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Fターム[4K029AA02]の内容

物理蒸着 (93,067) | 基体 (14,066) | 材質 (8,002) | 金属質材 (1,412)

Fターム[4K029AA02]に分類される特許

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【課題】鉄を含み表面に酸化被膜を有する金属に、従来の技術を用いるよりも密着性の高い炭素膜を形成する。
【解決手段】制御部4は、酸溶液をウェットエッチング槽111に供給させる。そして、供給された酸溶液により鉄合金が浸漬されると、制御部4は、保温部420を制御してウェットエッチング槽111の内部の温度を、予め定めた時間に亘り予め定めた温度に維持する。これにより、鉄合金が有する酸化被膜が酸溶液に溶出する。制御部4は、ウェットエッチング槽111から酸溶液を排出させ、蒸留水をウェットエッチング槽111に供給させる。これにより、ウェットエッチング槽111の内壁や鉄合金に付着した酸溶液が洗浄される。ウェットエッチング槽111の内部に置かれた前処理後の鉄合金は、取り出されて成膜チャンバー330に置かれ、イオンビームエッチングにより酸化被膜をさらに除去された後、アーク放電などにより表面に炭素膜を形成される。 (もっと読む)


【課題】基材の表面および処理を施した面の損傷を防止し、かつ、生産性も向上することができる原反ロール、この原反ロールの製造方法、および、この原反ロールを使用する基材処理方法を提供する。
【解決手段】長尺なシート状基材の被処理面を当接して積層し、巻回してなる原反ロールを用い、この原反ロールを長手方向に搬送しつつ分離して、個々の基材に処理を施すことにより、前記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】Ni基合金、Co基合金などの耐熱合金の高速切削条件下で、硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体表面に、1〜50nmの層厚の薄層Aと1〜50nmの層厚の薄層Bとが交互に積層された100〜500nmの層厚の複層領域と、100〜500nmの層厚の単一層にて構成された単層領域との交互積層構造からなる硬質被覆層を蒸着形成した表面被覆切削工具において、薄層Aは、TiN層、薄層Bは、[Al1−X−YTiSi]N(Xは原子比で0.15〜0.94、Yは原子比で0.01〜0.15)層であって、単一層は、前記薄層Aと同一種の層で構成するとともに、硬質被覆層の表面近傍に前記薄層Bと同一組成・成分で0.3〜1μmの層厚の単一層からなる中間層を設けたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】Ni基合金、Co基合金などの耐熱合金の高速切削条件下で、硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体表面に、1〜50nmの層厚の薄層Aと1〜50nmの層厚の薄層Bとが交互に積層された100〜500nmの層厚の複層領域と、100〜500nmの層厚の単一層にて構成された単層領域との交互積層構造からなる硬質被覆層を蒸着形成した表面被覆切削工具において、薄層Aは、[Al1−XTi]N(Xは原子比で0.30〜0.80)層、薄層Bは、[Al1−Y−ZTiSi]N(Yは原子比で0.15〜0.94、Zは原子比で0.01〜0.15)層であって、単一層は、前記薄層Aと同一種の層で構成するとともに、硬質被覆層の表面近傍に前記薄層Bと同一組成・成分で0.3〜1μmの層厚の単一層からなる中間層を設けたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】被削材の高硬度化などの厳しい切削加工条件において長寿命を実現できる被覆部材の提供を目的とする。
【解決手段】基材と基材の表面に被覆された被膜とからなり、被膜の少なくとも1層はPVD法により被覆された(MAD)XR(但し、MはCr,Al,Ti,Hf,V,Zr,Ta,Mo,W,Y,Nbの中から選ばれた2種以上の金属元素を表し、LはMn,Cu,Ni,Co,B,Si,Sの中から選ばれた少なくとも1種の添加元素を表し、XはC,N,Oの中から選ばれた少なくとも1種の非金属元素を表し、AはMとLの合計に対するMの原子比を表し、DはMとLの合計に対するLの原子比を表し、RはMとLの合計に対するXの原子比を表し、0.90≦A≦0.99、0.01≦D≦0.10、A+D=1、0.95≦R≦1.10を満足する。)で表される硬質膜であり、硬質膜はX線回折における最高ピーク強度を(220)面に示す被覆部材。 (もっと読む)


【課題】成膜中のパーティクルを正確に検出することができ、そのパーティクル発生量の変動に合わせた適切なプロセス管理によって、膜中に含まれるパーティクルを管理することができるアークイオンプレーティングを用いた成膜方法及びその成膜装置を提供する。
【解決手段】真空炉1本体に通じる開口部51を一端部に備え、他端部を閉塞した筒体5と、筒体5の他端部に取り付けられたパーティクル検出手段6とを備え、筒体5は、その軸芯の延長線上にターゲット表面の一部が位置するように配置され、開口部51の最小開口径Dに対する基準点60と開口部51との間の距離Lの比率が12以上30以下となるように構成されている。 (もっと読む)


【課題】Ni基合金、Co基合金などの耐熱合金の高速切削条件下で、硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体表面に、1〜50nmの層厚の薄層Aと1〜50nmの層厚の薄層Bとが交互に積層された100〜500nmの層厚の複層領域と、100〜500nmの層厚の単一層にて構成された単層領域との交互積層構造からなる硬質被覆層を蒸着形成した表面被覆切削工具において、薄層Aは、Tiの窒化物層、薄層Bは、[Ti1−XSi]N(Xは原子比で0.01〜0.30)層であって、単一層は、前記薄層Aと同一種の層で構成するとともに、硬質被覆層の表面近傍に前記薄層Bと同一組成・成分で0.3〜1μmの層厚の単一層からなる中間層を設けたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】パラジウム被覆銅ボンディングワイヤにおいて、連続伸線時のPd粉の堆積を低減してとダイヤモンドダイスの磨耗を抑制すると共に、軸上偏芯を低減し、安定した溶融ボール形成を可能とする。
【解決手段】高純度銅又は銅合金からなる芯材に純度99質量%以上のパラジウムからなる中間層及びその上層に純度99.9質量%以上であって、該中間層のパラジウムよりも硬度及び融点の低い、金、銀、銅又はこれらの合金からなる、膜厚1〜9nmの超極薄表面層を形成した、線径10〜25μmのボールボンディング用被覆銅ワイヤ。表面層によりパラジウムを被覆して潤滑性を向上して図3のパラジウム粉の堆積による伸線加工時の断線を防止し、かつ、軸上偏芯を抑制する。 (もっと読む)


【課題】高送り・乾式の深穴用ドリル加工条件においても硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性と切屑排出性を発揮する表面被覆ドリルを提供する。
【解決手段】ドリル基体の上に直接または中間層を介して、最表面に、(Ti1−xAl)N(x=0〜0.6)の成分系からなる粒径制御層が存在する表面被覆ドリルであって、前記ドリルの切屑排出溝のうち、先端からドリル基体の長さに沿って直径の5倍の長さまでの領域において、被膜断面の結晶粒形状を観察した際、粒径制御層を構成する結晶粒の平均アスペクト比が、ドリル先端から後方に向けて、1〜100の範囲で漸次減少している。 (もっと読む)


【課題】低炭素鋼、軟鋼等の軟質被削材の高速重切削加工条件下において、硬質被覆層がすぐれた密着性と潤滑性と耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】WC基超硬合金またはTiCN基サーメットで構成された工具基体の表面に、硬質被覆層として、薄層A:(AlCr)N層または(AlCrM)N層と薄層B:立方晶構造のNbNと六方晶構造のNbNの混合組織からなり、かつ、該混合組織についてX線回折による回折ピーク強度を調査したとき、立方晶構造のNbNの(200)面からの回折ピーク強度をIc、また、六方晶構造のNbNの(103)面と(110)面からの回折ピーク強度をIhとした場合、0.1≦Ih/Ic≦0.7を満足する回折ピーク強度比を有する層との交互積層構造からなる層を形成した表面被覆切削工具。 (もっと読む)


【課題】低炭素鋼、軟鋼等の軟質被削材の高速重切削加工条件下において、硬質被覆層がすぐれた密着性と潤滑性と耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】WC基超硬合金またはTiCN基サーメットで構成された工具基体の表面に、硬質被覆層として、下部層に(Al,Cr)N層または(Al,Cr,M)N層を形成し、上部層に立方晶構造のNbNと六方晶構造のNbNの混合組織からなり、かつ、該混合組織についてX線回折による回折ピーク強度を調査したとき、立方晶構造のNbNの(200)面からの回折ピーク強度をIc、また、六方晶構造のNbNの(103)面と(110)面からの回折ピーク強度をIhとした場合、0.1≦Ih/Ic≦0.7を満足する回折ピーク強度比を有する層を形成した表面被覆切削工具。 (もっと読む)


【課題】アーク式蒸発源において、磁力線を基材方向に誘導して成膜速度を速くする。
【解決手段】本発明に係るアーク式蒸発源1は、ターゲット2の外周を取り囲んでいて磁化方向がターゲット2表面と直交する方向に沿うように配置された1又は複数の外周磁石3と、ターゲット2の背面側に配置された背面磁石4とを備え、背面磁石4は、極性が外周磁石3と同方向で且つ磁化方向がターゲット2表面と直交する方向に沿うように配置されている非リング状の第1の永久磁石4Aを有し、第1の永久磁石4Aとターゲット2との間、又は、第1の永久磁石4Aの背面側に、第1の永久磁石4Aと間隔をあけて配置された非リング状の第2の永久磁石4Bを有し、第2の永久磁石4Bは、極性が外周磁石3と同方向で且つ磁化方向がターゲット2表面と直交する方向に沿うように配置されており、第1の永久磁石4Aと第2の永久磁石4Bとの間に磁性体5が配置されている。 (もっと読む)


【課題】低炭素鋼、軟鋼等の軟質被削材の高速重切削加工条件下において、硬質被覆層がすぐれた密着性と潤滑性と耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】WC基超硬合金またはTiCN基サーメットで構成された工具基体の表面に、硬質被覆層として、薄層A:(AlTi)N層または(AlTiM)N層と薄層B:立方晶構造のNbNと六方晶構造のNbNの混合組織からなり、かつ、該混合組織についてX線回折による回折ピーク強度を調査したとき、立方晶構造のNbNの(200)面からの回折ピーク強度をIc、また、六方晶構造のNbNの(103)面と(110)面からの回折ピーク強度をIhとした場合、0.1≦Ih/Ic≦0.7を満足する回折ピーク強度比を有する層との交互積層構造からなる層を形成した表面被覆切削工具。 (もっと読む)


【課題】本発明は、酸化物超電導層の下地として、拡散防止層を厚く成膜することなく元素拡散を効果的に抑制することができる技術の提供を目的とする。また、本発明は、拡散防止層を厚く成膜することなく元素拡散を効果的に抑制することができるため、基材表面の平坦性を損なうことなく、拡散防止機能を備えるバッファー層を形成することができる技術の提供を目的とする。
【解決手段】本発明の酸化物超電導導体用基材Aは、クロムを含む金属基材20と、前記クロムを含む金属基材20内表面側に形成された厚さ5〜1000nmの酸化クロム層25と、イオンビームアシスト成膜法により成膜された中間層23とをこの順に備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】無欠陥の無電解ニッケルメッキ膜の製造方法の提供。
【解決手段】スパッタ法を用いて、基材上に99.99%以上の純度および2.5μm以上の膜厚を有するアルミニウム層を形成する工程と、無電解メッキを用いて、アルミニウム層の上に無電解ニッケルメッキ膜を形成する工程とを含むことを特徴とする無電解ニッケルメッキ膜の製造方法。ここで、基材とアルミニウム層との間に99.99%以上の純度を有するチタン層を形成する工程をさらに含んでもよい。 (もっと読む)


【課題】優れた導電性及び耐食性を有する導電部材、その製造方法、並びにこれを用いた燃料電池用セパレータ及び固体高分子形燃料電池を提供する。
【解決手段】金属基材と、該金属基材上に形成された中間層と、該中間層上に形成された導電層と、を有する導電部材であって、該中間層が、該金属基材の構成成分と該導電層の構成成分と該中間層における結晶化を抑制する結晶化抑制成分とを含む。
金属基材の酸化皮膜を除去する工程(1)と、該工程(1)の後に実施され、該金属基材上に中間層を形成する工程(2)と、該工程(2)の後に実施され、該中間層上に導電層を形成する工程(3)と、を含む導電部材の製造方法であって、該工程(2)において、該金属基材の構成成分と該導電層の構成成分と当該中間層における結晶化を抑制する結晶化抑制成分とを含む中間層を形成する。 (もっと読む)


【課題】 光学素子成形用型の型母材にFCVA法によってtaC膜を成膜する工程において、開角の大きな凸形状の型の周辺の傾斜部の膜質が劣るのを防ぐ。
【解決手段】 光学素子成形用型の型母材10に、FCVA法によりtaC膜12を成膜する工程で、型母材10を浮遊電位に保ち、絶縁部材3a、3bを介して型母材10を保持する型母材保持部材2に電圧を印加する。また、型母材10に内設した磁石4によって、型母材10の転写面の法線方向に磁力を作用させる磁場を形成することで、膜質を均一化する。 (もっと読む)


【課題】硬度が高く、かつ摩擦係数が低い硬質皮膜及びその簡便な製造方法を提供すること。
【解決手段】下記式(1)
(W1−xAl)(N1−y (1)
[ただし、0.18≦x≦0.7であり、0.85≦y≦1であり、かつ、0.5≦z≦1.2である。]
で示される窒化物からなり、かつその結晶構造が立方晶のみからなる硬質皮膜とする。当該硬質皮膜は、スパッタリング法又はイオンプレーティング法により成膜することにより製造することができる。 (もっと読む)


【課題】光電変換層がセレンを含有する場合、基板裏面へのセレンの回り込み、更にはセレンの付着を抑制した成膜装置、およびこの成膜装置により成膜された光電変換層を有する太陽電池を提供する。
【解決手段】本発明の成膜装置は、成膜チャンバ内に基材を搬送する搬送手段と、成膜チャンバ内を所定の真空度にする真空排気手段と、搬送される基材に光電変換層を形成する真空成膜手段と、基板において光電変換層が形成される側の面における搬送方向と直交する幅方向の両端に、前記搬送方向に沿って設けられた、温度調節機能を備えたマスクとを有する。搬送手段により基材が搬送されて真空成膜手段により基材に前記光電変換層が形成される。 (もっと読む)


【課題】長寿命化させたせん断用金型及びその製造方法を提供することにある。
【解決手段】本発明に係るせん断用金型1は、一対の基材の間に配置される板材2を当該基材によりせん断するせん断用金型1であって、前記基材の表面のうち、少なくとも、曲面の領域と、前記板材2の表面に対向するとともに前記曲面から前記基材の面に沿って300μmまでの領域とに、アークイオンプレーティング法により形成された硬質皮膜を備え、前記硬質皮膜は、Alと、TiおよびCrのうちの1種以上と、を含有するとともに、膜厚が1μm以上、5μm以下であり、さらに、前記曲面の領域と、前記曲面から前記基材の面に沿って300μmまでの領域と、に形成された前記硬質皮膜の表面において、長さ10mmの線分上に存在する直径20μm以上の金属粒子の個数が2個以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


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