【課題】安定した押出成形性を維持しつつ、残留モノマー除去速度が速くなる空隙構造を有する粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】塩化ビニリデンモノマー８５〜９７重量％とアクリル酸メチルモノマー３〜１５重量％の混合モノマー、又は混合モノマーが連続相を維持できる範囲の量の水を含む混合モノマーに、攪拌下で懸濁剤水溶液を加え、混合モノマーが連続相で水が不連続相である分散状態を経由して、混合モノマーが不連続相で水が連続相である分散体を得る工程と、前記分散体を、ラジカル開始剤の存在下で、重合温度ｙ（℃）に加熱して重合させる工程と、を含み、前記重合温度ｙ（℃）と、前記ラジカル開始剤のベンゼン中、０．１ｍｏｌ／ｌにおける１０ｈｒ半減期温度ｘ（℃）とが、以下を満たすことを特徴とする、塩化ビニリデン系共重合体の製造方法を提供する。
（１）５０≦ｙ≦７４であり、かつ
（２）０．４４３８×ｘ＋４０≦ｙ≦０．４４３８×ｘ＋５０。 （もっと読む）

【解決手段】酸によってアルカリ溶解性が向上あるいは低下するベース樹脂となる高分子化合物と、高分子添加剤として一般式（１）の（ａ）、（ｂ）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物とを含むレジスト材料。


【効果】レジスト材料を用いて形成したレジスト膜は、水に対する良好なバリアー性能を有するため、レジスト膜の水への溶出を抑制でき、このため溶出物によるパターン形状変化を低減できる。 （もっと読む）

【課題】耐加水分解性、熱または活性エネルギー線による硬化性および硬化物の耐水性に優れ、更に、その溶液がインクジェット印刷に要求される低粘度をみたす重合性化合物および硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】一般式（１）または（２）に示される化合物と糖とのアセタール化反応によって得られる重合性化合物、かかる重合性化合物を含有することを特徴とする硬化性組成物およびインクジェット記録用である水系硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、ＰＥＢ温度依存性が小さく、パターン倒れも少なく、良好なプロファイルを示し、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）疎水樹脂（Ｃ）が重合開始剤とチオール化合物誘導体とを使用して重合することにより得られる疎水性樹脂、および、（Ｄ）溶剤、を含有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】光学フィルム用途として十分な紫外部の吸収特性を有し、加熱加工時に着色が少なく、更にセルロースエステル系樹脂との混錬性に優れた紫外線吸収性光学フィルムを提供する。
【解決手段】分子内に含窒素部分構造を持つエチレン性不飽和モノマーからの特定の紫外線吸収性ポリマーと窒素を含有する特定の紫外線吸収剤を含有する光学フィルム。紫外線吸収剤は塩化メチレン溶媒中で２９０〜４００ｎｍの波長領域の分光吸収を測定した時に、前記の紫外線吸収性ポリマーよりも最大吸収波長が５ｎｍ以上短い紫外線吸収剤。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に関するものであり、露光ラチチュード、パターン倒れが良好である、ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、低誘電率、かつ機械強度に優れた樹脂膜を形成し得る樹脂組成物を提供すること。また、本発明の別の目的は、低誘電率、かつ耐熱性および機械特性に優れた樹脂膜およびその樹脂膜を有する半導体装置を提供すること。
【解決手段】 本発明の樹脂組成物は、樹脂膜を形成するために用いる樹脂組成物であって、前記樹脂組成物は、カゴ型構造を有する化合物を含み、前記カゴ型構造を有する化合物は、該カゴ型構造を有する化合物を製膜して陽電子消滅寿命測定法で測定して得られる空孔サイズに対応した陽電子消滅寿命の第１ピークトップが、１０ｎｓ以上の領域にあることを特徴とする。また、本発明の樹脂膜は、上記に記載の樹脂組成物の硬化物で構成されていることを特徴とする。また、本発明の半導体装置は、上記に記載の樹脂膜を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、現像欠陥が少なく、対膜減り性能を持ち、ラインエッジラフネス性能にも優れ、スカムの発生が抑制された、また、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ素原子及び珪素原子のを有さない分子量分散度が１．３以下、かつ重量平均分子量が１.０×１０^４以下である樹脂、および（Ｄ）溶剤を含有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 残存単量体が低減された、水に可溶な架橋タイプの増粘用カルボン酸基含有重合体粉末を容易に取得することができる製造方法を提供する。
【解決手段】 炭素数３〜５個を有するオレフィン系不飽和カルボン酸を主たる成分とする単量体を、単量体は溶解するが、重合体は溶解しない溶剤中で、ラジカル開始剤を用いて重合し、析出したスラリー状重合体を分離・加熱により溶剤を揮散させるとともに、溶剤の揮散完了後も、得た粉末状重合体の加熱を継続して製造する。 （もっと読む）

水との共沸混合物を有する極性非プロトン性有機溶媒（ＰＡＯＳ）、およびＰＡＯＳと混和性で、水と非混和性であり、かつ相分離剤（ＰＳＡ）として作用し、その沸点が水／ＰＡＯＳ共沸混合物の沸点未満である非極性有機化合物を含むポリマーの溶液中に、水蒸気および場合によって液体の水を注入することによってポリマーを回収する方法であり、注入される水蒸気の量が、ストリッピングによるＰＳＡの実質的な除去および共沸蒸留によるＰＡＯＳの実質的な除去をもたらすのに十分であり、水の総量がポリマーの沈殿を生じさせるのに十分である方法であって、ポリマー溶液が、少なくともポリマーの沈殿の間にアルコールも含むことを特徴とする、方法。 （もっと読む）

硬化部位を備えた少なくとも１種のフルオロポリマーを有するヨウ素含有非晶質フルオロポリマー（フルオロポリマーはＡＳＴＭ Ｄ１６４６に従って１００℃で２以下（ＭＬ １＋１０）のムーニー粘度、及び１０ｄＮ／ｃｍ以下のロールミルに対する剥離強度を有する）、並びにかかるヨウ素含有非晶質フルオロポリマーの製造方法が記載されている。かかるヨウ素含有非晶質フルオロポリマーの硬化生成物に由来する物品もまた記載されている。かかるヨウ素含有非晶質フルオロポリマーに由来する溶液、分散体及びコーティング材もまた記載されている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、電気特性、耐熱性、耐クラック性の各特性に優れた被覆材を被覆させた被覆電線を提供する。
【解決手段】本発明は、テトラフルオロエチレン〔ＴＦＥ〕に由来するＴＦＥ単位とパーフルオロ（アルキルビニルエーテル）〔ＰＡＶＥ〕に由来するＰＡＶＥ単位とを有し、上記ＰＡＶＥ単位が全単量体単位の５質量％を超え、２０質量％以下であり、不安定末端基が炭素数１×１０⁶個あたり１０個未満であり、融点が２６０℃以上であるＴＦＥ系共重合体を芯線に被覆してなることを特徴とする被覆電線である。 （もっと読む）

本発明は、１以上のポリビニルアルコールと１以上のアルデヒドとを酸触媒反応させることによってポリビニルアセタールを製造するための方法において、ポリビニルアルコールの後添加のために、生じる廃水が低減されたアルデヒド含分を有することを特徴とする方法に関する。 （もっと読む）

【課題】次世代の微細加工用のホトレジスト組成物に用いることのできる高い透明性を有する高分子化合物を提供する。
【解決手段】耐エッチング性を確保するために側鎖部分に脂環式基を持たせるとともに、この脂環式基の環上の水素原子を高度にフッ素化することによって、波長１５７ｎｍの光に対して吸収係数３．０μｍ^−１以下の透明性を確保する。脂環式基として、好ましくは多環式とし、フッ素による高度な置換は、望ましくは環上の水素原子のすべての置換、すなわちパーフルオロ脂環式基とする。この高分子化合物をベースポリマーとしてレジスト組成物を構成し、さらには該高分子化合物から溶解制御剤を構成する。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、耐溶剤性が必要な用途にも使用可能な、表面に窪みを有するビニル系架橋樹脂粒子を、煩雑な工程を必要とせず製造する方法を提供する。
【解決手段】（ａ）水性媒体中に、可塑剤を含むビニル系単量体Ａの液滴を分散させて水性分散液を調製する水性分散液調製工程、及び（ｂ）上記水性分散液中のビニル系単量体Ａを重合させる重合工程を含む、粒子表面に窪みを有する平均粒径１〜２００μｍのビニル系架橋樹脂粒子の製造方法であって、前記（ｂ）工程において、ビニル系単量体Ａの重合転化率が、３０％以上５０％未満、あるいは８０％を超え９５％以下の状態で、溶解度パラメーターが１３．０〜１５．０（ＭＰａ）^1/2の炭化水素化合物を重合反応系に添加することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来の製造方法の種々の制約を排除し、しかも品質上劣らない、１〜１５μｍの粒子直径を有するポリ（メタ）アクリレート粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】モノマーＭをバッチ重合法に基づき、鉱油５５〜１００重量％からなる液状媒体ＬＭ中のモノマーＭ２０〜５０重量部で、かつポリマー乳化剤Ｅ０．１〜５重量部およびラジカル開始剤０．０５〜５重量を添加して重合させる。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、レジストとの親和性を有する溶媒の含有量が少なく、塗布時のレジストへの相互作用を起こさず、レジストの良好なパターンプロファイルを得ることを可能とする保護膜を形成できる保護膜形成用重合体の製造方法を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、
（１）単量体、開始剤、重合溶媒を混合した溶液を過熱して重合する工程、
（２）重合溶液を重合体の貧溶媒と接触させて、重合体を析出させる工程、
（３）析出した重合体を遠心濾過・減圧濾過・加圧濾過等の方法で固液分離する工程、
（４）得られた固体状の重合体をリンスする工程、
（５）得られた固体状の重合体を塗膜形成溶媒に溶解後、濃縮する工程、
前記工程を含むレジスト保護膜用重合体溶液の製造方法において、固体状の重合体をリンスする溶媒が重合体に対して貧溶媒であり、塗膜形成溶媒よりも沸点が低いことを特徴とするレジスト保護膜用重合体溶液の製造方法を提供する。 （もっと読む）

本発明は、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリラートを含むモノマー混合物をフリーラジカルエマルジョン重合させることによる水性ポリマーディスパージョンの調製方法、そのような方法により得ることができるポリマーディスパージョン、及びその使用に関する。 （もっと読む）

【課題】埋め込み性に優れており、且つ昇華物量が少なく、反射防止機能及びエッチング耐性に優れるレジスト下層膜を形成できるレジスト下層膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】本レジスト下層膜形成用組成物は、下記一般式（１）〜（３）で表される各繰り返し単位を有する重合体と溶剤とを含有する。
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【課題】構造が均一で大きい連続マクロボイド構造を有し、水や気体等の流体を透過させた際の圧力損失が低い、吸着剤やイオン交換体として有用な新規構造のモノリス状有機多孔質体、その製造方法、モノリス状有機多孔質イオン交換体及びケミカルフィルターを提供すること。
【解決手段】互いに繋がっているマクロボイドとマクロボイドの該繋がり部分が半径０．１〜２５ｍｍの開口となる連続マクロボイド構造の有機多孔質体であって、該有機多孔質体の骨格部が、互いに繋がっているマクロポアとマクロポアの該繋がり部分が半径０．０１〜１００μｍの開口となる連続マクロポア構造であり、前記マクロボイドの平均半径が、前記マクロポアの平均半径の２倍以上であるモノリス状有機多孔質体。 （もっと読む）