【課題】 本発明が解決しようとする課題は、基材表面保護、耐汚染性、耐候性に優れ、かつ紫外光領域の遮蔽性に優れた塗膜を形成可能な水性硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 中和された酸基を有する重合体セグメント（Ａ）と、ポリシロキサンセグメント（Ｂ）とが化学結合してなる複合樹脂（ＡＢ）のポリシロキサンセグメント（Ｂ）と、アルキルトリアルコキシシランの縮合物（ｃ）由来のポリシロキサンセグメント（Ｃ）とが珪素−酸素結合を介して結合している複合樹脂（ＡＢＣ）が水性媒体中に分散した水性硬化性塗料組成物であって、且つ、前記紫外線吸収剤（Ｄ）が前記複合樹脂（ＡＢＣ）中に内包されてなる樹脂粒子が水性媒体中に分散されていることを特徴とする水性硬化性樹脂組成物、該水性硬化性塗料組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィにより微細なパターン形成でき、２００℃を超える熱処理を行なわずに絶縁膜が形成でき、有機薄膜トランジスタのゲート絶縁膜として使用した場合にキャリヤーがトラップされて電荷移動度が低下するという問題のない感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）〜（４）で表わされるユニットを有するポリシロキサン化合物及び光ラジカル発生剤を含有する感光性樹脂組成物。
（もっと読む）

【課題】流動性、耐衝撃性、耐熱性及び耐熱エージング性に優れている樹脂組成物、及び成形品を提供する。
【解決手段】（ａ）メルトフローレート（２３０℃、荷重２．１６Ｋｇ）が０．１〜１５ｇ／１０分のポリプロピレン系樹脂：２０〜９９質量部、
（ｂ）ポリフェニレンエーテル系樹脂：８０〜１質量部、
を含有し、
（ａ）成分と、（ｂ）成分との合計１００質量部に対して、
（ｃ）ビニル芳香族化合物を主体とする少なくとも１個の重合体ブロックＡと、共役ジエン化合物の１，２−ビニル結合量と３，４−ビニル結合量との合計量が４５〜９０％である共役ジエン化合物を主体とする少なくとも１個の重合体ブロックＢとを有するブロック共重合体を水素添加してなる水添ブロック共重合体：１〜３０質量部、
（ｄ）籠型シルセスキオキサン及び／又は籠型シルセスキオキサンの部分開裂構造体：０．１〜１０質量部、
を含有する樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】基板表面上のナノメートルレベルの開口幅を有し、アスペクト比が大きいトレンチ（溝）への埋め込み性に優れ、ボイドなどの欠陥の発生が抑制され、電気的絶縁性に優れたアイソレーション構造を製造するのに好適なトレンチ埋め込み用組成物、および該組成物を用いたトレンチ・アイソレーション構造の製造方法の提供。
【解決手段】アルキルトリアルコキシシランを５０モル％以上含むアルコキシシラン原料を加水分解、縮合して得られる加水分解縮合物を含有し、該加水分解縮合物の重量平均分子量が１０００〜５００００であり、該加水分解縮合物の含有量が組成物全量に対して１４質量％超３０質量％以下であるトレンチ埋め込み用組成物の塗膜１４により、基板１０表面上に形成されたトレンチ１２を埋め込む。 （もっと読む）

【課題】省エネルギー型防食用金属塗膜組成物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の省エネルギー型防食用金属塗膜組成物は、５〜１０μｍの粒子サイズを有し、アルミニウム、マグネシウム及びその合金よりなる群から選択される少なくとも一つの金属粉末と、ジルコニウムテトラ−ｎ−ブタノラート、ジルコニウムブトキシド、イソプロピルチタネート、及びその混合物よりなる群から選択される第１ゾルゲル樹脂と、トリ−（３−（トリメトキシシリル）プロピル）イソシアヌレート、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、及びその混合物よりなる群から選ばれる第２ゾルゲル樹脂と、溶媒とを含んでなる。 （もっと読む）

【課題】ヨウ素およびヨウ化物イオンに対して優れた耐性を示すと共に揮発、拡散抑制効果が高く、且つ極性溶剤に対して膨潤しにくく信頼性の高い封止性能を有する、封止剤に適した樹脂組成物を提供する。
【解決手段】表面にシラノール基を有するアモルファス状のシリカ微粒子、トリアルコキシシラン、ジアルコキシシラン、式（３）の分子末端にアクリロイルオキシ基を含有するトリアルコキシシラン、式（４）のジメチロールトリシクロデカンジアクリレートおよび結晶性のシリカ粒子を含有する、樹脂組成物。


（もっと読む）

本発明は、シロキサンをアンモニアと反応させることによって、第一級アミノ基を選択的に有するシロキサンを製造するための方法、およびこのようにして製造される化合物に関する。 （もっと読む）

二級アミノアルキル基で官能化されたオルガノポリシロキサンをエポキシ基及びアミン類を含有する化合物から形成された反応生成物と反応させる工程により得ることができる、アミノ及び／又は四級アンモニウム基を有する直鎖ポリジメチルシロキサン−ポリエーテルコポリマーを有する、家庭用ケア組成物、その使用並びにその調製のためのプロセス。 （もっと読む）

【課題】 熱硬化性樹脂、特にエポキシ樹脂の優れた耐熱性や成形性を損ねることなく、高温での靭性に優れたエポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 （ａ）エポキシ樹脂、（ｂ）硬化剤及び（ｃ）分子内に式 Ｒ₂ ＳｉＯ_2/2 （式中、Ｒは同じか異なる有機基である。）で示される２官能性シロキサン単位を含有するシリコーン重合体を必須成分とする。 （もっと読む）

【課題】高い耐擦傷性を有しかつ透明性に優れる硬化塗膜を得ることができる活性エネルギー線硬化性組成物を提供する。
【解決手段】ケイ素原子に直接に結合した有機基を有し、該ケイ素原子に直接に結合した有機基のうち、一部又は全部が、少なくとも１つの（メタ）アクリロイルオキシ基と少なくとも１つのイソシアヌレート環構造との両者を有する有機基であるシルセスキオキサン化合物（Ａ）、並びにシリカ微粒子（ｂ−１）と、分子内に（メタ）アクリロイルオキシ基を有する加水分解性シラン（ｂ−２）とを反応させて得られる反応性粒子（Ｂ）を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】白色性、耐熱性、耐光性を保持し、成形加工性、寸法安定性に優れ、長期の使用による耐熱劣化やＵＶ劣化による黄変が少なく、光反射性の高い硬化物の付加硬化型シリコーン樹脂組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）下記（ａ−１）及び（ａ−２）より成るシリコーン樹脂（ａ−１）平均組成式（１）で示され、重量平均分子量（Ｍｗ）が３０，０００以上であるビニル基含有オルガノポリシロキサン１００質量部


、（ａ−２）一分子中にケイ素結合水素原子を少なくとも２個有し、上記（ａ−１）成分中のビニル基１個あたりケイ素結合水素原子を０．５〜３．０個与えるのに十分な量のオルガノハイドロジェンポリシロキサン、（Ｂ）白色顔料３〜２００質量部、（Ｃ）白色顔料以外の無機充填剤４００〜１０００質量部、（Ｄ）白金金属系触媒触媒量、（Ｅ）反応制御剤触媒量、より成り、硬化後の可視光平均反射率が８０％以上である付加硬化型シリコーン樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】樹脂への分散性に優れ、屈折率を調整した疎水性酸化ジルコニウム粒子であって、該疎水性酸化ジルコニウム粒子を利用することにより、光透過率が高く、耐熱性に優れた樹脂硬化物膜を調製することのできる樹脂組成物を提供する。
【解決手段】疎水性酸化ジルコニウム粒子は、酸化ジルコニウム粒子の表面に、トリアルキルシリル基が結合したシリカ被覆層を有し、平均粒子径が５〜３０ｎｍの範囲にあり、屈折率が１．５８〜２．０の範囲にあることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】溶剤に可溶なケイ素化合物の縮合体（以降、反応性ポリシロキサンと呼ぶ）の製造方法において、アルカリ触媒による加水分解縮合の後の中和工程で、中和に用いたときにゲル化が起き難く、安定な反応性ポリシロキサンを得ることのできる、硝酸以外の安全な酸を用いる製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも２種類のケイ素化合物をアルカリ性で共加水分解縮合した後、酸で中和する方法において、中和工程で有機酸を用いる製造方法、さらに好ましくは、５以下のｐＫａを有するカルボン酸で、中和後の中和液の液性がｐＨ値で７より小さく２以上である反応性ポリシロキサンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】貯蔵安定性、成型性、及び硬化性が良好な半導体装置用の樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記成分を含む樹脂組成物。（Ａ）特定構造の熱硬化性オルガノポリシロキサン（Ｃ）下記式（２）の硬化促進剤、および（Ｄ）直鎖状ジオルガノポリシロキサン。


（式中、Ｒ^２は互いに独立に水素原子、特定炭素数のアルキル基、アリール基、又はヒドロキシル基、Ｒ³は互いに独立に水素原子、又は特定のアルキル基もしくはアルコキシ基） （もっと読む）

【課題】既存の無機ガラスに比べ低温で成型可能であり、既存の有機高分子材料に比べ耐熱性が高く、成型性に優れるポリシロキサン熱可塑物を提供することを課題とする。
【解決手段】芳香族環を含まない炭化水素基、芳香族環を含む炭化水素基から選ばれる置換基を有する三官能シロキサンである成分を１種以上含み、かつ、芳香族環を含まない炭化水素基、芳香族環を含む炭化水素基から選ばれる置換基を有する二官能シロキサンである成分を１種以上含み、３００〜３５０℃の軟化温度を有することを特徴とするポリシロキサン熱可塑物とすること。 （もっと読む）

【課題】高硬度でタック性が無く、耐熱黄変性及び耐光黄変性に優れた樹脂硬化物を与える樹脂組成物及び該樹脂組成物の材料を提供する。
【解決手段】シラノール基を含有するポリシロキサン化合物（ａ）とシリカ粒子（ｂ）とが縮合されてなる構造を少なくとも有し、該ポリシロキサン化合物（ａ）が、水酸基及び加水分解性基から選ばれる１つ以上の基を有するシラン化合物又はその縮合物の重合生成物であり、該ポリシロキサン化合物（ａ）中のシラノール基含有率が１〜９０ｍｏｌ％である、シリカ粒子含有縮合反応物。 （もっと読む）

【課題】安全性の高い原料から、簡便な方法で、高い収率にてアミノ酸変性オルガノポリシロキサンを製造する方法を提供する。
【解決手段】主鎖を構成するオルガノポリシロキサンセグメントのケイ素原子の少なくとも一つに、一般式(１)で表されるアミド結合を介してアミノ酸誘導体が結合してなるアミノ酸変性オルガノポリシロキサン。


(Ｘ及びＹは炭素数１〜１０の２価の炭化水素基、ｍは０〜４の整数、Ｒ^aは水素原子、炭素数１〜４の１価の炭化水素基、又は一般式(２)から選択される基、Ｚは一般式(２)で表される有機基。)
（もっと読む）

【課題】酸による炭素−酸素結合やケイ素−酸素結合の切断が起こらず、実質的に無臭化され、経時で臭気を発生することもないため、毛髪化粧料や皮膚化粧料などの化粧料用途への使用に好適なポリオキシアルキレン変性ポリシロキサン組成物を製造する方法を提供する。該組成物を含有する化粧料原料および化粧料を提供する。
【解決手段】ヒドロシリル化反応により合成したポリオキシアルキレン変性ポリシロキサン組成物を、硫酸水素カリウム等の２５℃で固体であり、水溶性であり、かつ、５０ｇをイオン交換水１Ｌに溶解させたときの水溶液の２５℃におけるｐＨが４以下であることを特徴とする酸性無機塩の存在下で加水分解処理することにより、臭気原因物質を除去することを特徴とするポリオキシアルキレン変性ポリシロキサン組成物の製造方法および該精製品を含有する化粧料。 （もっと読む）

【課題】被加工基板上に形成されたマスクパターンとミキシングすることがなく、かつこのマスクパターンの間隙に良好に埋め込むことができ、ドライエッチング耐性及び保存安定性に優れる反転パターン形成用のポリシロキサン樹脂組成物及びこれを用いた反転パターン形成方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、（１）被加工基板上にマスクパターンを形成するマスクパターン形成工程（２）上記マスクパターンの間隙に、ポリシロキサン樹脂組成物を埋め込む埋込工程、及び（３）上記マスクパターンを除去し、反転パターンを形成する反転パターン形成工程を有する反転パターン形成方法であって、上記ポリシロキサン樹脂組成物が、特定構造を有する［Ａ］ポリシロキサン及び特定構造を有する［Ｂ］有機溶媒を含有することを特徴とする反転パターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】１μｍを超える粒子径を有する粗大粒子の生成を抑制でき、サブミクロンサイズ（１μｍ以下）の平均粒子径を有する微粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】攪拌翼を有する攪拌軸２と添加口３とを備えた反応槽１で、加水分解性基および／または縮合性基を有する金属化合物の加水分解縮合反応を行って微粒子を製造する方法であって、前記攪拌軸２は反応槽中心部に備えられ、前記添加口３は、攪拌軸２と反応槽１壁面との間に設けられ、攪拌軸２の回転方向を正として表した場合に、攪拌軸２と添加口３とを結ぶ直線Ｘに対して、添加方向を水平面に投影した線分Ｙ₁のなす角θ１が−９０°〜９０°となる範囲に、前記添加口３より反応槽１壁面に向けて前記金属化合物を噴出させて反応槽１に添加する。 （もっと読む）