパターニングしてレジストパターンを形成する工程、を含むレジストパターン形成方法に用いられるレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、ｌｏｇＰ値が２．７以下であり、且つ、ｐＫａが−３．５以上である酸を発生する酸発生剤（Ｂ１）を含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】手にしたときの質感が柔らかく且つ機械的強度が高いカメラ用外装ゴム部品のゴム材料を提供する。
【解決手段】結合アクリロニトリル含量１５重量％〜５０重量％且つヨウ素価４〜ヨウ素価５０である水素化ニトリルゴムを含むゴム成分１００重量部と、ゴム成分１００重量部に対して硫黄化合物０．５重量部〜１０重量部と、を含む光学機器用ゴム材料であって、硫黄加硫することにより、１００％引張り応力（Ｍ１００（ＭＰａ））と引張り強さ（ＴＢ（ＭＰａ））との比（ＴＢ／Ｍ１００）が７以上であるカメラ用外装ゴム部材が得られる。 （もっと読む）

【課題】低発熱性の向上したタイヤを与えるゴム組成物、及び該ゴム組成物を部材に用いてなるタイヤ、特に空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】（Ａ）（ａ−１）共役ジエン系重合体の重合活性末端に、充填材表面濃縮能力のある官能基と酸性官能基とをそれぞれ１つ以上有する変性基が結合してなる変性共役ジエン系重合体１０〜１００質量％と、（ａ−２）天然ゴム及び／又はジエン系合成ゴム９０〜０質量％とからなるゴム成分と、その１００質量部に対して、（Ｂ）無機充填材５〜２００質量部を含み、かつ（Ｃ）該無機充填材と結合可能な原子又は官能基と、チオエステル基及び／又はジチオエステル基と、を有するシランカップリング剤を（Ｂ）該無機充填材に対して１〜２５質量％の割合で含むことを特徴とするゴム組成物、及び該ゴム組成物を部材に用いてなるタイヤである。 （もっと読む）

【課題】省燃費性に優れる重合体組成物を得ることができる共役ジエン系重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】下記化合物（Ｉ）及び（ＩＩ）を重合開始剤成分として用いて、共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させる共役ジエン系重合体の製造方法。
（Ｉ）有機アルカリ金属化合物
（ＩＩ）下記式（１）で表される化合物


（式中、Ｒ¹¹及びＲ¹²は置換基を有してもよい炭素原子数１〜２０のヒドロカルビル基を表す。） （もっと読む）

【課題】低粘度で硬化性に優れ、各種プラスチックフィルム等、特に親水性プラスチックフィルム等に対する接着力に優れ、厳しい耐久性が要求される用途においても十分な性能を有し、具体的には、高温及び高湿条件下においても高い接着力を維持することができるプラスチックフィルム等用の活性エネルギー線硬化型接着剤組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）ウレタン（メタ）アクリレート、（Ｂ）カルボキシル基及びエチレン性不飽和基を有する化合物、（Ｃ）リン酸基及びエチレン性不飽和基を有する化合物、（Ｄ）脂肪族基又は脂環式骨格及びエチレン性不飽和基を有する化合物及び（Ｅ）光ラジカル重合開始剤を含むプラスチック製フィルム又はシート用活性エネルギー線硬化型接着剤組成物。 （もっと読む）

【課題】光によって速硬化可能で、かつ光の当らない部分についても未硬化にならない硬化性組成物であり、更に基材との接着耐久性の改善されたＦＰＤ貼り合わせ用ＵＶ／湿分デュアルキュアー系硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリロイル基および水酸基を有し、数平均分子量が３０００以下であるオリゴマー及び／又はモノマー（Ａ）、１分子中に加水分解性シリル基を平均して少なくとも一個有する化合物（Ｂ）、（Ａ）以外の１分子中に重合性の炭素−炭素二重結合を平均して少なくとも一個有する化合物（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）、硬化触媒（Ｅ）、を含有することを特徴とするＦＰＤ貼り合わせ用光／湿分デュアルキュアー系硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】クロム触媒を用いて製造されてなる、成形性、耐衝撃性に優れ、且つ剛性と耐久性とのバランスに優れるポリエチレン、その製法およびそれからなる中空プラスチック成形品の提供。
【解決手段】クロム触媒（特に有機アルミニウム化合物担持クロム触媒）によって重合され、かつ炭素数４以上の短鎖分岐の分子量依存性を示す分岐度分布曲線の最大値における重量平均分子量（Ｍｗ）が、３０，０００以上であるポリエチレン等により達成。 （もっと読む）

【課題】強度の低下を抑えながら、シリカやカーボンブラック等の充填剤の分散性を向上させる。
【解決手段】共役ジエンユニットにおけるビニル結合量が２０質量％以上である共役ジエン系ゴムポリマーに、分子内にオレフィン結合とアミノ基を有する化合物と、メタセシス触媒を加え、前記メタセシス触媒により前記化合物を前記共役ジエン系ゴムポリマーに反応させることによって、変性ジエン系ゴムポリマーを得る。また、得られた変性ジエン系ゴムポリマーに、充填剤としてシリカ及び／又はカーボンブラックを配合し、混合することでゴム組成物を調製する。 （もっと読む）

【課題】強度の低下を抑えながら、充填剤の分散性を向上させる。
【解決手段】共役ジエンユニットにおけるビニル結合量が２０質量％以上である共役ジエン系ゴムポリマーに、メタセシス触媒を加えて反応させた後、得られた反応物に対し、分子内にオレフィン結合を有するとともにカルボキシル基、アルコキシル基、水酸基、エポキシ基及びアミノ基からなる群から選択された少なくとも１種の官能基を有する化合物を、メタセシス触媒により反応させることによって、変性ジエン系ゴムポリマーを得る。また、得られた変性ジエン系ゴムポリマーに、シリカやカーボンブラック等の充填剤を配合し、混合することでゴム組成物を調製する。 （もっと読む）

【課題】高い耐熱性を有する硬化物を与える耐収縮性の硬化性組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される２，２’−位が２価の置換基又は原子で連結された１，１−’ビナフチル骨格に、重合性の置換基が導入された重合性化合物と、当該重合性の置換基を重合反応させることのできる重合開始剤と、を含む耐硬化収縮性の硬化性組成物を使用する。


上記一般式（Ｉ）中、（Ｒ）ｍ又は（Ｒ）ｎは、それぞれｍ個又はｎ個の同一又は異なる置換基を意味し、当該置換基は、それらが結合するナフタレン環における置換可能な炭素原子のいずれに結合してもよく、Ｘは、二価の置換基又は原子である。 （もっと読む）

【課題】離型性に優れたインプリント用の樹脂モールド材料および樹脂レプリカモールド材料組成物の提供、該材料組成物を含んでなる樹脂モールドおよび樹脂レプリカモールド並びにそれらの製造方法の提供。
【解決手段】インプリント用のモールド樹脂もしくはレプリカモールド樹脂と、硬化性のフッ素系ポリマー（Ａ）０．１〜１０重量％とを含む、インプリント用の樹脂モールド材料もしくは樹脂レプリカモールド材料組成物。好ましくは、フッ素系ポリマー（Ａ）が、
（ａ１）炭素数４〜６のフルオロアルキル基を有するα位置換アクリレート、および
（ａ２）ホモポリマー状態でのガラス転移点または軟化点が５０℃以上を示す高軟化点モノマー ５〜１２０重量部を繰り返し単位として含んでなり重量平均分子量が３，０００〜２０，０００であるフッ素系ポリマー（Ａ１）である材料組成物。 （もっと読む）

【課題】成形品とした際に低温での衝撃強度に優れ、フローマークも発生しない射出成形用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】ポリプロピレン系樹脂（Ｉ）７０〜９０重量部に対して、１６０℃で測定した溶融張力が５０〜３００ｍＮであるエチレン−α−オレフィン共重合体（ＩＩ）５〜２５重量部、高圧ラジカル重合で製造された低密度ポリエチレン（ＩＩＩ）５〜２５重量部（ただし、（Ｉ）＋（ＩＩ）＋（ＩＩＩ）＝１００重量部）を含んでなることを特徴とする射出成形用樹脂組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、機械的強度、さらには透明性などに優れる成形品を与え得る組成物を提供する。
【解決手段】融点が２３０〜３００℃でかつ溶融加工ができない平均粒径が１００ｎｍ以下のフッ素樹脂粒子であって、ＡＳＴＭ Ｄ３３０７に準じて３２７℃、５ｋｇ荷重で測定したメルトフローレートが０．００５〜０．１ｇ／１０minであるフッ素樹脂粒子、およびこれと含フッ素エラストマーまたは溶融加工可能なフッ素樹脂とからなる組成物。 （もっと読む）

【課題】 明色性を低下させることなく、生産性、貯蔵安定性、耐熱老化性に優れたクロロスルホン化ポリオレフィンの製造方法を提供する。
【解決手段】 １，１，２−トリクロロエタンを溶剤として用いて、ポリオレフィンをラジカル発生剤存在下、塩素と亜硫酸ガス、塩素と塩化スルフリル、亜硫酸ガスと塩化スルフリル、塩化スルフリル単独、又は塩素と亜硫酸ガスと塩化スルフリルを用いて塩素化及びクロロスルホン化させ、反応時に副生した塩化水素及び／又は亜硫酸ガスを反応系外に除去する工程の際、初期の温度が９５〜１１５℃で、かつ、工程終了時の温度が５０〜１００℃であることを特徴とするクロロスルホン化ポリオレフィンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 口腔内のような湿潤条件下においても硬化性に優れた重合性組成物を提供する。
【解決手段】 （メタ）アクリレートに過酸化物質としてクメンヒドロペルオキシドを含む第一成分、（メタ）アクリレートに還元性物質としてチオ尿素誘導体及び重合促進剤としてバナジウム化合物とを含む第二成分とからなる重合性組成物とする。バナジウム化合物は、バナジウムアセチルアセトネート，バナジルアセチルアセトネート，バナジルステアレート，バナジウムナフテネート，バナジウムベンゾイルアセトネートから選ばれる１種または２種以上であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、基材上に形成された高さを有する第１部材上に、塗布法により第２部材を形成する際に、上記第２部材の厚みを容易に制御することが可能な液晶表示装置部材形成用レジスト組成物の製造方法、およびこれを用いた液晶表示装置用基板の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】基材と、上記基材上にパターン状に形成された第１部材と、上記第１部材上に少なくとも一部が形成されている第２部材とを有する液晶表示装置用基板を製造する際に用いられ、少なくともポリマー成分および多官能モノマー成分を含有する液晶表示装置部材形成用レジスト組成物の製造方法であって、上記第２部材の積層効率を最適化するために、上記液晶表示装置部材形成用レジスト組成物に用いられる上記ポリマー成分の分子量を調整して、上記液晶表示装置部材形成用レジスト組成物の処方を調整することを特徴とする液晶表示装置部材形成用レジスト組成物の製造方法を提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）