【課題】表面改質剤として用いる場合に、ｐＨの制限を抑制することが可能なホスホリルコリン類似基を有するポリシロキサン及び該ポリシロキサンの製造方法、ならびに該ポリシロキサンを含有する表面改質剤及び該表面改質剤を用いる表面改質方法を提供する。
【解決手段】ポリシロキサンは、一般式


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、炭素数が１以上６以下のアルキル基であり、ｍは、２以上６以下の整数である。）で表される官能基、エステル結合又はアミド結合、スペーサー及びケイ素原子が順次結合されている構成単位を有する。 （もっと読む）

本発明は、（ａ）３と１５との間の初期の水／単量体モル比で水を、１．６と４．０との間のｐＨ値の少なくとも１つの水溶性溶媒を含有する有機水性溶媒と水との溶液を、５０℃と７０℃との間の温度まで１８０分間から３５０分間の期間、加熱することによって、該溶液中において［（エポキシシクロアルキル）アルキル］トリアルコキシシランを加水分解および縮合反応させて、全てのまたはほぼ全てのアルコキシシラン基が加水分解された、平均して少なくとも４個の（エポキシシクロアルキル）アルキル基を有する有機・無機のハイブリッドのプレポリマーの溶液を得るステップと、（ｂ）こうして得られたポリエポキシドプレポリマーの組成物を１５℃と２５℃との間の温度にまで冷却するステップと、（ｃ）この組成物に、少なくとも１つのカチオン重合光開始剤、３００ｎｍと４２０ｎｍとの間の波長で最大吸収を示す少なくとも１つの光増感剤、および必要に応じて界面活性剤を添加するステップと、（ｄ）こうして得られた組成物を、１０分間から１２０分間の期間、１５℃と２５℃との間の温度で攪拌するステップと、（ｅ）こうして得られた組成物を、平均サイズが１μｍと５μｍとの間の孔を有するフィルタに通してフィルタリングするステップと、（ｆ）こうして得られた濾液を、０℃未満、好ましくは−２０℃と−１０℃との間の温度で保存するステップとを備えた方法によって得られる光架橋結合可能な組成物に関する。本発明は、フォトリソグラフィーのプロセスにおける、このような光架橋結合可能な組成物のネガティブな感光性樹脂としての使用にも関する。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、透明性、低誘電率特性、耐溶剤性に優れ、ＴＦＴ基板用層間絶縁膜として好適である新規なポリオルガノシロキサン化合物、これを含む感光性樹脂組成物および熱硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法を提供する。
【解決手段】式（１）のポリオルガノシロキサンに含まれるケイ素原子結合水酸基の一部の水素原子が式（２）の酸不安定基で置換及び／又は式（３）の架橋基で架橋され、Ｍｗが３００〜２００，０００のポリオルガノシロキサン化合物。式（１）Ｒ^１_ａＳｉ（ＯＲ^２）_ｂ（ＯＨ）_ｃＯ_{（４−ａ−ｂ−ｃ）／２}。


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【課題】ポリウレタン、ポリイミド、ポリアミドの改質に有用な、末端にアミノ基を有するジオルガノポリシロキサン化合物及びその容易な製造方法を提供する。更には、従来のアミノ変性シリコーンよりも極性物質に対する相溶性の優れたアミノ変性ジオルガノポリシロキサン化合物、及びこのアミノ変性ジオルガノポリシロキサン化合物より誘導できる安価でより汎用的な、かつ高機能を有するラジカル重合性のジオルガノシロキサン化合物を提供する。
【解決手段】エポキシ基を有するジオルガノポリシロキサン化合物とアンモニア、またはアミノ基を２個以上有する化合物から選ばれる少なくとも１種とを反応させて、末端にアミノ基を有するジオルガノポリシロキサン化合物を得る。 （もっと読む）

本発明は、ポリシロキサンおよびポリアルキレンオキシドの単位を含有し、ビス−アミノ官能性基によって結合される新規の非加水分解性の直鎖ランダムブロックコポリマーを記述する。これらのコポリマーは、繊維エンハンサーとしてならびにヘアケアおよびスキンケア製品のためのコンディション剤としての適応に成功している。
なし （もっと読む）

【課題】透明性、耐光性、耐熱性等を維持しつつ、高い屈折率を併せ持つシルセスキオキサン誘導体、その製造方法を提供する。
【解決手段】Ｘ０−Ａ−Ｙ０−
（Ａはチオウレタン結合を、Ｘ０は環状エーテル基又は不飽和二重結合を含有する炭化水素又はチオウレタン結合及び／若しくはシルセスキオキサン構造を含有してもよい炭化水素基を、Ｙ０は直接結合又は炭化水素基を表す。）で表されるチオウレタン結合含有基、及び、
（Ｒ０ＳｉＯ３／２）ｎ
（Ｒ０は環状エーテル基又は不飽和二重結合を含有する炭化水素基、上記Ｙ０との直接結合又は環状エーテル基も不飽和二重結合も含有しない炭化水素基を表し、少なくとも一つはＹ０との直接結合を表し、且つ、少なくとも一つは環状エーテル基又は不飽和二重結合を含有する炭化水素基を表す。）で表されるシルセスキオキサン構造残基を含有するシルセスキオキサン誘導体。 （もっと読む）

【課題】 埋め込み性に優れ、かつ凹凸の緩和にも優れ、機械強度の高い電子部品を得るための塗布型シリカ系被膜形成用組成物、シリカ系被膜の形成方法及びシリカ系被膜を有する電子部品を提供する。
【解決手段】 （ａ）ＳｉＸ_４（Ｘは、加水分解性基を示し、同一でも異なっていてもよい）を加水分解重縮合して得られるシロキサン樹脂、
（ｂ）熱分解又は揮発する熱分解揮発性化合物であって、ポリオキシプロピレン単位を有する化合物、
（ｃ）前記（ａ）及び（ｂ）成分を共に溶解できる溶媒
からなる塗布型シリカ系被膜形成用組成物であって、（ｂ）成分の配合割合が（ａ）成分のシロキサン樹脂重量に対して３〜１５重量％である塗布型シリカ系被膜形成用組成物、シリカ系被膜の形成方法及びシリカ系被膜を有する電子部品。 （もっと読む）

基体上に可塑性ハードコートをもたらす方法であって、ＵＶ硬化性基および熱硬化性シラン基を有する二重硬化性シランの使用を含む。加水分解される二重硬化性シランとシラノール基部分は、シリカと縮合し、基体へと塗布される液体コート剤組成物をもたらす。ＵＶ照射による第一の硬化はコート剤を可塑性ハードコートへと硬化し、コート剤を傷つけることなく基体を熱成形したりエンボス加工したりできるようにする。その後、基体は熱硬化のために加熱され、完全に硬化した、硬くて耐摩耗性のハードコートをもたらす。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜との密着性に優れ、レジストパターンの再現性を向上させるとともに、現像等に用いられるアルカリ液及びレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性を有し、レジスト材料の染み込み量が少ないレジスト下層膜を形成することができ、且つ保存安定性に優れるレジスト下層膜用組成物を提供する。
【解決手段】本レジスト下層膜用組成物は、側鎖にアルキルスルホンアミド基を含有する構成単位、およびそれぞれ他の特定構造を有する２種類の構成単位を含有するポリシロキサンと、溶剤と、を含む。 （もっと読む）

【課題】離型層とポリ乳酸フィルムとの接着性に優れるとともに、平面性に優れた生分解性離型フィルムを提供する。
【解決手段】ポリ乳酸フィルム上に、下記（Ａ）〜（Ｄ）を含有する離型性組成物から形成されてなる離型層を有する生分解性離型フィルム。
（Ａ）１分子中に珪素原子に直結したビニル基を少なくとも２個有するビニル基含有オルガノポリシロキサン
（Ｂ）１分子中に珪素原子に直結した水素原子を少なくとも２個有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン
（Ｃ）１分子中にそれぞれ珪素原子に直結した、アクリル基、メタクリル基およびエポキシ基から選ばれるいずれか１種と、水素原子と、アルキレン基を介して結合したアルコキシシリル基とをそれぞれを少なくとも１個有するオルガノポリシロキサン
（Ｄ）付加反応触媒 （もっと読む）

【課題】メソ細孔を有し且つ正孔輸送性に優れた有機シリカ多孔体を提供すること。
【解決手段】下記式（１）（＊は他の分子構造との結合部位を表す）で表される分子構造を含有することを特徴とする有機シリカメソ多孔体。
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本発明により、ナノ粒子含有新規多孔質材料、クロマトグラフィー分離への利用、この調製法、およびクロマトグラフィー材料を含む分離デバイスが記載される。詳細には、本開示は、以下の酸化物または窒化物から選択されるナノ粒子を包埋した多孔質無機／有機ハイブリッド粒子を記載する：炭化ケイ素、アルミニウム、ダイヤモンド、セリウム、カーボンブラック、カーボンナノチューブ、ジルコニウム、バリウム、セリウム、コバルト、銅、ユーロピウム、ガドリニウム、鉄、ニッケル、サマリウム、ケイ素、銀、チタン、亜鉛、ホウ素、およびこれらの混合物。
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【課題】有機チタノシリケートを含む塗料組成物であっても劣化しにくく、また、耐候性に優れた被膜を形成することができる新規の塗料組成物を提供する。
【解決手段】本発明の塗料組成物は、Ｍ−Ｏ−Ｍ（Ｍは珪素原子または金属原子をそれぞれ独立に示す）で表される結合を含む珪素および金属の酸化物からなるとともに少なくとも一部の珪素原子に結合している有機基をもち、金属原子の少なくとも一部がチタン原子である有機チタノシリケートを溶媒に溶解させてなる塗料組成物であって、さらに、ラジカル捕捉能および／または酸化防止能を有する安定剤を含むことを特徴とする。チタン原子の遷移による酸化雰囲気の形成を防止したり、ラジカルを捕捉したりする安定剤を添加することにより、被膜の劣化が防止される。そして、安定剤の添加により、被膜の劣化の防止のみならず、耐候性の向上も達成される。 （もっと読む）

【課題】コンタクトレンズ用に十分な酸素透過性、濡れ性、および低いモジュラスを示すヒドロゲルを提供する。
【解決手段】テトラアルコキシシラン化合物と、エチレン性不飽和有機シロキサンモノマーと、親水性ケイ素含有多官能性モノマーとを持つ第１の混合物の加水分解-縮合によって製造された三次元ネットワーク構造のポリシロキサンベースのプレポリマー。ヒドロゲルは、先述のポリシロキサンベースのプレポリマーと、アクリル化ケイ素含有モノマーと、エチレン性不飽和親水性モノマーとを持つ第２の混合物を重合させることによって調製される。 （もっと読む）

成形物品を製造する方法であって、１）ａ）１つの非加水分解性有機基を有する少なくとも１つのシランと、ｂ）ｂ１）２つの非加水分解性有機基を有するシラン及びｂ２）加水分解性ポリシロキサンから選択される少なくとも１つの化合物、又はそれらの混合物と、ｃ）必要に応じて、非加水分解性有機基を有しない少なくとも１つのシランとを加水分解して加水分解物又は縮合体を含む複合体組成物を調製すること、２）成形型に複合体組成物を入れること、３）複合体組成物を硬化させて縮合度を上げること、４）成形型から成形物品を取り出すこと、及び５）少なくとも１００℃の温度で成形物品を熱処理することを含む、成形物品を製造する方法を開示する。成形物品は好ましくは自動車のヘッドライトに用いられ得る光学レンズである。 （もっと読む）

【課題】無機部分の割合が大きく、製造時の安定性および保存安定性が良好であり、オキセタニル基を有する、縮合されたケイ素化合物を含有するカチオン硬化性組成物を提供する。
【解決手段】オキセタニル基を有する特定のケイ素化合物（Ａ）と１個のケイ素原子および４個のシロキサン結合生成基を有するケイ素化合物（Ｂ）とを、ケイ素化合物（Ａ）１モルに対してケイ素化合物（Ｂ）０．３〜２．８モルの割合で、アルカリ性条件において加水分解・縮合反応させて得られるケイ素化合物（Ｃ）、およびカチオン重合開始剤を含有するカチオン硬化性組成物。 （もっと読む）

少なくとも１つのハロジシラン、及び任意に少なくとも１つのハロシランを、有機溶媒の存在下で、少なくとも１つのアルコールと反応させて、アルコール分解生成物を産生すること、アルコール分解生成物を水と反応させて、加水分解物を産生すること、並びに加水分解物を加熱して、樹脂を産生することを含む、シリコーン樹脂を製造する方法。 （もっと読む）

次の単位:(Ph(CH₂)_rSiO_(3-x)/2(OR')_x)_m、(HSiO_(3-x)/2(OR')_x)_n、(MeSiO_(3-x)/2(OR')_x)_o、(RSiO_(3-x)/2(OR')_x)_p、(R¹SiO_(3-x)/2(OR')_x)_qからなるシルセスキオキサン樹脂[式中、Phはフェニル基であり、Meはメチル基であり;R'は、水素原子、または1から4個の炭素原子を有する炭化水素基であり;Rは、アリールスルホン酸エステル基から選択され;R¹は、置換フェニル基、エステル基、ポリエーテル基、メルカプト基、および反応性または硬化性の有機官能基から選択され;rは、0、1、2、3、または4の値を有し;xは、0、1、または2の値を有し;樹脂において、mは0から0.95の値を有し;nは0.05から0.95の値を有し;oは0.05から0.95の値を有し;pは0.05から0.5の値を有し;qは0から0.5の値を有し;m+n+o+p+q=1である]。 （もっと読む）

本発明は、低収縮多官能基化シルセスキオキサン（ＳＳＱ）誘導体、これらのＳＳＱを含むナノコンポジット材料、及び生体適合材料における重合性樹脂としての該ナノコンポジット材料の使用に関する。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、その構造中に占める無機部分の割合が高く、製造後、ゲル化することなく安定であり、組成物とした場合に保存安定性に優れた、オキセタニル基を有する有機ケイ素化合物およびその製造方法を提供することである。
【解決手段】
本発明によれば、アルカリ性条件下、下記一般式（１）で表されるケイ素化合物Ａと、４個のシロキサン結合生成基を有するケイ素化合物Ｂとを、ケイ素化合物Ａの１モルに対してケイ素化合物Ｂを０．３〜２．８モルの割合で加水分解・縮合する工程を備える方法により、オキセタニル基を有する有機ケイ素化合物を得ることができる。
【化１】


［式中、Ｒ⁰はオキセタニル基を有する有機基であり、Ｒ¹は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基、炭素数６〜１０のアリール基またはオキセタニル基を有する有機基であり、Ｘは加水分解性基であり、ｎは０または１である。 （もっと読む）