【課題】 上層の結晶粒の脱落抑制効果によって中間層と上層との密着性を向上させた硬質皮膜被覆工具、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 基体上に物理蒸着法により形成した硬質の下層、中間層及び上層を有し、上層は(Al_xCr_y)_cO_dにより表される組成を有するととにもTC(012)が1.3以上のα型結晶構造を有し、中間層は酸素濃度が下層側から上層側にかけて増加するとともに窒素濃度が下層側から上層側にかけて減少する傾斜組成を有し、その平均組成が(Al_sCr_t)_a(N_vO_w)_bにより表される硬質皮膜被覆工具。 （もっと読む）

【課題】簡便な方法で、正極活物質、正極、又は蓄電装置を得られる作製方法を提供する。
【解決手段】出発材料として、３価のＦｅと、Ｌｉと、ＰＯ_４と、を少なくとも含む組成のターゲットを用いる。３価のＦｅと、Ｌｉと、ＰＯ_４と、を少なくとも含む組成のターゲットを用い、希ガス（例えばアルゴン）等のイオンでターゲットをスパッタリングすることにより、３価のＦｅを含むリン酸鉄リチウムの薄膜を得る。得られる薄膜を正極活物質として用いる。 （もっと読む）

【課題】切刃に対して高負荷が作用する乾式断続重切削加工や乾式連続高送り切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐欠損性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】超硬合金焼結体からなる切削工具基体表面にＣｒＡｌＮ層からなる硬質被覆層を物理蒸着で形成した表面被覆切削工具において、ＣｒＡｌＮ結晶粒の粒径幅が小さい領域Ｉと、粒径幅がこれより大きい領域ＩＩとから硬質被覆層を構成し、かつ、領域Ｉの微細粒子と領域ＩＩの粗大粒子の結晶方位のずれが１５度以下となる縦区分の面積割合を６０％以上とし、乾式断続重切削加工、乾式連続高送り切削加工において、すぐれた高温強度、耐欠損性、靭性を発揮させる。 （もっと読む）

【課題】大型基板の量産工程に容易に適用でき、歩留まりが向上した薄膜蒸着装置及びこれを用いた有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】被蒸着用基板を静電チャックで固定させるローディング部と、チャンバと、チャンバの内部に配され、かつ静電チャックに固定された基板５００に薄膜を蒸着する薄膜蒸着アセンブリー１００を備える蒸着部と、静電チャックから蒸着が完了した基板を分離させるアンローディング部と、基板が固定された静電チャックをローディング部、蒸着部及びアンローディング部に順次移動させる第１循環部６１０と、を備え、第１循環部は、互いに平行に形成された２対の第１ガイドレール６１３及び第２ガイドレール６１７と、第１ガイドレールに結合する一つ以上の第１ガイドブロック６１５と、第２ガイドレールに結合する一つ以上の第２ガイドブロック６１９とを備える。 （もっと読む）

【課題】設計通りに衝撃波を制御できるように内部形状および内部表面加工された小型精密な超音速ノズル、好適にはＰＶＤ用超音速ノズルを提供すると共に、当該超音速ノズルを製造可能な切削工具を提供する。
【解決手段】特殊な加工をした超硬複数刃であって、該複数刃が回転対称に配置されている切削工具を使用し、スロート部の内部直径が０．１ｍｍ〜３．０ｍｍであり、管内部の表面粗さＲａが０．２μｍ以下である、手のひらサイズの小型で、ノズル内部の空洞部が精密に加工された超音速ノズルを提供する。 （もっと読む）

【課題】低温度の環境下で被加工材の表面に、良好かつ高品位な炭素膜を形成することを目的とする。
【解決手段】所定の真空度に減圧可能とされる真空チャンバ１内に、被加工材４を保持し、基板電圧印加手段３により所定の電圧に印加される基板２と、上記基板２に対向配置される炭素原料基板５上で、真空チャンバ１内に導入される放電発生用の媒体ガスをパルス電源７より炭素原料基板５に出力される調整電力に基づきプラズマ化し、炭素原料基板５から上記基板２に保持される被加工材４に向けて炭素原料とともに放電するプラズマ発生源を備える。これにより被加工材４の表面に放電されるプラズマにより炭素膜を加工形成する。 （もっと読む）

【課題】チタン基材表面にＡｕを含む層を強固かつ均一に形成可能で、燃料電池用セパレータに要求される密着性及び耐食性を確保できる燃料電池用セパレータ材料を提供する。
【解決手段】Ｔｉ基材２の表面にＡｕとＣｒとを含む表面層６が形成され、表面層とＴｉ基材との間に、Ｔｉ，Ｏ及びＣｒを含み，Ａｕ原子２０％未満の中間層２ａが存在し、Ａｕ濃度６５原子％以上の領域の厚みが１．５ｎｍ以上存在し、かつＡｕの最大濃度が８０原子％以上であり、Ａｕの付着量が９０００ｎｇ／ｃｍ^２以上の燃料電池用セパレータ材料である。 （もっと読む）

【課題】真空下で金属箔又は合金箔に表面処理する際、熱によるシワを抑制した冷却ドラム及びそれを備えた真空処理装置、並びに表面処理方法を提供する。
【解決手段】真空下で、連続的に巻出し及び巻き取られる金属箔又は合金箔１０に表面処理する真空処理装置１に用いられ、表面に少なくとも４０％以上の被覆率で銅酸化物層２０ａが形成され、金属箔又は合金箔に密着して冷却を行う冷却ドラム２０である。 （もっと読む）

【課題】転がり軸受の保持器の摺接面に形成されたＤＬＣ膜の耐剥離性を向上させ、ＤＬＣ膜本来の特性を発揮することで、保持器摺接面の金属接触に起因する損傷などを防止できる転がり軸受を提供する。
【解決手段】転がり軸受１は、外周に内輪軌道面２ａを有する内輪２と、内周に外輪軌道面３ａを有する外輪３と、内輪軌道面２ａと外輪軌道面３ａとの間を転動する複数の転動体４と、転動体４を一定間隔で保持する保持器５とを備え、この保持器５の転動体４との摺接面に硬質膜８が成膜されてなり、この硬質膜８は、該表面に直接成膜されるＣｒを主体とする下地層と、該層の上に成膜されるＷＣとＤＬＣとを主体とする混合層と、該混合層の上に成膜されるＤＬＣを主体とする表面層とからなる構造の膜であり、混合層は、下地層側から表面層側へ向けて連続的または段階的に、ＷＣの含有率が小さくなり、ＤＬＣの含有率が高くなる層である。 （もっと読む）

【課題】ＬａＢ_６膜の結晶性を更に改善でき、剥離も少ないスパッタ形成方法を提供する。
【解決手段】タングステン又はモリブデンと、希土類元素の酸化物を含む材料からなる基体にスパッタリングによってＬａＢ_６膜を成膜する際、アルゴンに窒素ガスを０．０１〜５体積％添加した雰囲気でＬａＢ_６ターゲットのスパッタリングを行うことにより、結晶性の優れたＬａＢ_６膜が得られる。 （もっと読む）

【課題】回路パターン形成の際のエッチング性が良好でファインピッチ化に適し、磁性が良好に抑制されたプリント配線板用銅箔及び積層体を提供する。
【解決手段】プリント配線板用銅箔は、銅箔基材と、銅箔基材の表面の少なくとも一部を被覆し、白金族金属、金、及び、銀からなる群から選択される１種以上を含む被覆層と、銅箔基材と被覆層との間に形成された酸化層とを備えた銅箔であって、ＸＰＳによる表面からの深さ方向分析から得られた深さ方向（ｘ：単位ｎｍ）の白金族金属、金、及び、銀からなる群から選択される１種以上の原子濃度（％）をf(x)とし、銅の原子濃度（％）をg(x)とし、酸素の原子濃度（％）をｈ(x)とし、炭素の原子濃度（％）をｉ(x)とし、その他の金属の原子濃度の総和をｊ(x)とすると、ｈ(x)≧５％の酸化層と銅箔基材との境界が表層から０．５〜１０ｎｍの範囲に存在し、区間［０、１．０］において、０．０１≦∫ｆ(x)dx/(∫f(x)dx + ∫g(x)dx + ∫h(x)dx + ∫i(x)dx + ∫j(x)dx) ≦０．９で、区間［１．０、４．０］において、０．０１≦∫ｆ(x)dx/(∫f(x)dx + ∫g(x)dx + ∫h(x)dx + ∫i(x)dx + ∫j(x)dx) ≦０．６を満たす。 （もっと読む）

【課題】内燃機関用中実ピストンピンにおいて、表面処理に際して、１本ずつ治具に挟んで処理で、１バッチに処理可能な本数が少なく、能率が低かった。そこで、複数個の中実ピストンピンに、同時に表面処理を施す手段を提供する。
【解決手段】ピストンピン１の中心部を中実に形成するとともに、両端面に間隔保持用治具３が係合する凹部２を形成した。間隔保持用治具３は、上下に円錐を重ねた形状、即ちそろばん玉形状、を呈している。ピストンピン１の凹部２は円柱状の穴よりなり、端部に間隔保持用治具３と係合する円錐状の面取り部が形成されている。ピストンピン１と間隔保持用治具３とを交互に表面処理用治具４に装着して表面処理を行う。 （もっと読む）

【課題】剥離し難く、かつ積層数に依存することなく、１００Ｎ以上のスクラッチ強度を有し、積層間隔ならびに層比率を変化させることで、ヤング率、硬度などを制御でき、チッピング、部分クラックなどの欠けはほとんど生じない被膜形成方法を提供する。
【解決手段】基材１の表面にダイヤモンドライクカーボン膜３をコーティングするコーティング被膜の形成方法であり、加熱しながらプレスパッタリングを行いターゲット材料の表面及び基材１の表面の汚れを除去する前処理工程Ａと、ターゲット材料を用いて基材１の表面にスパッタリングによりインターレイヤーを成膜して中間層２を形成する層形成工程Ｂと、中間層２の表面にダイヤモンドライクカーボン膜３を成膜するコーティング工程Ｃとを有する。 （もっと読む）

【課題】ターゲットを長期間に亘って均一に使用できると共に、成膜速度を向上させることができるマグネトロンスパッタ装置によって、ＬａＢ_６膜を下地である基体上に成膜した場合、ＬａＢ_６膜が剥離し易いことが判明した。
【解決手段】基体の表面を窒化した後、引き続き同一処理装置内にて、基体の窒化された前記表面にスパッタによりＬａＢ_６の膜を形成することによって、基体から剥離し難いＬａＢ_６膜を成膜することができる。 （もっと読む）

【課題】 薄型の固体電解コンデンサの陽極体として好適な箔状の多孔質バルブ金属陽極体を製造する際に、高容量を可能にする膜厚の厚いスパッタ膜の形成に有効なメタルマスクを提供する。
【解決手段】 略方形で相似形の開口形状を有する貫通した開口部を備え、相似比が小さい方の開口形状を有する平面の開口部縁に、前記開口部の壁が張り出し部を形成している金属製板材で、相似比の大きな方の開口形状を有する平面が、被スパッタ材と接する側であることを特徴とするスパッタ用メタルマスク。 （もっと読む）

【課題】従来の表面被覆層よりも耐摩耗性に優れると共に摩擦係数が低くて摺動性に優れる硬質皮膜、硬質皮膜被覆材および冷間塑性加工用金型を提供する。
【解決手段】（Ｖ_ｘＭ_１−ｘ）（Ｂ_ａＣ_ｂＮ_{１−ａ−ｂ}）からなる硬質皮膜であって下記式（１Ａ）〜（４Ａ）を満たすことを特徴とする硬質皮膜等。〔但し、上記Ｍは４ａ、５ａ、６ａ族の元素、Ｓｉ、Ａｌの１種以上であり、下記式において、ｘはＶの原子比、１−ｘはＭの原子比、ａはＢの原子比、ｂはＣの原子比、１−ａ−ｂはＮの原子比を示すものである。〕
０．４≦ｘ≦０．９５−−−−式（１Ａ）、０≦ａ≦０．２−−−−式（２Ａ）、
０≦１−ａ−ｂ≦０．３５−−−−式（３Ａ）、０．６≦ｂ≦１−−−− 式（４Ａ） （もっと読む）

【課題】単に機械的性質が高温で低下しないというだけでなく、大気中の加熱によって塑性硬さが成膜直後よりも向上するという優れた自己硬化性を有し、成膜後のアニール処理により、成膜硬さをコントロールでき、耐酸化性にも優れる加工工具用硬質保護膜を提供する。
【解決手段】Cr-Al-Nからなる窒化物相とBN相とが三次元的に混じり合う複合膜である加工工具用硬質保護膜。さらに、ＢＮ含有率が８〜２８（vol％）であるCr-Al-Nからなる窒化物相とBN相とが三次元的に混じり合う複合膜である加工工具用硬質保護膜。 （もっと読む）

【課題】高硬度鋼の高速重切削加工条件下において、硬質被覆層がすぐれた密着性と潤滑性と耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】ＷＣ基超硬合金またはＴｉＣＮ基サーメットで構成された工具基体の表面に、硬質被覆層として、下部層に（ＡｌＴｉ）Ｎ層または（ＡｌＴｉＭ）Ｎ層を形成し、上部層に立方晶構造のＮｂＮと六方晶構造のＮｂＮの混合組織からなり、かつ、該混合組織についてＸ線回折による回折ピーク強度を調査したとき、立方晶構造のＮｂＮの（２００）面からの回折ピーク強度をＩｃ、また、六方晶構造のＮｂＮの（１０３）面と（１１０）面からの回折ピーク強度をＩｈとした場合、０．０５≦Ｉｃ／Ｉｈ≦１．０を満足する回折ピーク強度比を有する層を形成した表面被覆切削工具。 （もっと読む）

【課題】耐摩耗性に優れた硬質皮膜被覆部材、および、これを用いた冶工具、並びに、硬質皮膜を形成するためのターゲットを提供する。
【解決手段】基材２上に硬質皮膜３を備えた硬質皮膜被覆部材１であって、硬質皮膜３は、組成が（Ｔｉ_ａＣｒ_ｂＡｌ_ｃＳｉ_ｄＹ_ｅＲ_ｆ）（Ｃ_ｙＮ_ｚ）からなり、前記ＲがＨｏ、Ｓｍ、Ｄｙ、Ｌａから選ばれる１種以上の元素であり、前記ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｙ、ｚが原子比であるときに、０．０５≦ａ≦０．３、０．０５≦ｂ≦０．３、０．４≦ｃ≦０．６５、０≦ｄ≦０．０５、０≦ｅ≦０．０５、０．００５≦ｆ≦０．０５、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＝１、０≦ｙ≦０．３、０．７≦ｚ≦１、ｙ＋ｚ＝１、を満足することを特徴とする。 （もっと読む）