【課題】 軟磁性薄膜を形成するためのＦｅＣｏ系ターゲット材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 ＦｅＣｏ系合金において、原料粉末のＦｅとＣｏの質量比がＦｅ：Ｃｏ＝８：２〜７：３である原料粉末Ａと、同じく質量比がＦｅ：Ｃｏ＝２：８〜０：１０なる原料粉末Ｂとを用いて、質量比がＦ：Ｃｏ＝８：２〜２：８となるように原料粉末Ａおよび原料粉末Ｂを混合し、かつ原料粉末Ａと原料粉末Ｂの一方または両方に、Ｎｂ，Ｚｒ，ＴａおよびＨｆの１種または２種以上を原料粉末Ａと原料粉末Ｂの混合状態で合計３〜１５ａｔ％となるように添加したことを特徴とするＦｅＣｏ系ターゲット材およびその製造方法。 （もっと読む）

【課題】面内方向比透磁率の低い垂直磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性酸化物：４〜１５モル％、Ｃｒ：３〜２０モル％、Ｐｔ：５〜３０モル％を含有し、残部：Ｃｏおよび不可避不純物からなる成分組成を有する板状焼結体を、温度：４５０℃以下に保持しながら圧下率：２〜１０％で板状焼結体の厚さ方向に圧縮加工する面内方向比透磁率の低い垂直磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットの製造方法。 （もっと読む）

【課題】パーティクル発生の少ない磁気記録膜形成用Ｃｏ基焼結合金スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。
【解決手段】原料粉末としてＣｒ：５０〜７０原子％を含有し、残部がＣｏからなるＣｒ−Ｃｏ合金粉末、Ｐｔ粉末、非磁性酸化物粉末（二酸化珪素、酸化タンタル、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化トリウム、酸化ジルコニウム、酸化セリウムおよび酸化イットリウムなどの粉末）およびＣｏ粉末を用意し、これら原料粉末を非磁性酸化物：２〜１５モル％、Ｃｒ：３〜２０モル％、Ｐｔ：５〜３０モル％を含有し、残部：Ｃｏからなる成分組成となるように配合し混合したのち、ホットプレスまたは熱間静水圧プレスなどの加圧焼結することにより製造する。 （もっと読む）

【課題】生産性を高めることが可能な二層記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板１１上に非磁性基板１１と平行な面内に磁化容易軸を有する軟磁性層１２を堆積する軟磁性層堆積段階と、軟磁性層１２上に非磁性基板１１に垂直な磁化容易軸を有する記録磁性層１３を堆積する記録磁性層堆積段階とを含む二層記録媒体の製造方法であって、軟磁性層堆積段階が、軟磁性層１２の比透磁率がイオンアシストのない状態の１．２倍以上となるイオンアシストありのスパッタリングにより軟磁性層１２を堆積する。 （もっと読む）

【課題】所定のタイミングで成膜と成膜との間にウエイトタイムを設けた場合でもスループットが高い薄膜成膜方法、磁気記録媒体の成膜方法および磁気記録ディスクの製造方法を提供すること。
【解決手段】成膜装置２００において基板搬送経路２２０に沿って配置された複数の成膜室１０１〜１１０のうち、成膜室１０４での成膜を終えた基板については、基板搬送経路２２０に沿って１周あるいは２周以上の巡回を行わせるとともに、この巡回期間中はいずれの成膜室１０１〜１１０においても、この基板に対する成膜を中断する。そして、基板が巡回を終えて、所定の成膜室１０４の次段に位置する成膜室１０５に到達した以降、成膜室１０５〜１１０での基板に対する成膜を開始する。従って、成膜装置２００から基板を取り出さなくても、従来の成膜装置の運転条件を変更するだけで、所定の成膜と成膜との間にウエイトタイムを設けることができる。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスクの製造等に使用される成膜装置において、装置の製作コストの増加を抑えつつ、成膜の基材となるディスク基板の落下や固定位置のずれを防止して、製造歩留まリの向上を図り、また、磁気特性及び電磁変換特性の良好な磁気ディスクの製造を可能とする。
【解決手段】成膜装置の剛性を向上させ、成膜装置の振動を防止すべく、一体の非磁性母材（ステンレス（SUS）もしくはアルミニウム（Al）など）から、複数の成膜室１ａ，１ｂ，１ｃ及び成膜室１ａ，１ｂ，１ｃ間の連結部２ａ，２ｂ，２ｃを一つのセルとして加工して作製する。 （もっと読む）

【課題】複数枚の非導電性の基板に対してバイアススパッタによる成膜を行う枚葉式の成膜装置において、生産性を維持したままで、良好にＤＣバイアスを印加することができるようにする。
【解決手段】非導電性の基板１を保持する基台６と、バイアス印加用端子１３を基板１上に成膜された導電性膜に接触させることによってこの導電性膜にバイアス電圧を印加するバイアス印加手段とを備える。バイアス印加用端子１３は、形状記憶合金等、温度に応じて形状が変化する部材によって形成されており、温度変化による変形によって、基台６上に保持された基板１に接離する。 （もっと読む）

【課題】複数枚の非導電性の基板に対してバイアススパッタによる成膜を行う枚葉式の成膜装置において、生産性を維持したままで、良好にＤＣバイアスを印加することができるようにする。
【解決手段】複数枚の基板１を略々一平面上に保持する基台６と、複数のバイアス印加用端子１３が設けられた導電性のバイアス印加部材１４とを備える。バイアス印加部材１４は、基台６に対し、基台６上に保持された複数の基板１の略々中央を通り各基板１に対して垂直な回転軸回りに回動可能に支持されており、基台６に対して回動されることにより、複数のバイアス印加用端子１３を基台６上に保持された複数の基板１に対応して接離させる。 （もっと読む）

【課題】軟磁性層を起因とするノイズの低減と、高い量産性とを両立する。
【解決手段】ハードディスクドライブに搭載される磁気記録媒体の製造方法であって、マグネトロンスパッタリング法による成膜を行う成膜装置を用いて軟磁性層を成膜する軟磁性層成膜工程を備え、成膜装置は、複数の基板１２を並べて保持する基板アダプタと、ターゲット１０４と、複数の基板対応磁場発生部３０２と、補助磁場発生部３０４とを備え、基板対応磁場発生部３０２は、対応する基板１２に形成される軟磁性層の磁化容易軸を当該基板１２の半径方向に揃えると共にマグネトロン放電を発生させるための磁場を発生し、補助磁場発生部３０４は、マグネトロン放電を発生させるための磁場を発生する。 （もっと読む）

【課題】陽極酸化ポーラスアルミナ細孔内に真空蒸着法により他物質を充填するに際し、高アスペクト比の充填構造を簡便に、かつ、安価に達成可能とした、陽極酸化ポーラスアルミナ複合体の製造方法を提供する。
【解決手段】エッチング処理により少なくとも陽極酸化ポーラスアルミナの細孔の開口部を拡径した後、細孔内に真空蒸着により他物質を充填する方法であって、前記エッチング処理の後再び陽極酸化を行うことにより、初期に形成されていた細孔の底部から延長する細孔を形成し、この２段の細孔に対してさらに前記エッチング処理を行うことを特徴とする陽極酸化ポーラスアルミナ複合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】良好な特性を示す記録層をマグネトロンスパッタリングで形成するのに適したス
パッタリングターゲット及びその製造方法、並びに、そのスパッタリングターゲットを用いた高密度光記録媒体及びその製造方法の提供。
【解決手段】（１）光記録媒体の記録層を形成する際に用いられるターゲットであって、
Ｂｉ及びＦｅを含み、磁束をターゲットの表面側から漏洩させるための形状、構造、組成の何れかを少なくとも１つ有することを特徴とするマグネトロンスパッタリング可能なターゲット。
（２）非強磁性化合物を含む（１）記載のターゲット。
（３）Ｆｅが、Ｂｉ、Ｆｅ、及びＯの３元系化合物として含まれている（１）又は（２）記載のターゲット。
（４）上記ターゲットを用いて製膜したＢｉ、Ｆｅ、及びＯを含む記録層を有する光記録媒体。 （もっと読む）

本発明は、惑星スパッタ堆積法を用いた基板１２の処理のためのスパッタ堆積システム１０及びその使用方法に関する。スパッタ堆積システム１０は、方位角軸１６を有する堆積チャンバ１４を有する。回転部材３０及び３２は、チャンバ１４内に位置しており、そこに設けられた複数のマグネトロン３４を有する。マグネトロン３４それぞれは、複数のスパッタターゲット３６の対応する１つを有する。回転部材３０、３２は、マグネトロン３４それぞれを位置合わせするように構成されており、スパッタターゲット３６の対応する１つからのスパッタ材料は、堆積チャンバ１４に規定された堆積領域５０に向けられる。移送機構６６は、堆積チャンバ１４に位置しており、方位角軸１６回りで回転可能な腕部６８を有する。基板ホルダ７２は、移送機構６６の腕部６８に取り付けられ、かつ基板１２を支持し、腕部６８が基板ホルダ７２を回転して基板１２上にスパッタ材料を堆積するために堆積領域５０を横断させる。
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【課題】 磁気記録媒体及び磁気記録装置に関し、磁性結晶粒を十分微細化且つ均一化し、再現性良く成長させて、Ｓ／Ｎ比を高める。
【解決手段】 Ａｌ系合金基板或いはガラス基板からなる非磁性基板１上に少なくともアモルファス膜２を介してＣｏ層或いはＣｏ合金層のいずれかからなるとともに、互いに分離し、Ｃｒ系下地層（４）で覆われた島状膜からなるシード層３を設ける。 （もっと読む）

【課題】
ターゲットのベーキング作業や交換作業を容易に行うことができるスパッタソースを提供する。
【解決手段】
スパッタソース２のターゲット４の下方にはバッキングプレート６が配置される。バッキングプレート６の下方には環状水路１８が設けられ、下方側には水冷パイプ２０が接続される。バッキングプレート６の下方には、円柱磁石３４および環状磁石３６が配置される。環状磁石３６および磁石保持部材３８には、切り欠き部４５が設けられ、切り欠き部４５の中を水冷パイプ２０が通過している。 （もっと読む）

【課題】膜質の良い薄膜を効率良く成膜可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】本発明の成膜装置１は磁界形成装置５を有しており、磁界形成装置５は真空槽２内部に互いに平行であって、かつ逆向きの第一、第二の磁力線群Ｍａ、Ｍｂを形成する。第一、第二の蒸着源３０ａ、３０ｂを一つずつ選択して順番に荷電粒子を放出させるときには、第一、第二の蒸着源３０ａ、３０ｂから放出される荷電粒子のうち、同じ電荷の荷電粒子が同じ方向に曲がる磁力線群を形成するようにすれば、第一、第二の蒸着源３０ａ、３０ｂから放出される荷電粒子を、同じ基板上に到達させることが可能である。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、Ｃｏ系磁性相および酸化物非磁性相からなる磁性膜を有する磁気記録媒体における磁性膜を生成するための高密度スパッタリングターゲット材を提供する。【解決手段】 Ｃｏ系金属磁性相と酸化物非磁性相よりなり、相対密度９７％以上のスパッタリングターゲット材において、成形温度１０００℃以上、成形圧力５００ＭＰａ以上で成形し、抗折強度が３００ＭＰａ以上であることを特徴とする酸化物を含有したＣｏ基スパッタリングターゲット材。また、上記成形温度を１０００〜１３５０℃とする酸化物を含有したＣｏ基スパッタリングターゲット材。さらに、上記成形圧力を５００〜１０００ＭＰａとする酸化物を含有したＣｏ基スパッタリングターゲット材。 （もっと読む）

【課題】シャドウマスクによるアプローチを利用して、高密度パターン化メディア上にサーボパターンを加工する装置、システム、方法を提供する。
【解決手段】装置は、リソグラフィックプロセスによって生成される、複数のアパーチャ306を有する蒸着マスク302を含む。固有の蒸着角度に方向付けされた蒸着ソース500から蒸着マスク302のアパーチャ306を通して、材料308を基板300上に形成する。このように、各アパーチャ306は複数の蒸着位置310に対応する。アパーチャ306の寸法を正確に定めて、アパーチャを正確に位置付けることによって、結果として定まる蒸着位置からサーボパターンフィーチャーを生成する。前記蒸着マスクは、前記基板上で複数の蒸着位置に材料を向けるようになっている複数のビットパターンアパーチャをさらに含む。前記蒸着位置は、サーボパターンの形成と同時にビットパターンを形成する。 （もっと読む）

本発明は、付加的に少なくともＴｉＯ_xを含有する、主成分としてコバルト系合金を有する材料混合物に関する。 （もっと読む）

【課題】基体に凹凸が生じる事態を回避しつつ、薄膜の形成時における基体の熱変形や穴あきを回避し得る薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】長尺帯状のベースフィルム１１（基体）を巻回した繰り出し側ロール１１ａからベースフィルム１１を繰り出して冷却ドラム２２に沿わせて走行させつつ気相成長法によってベースフィルム１１の上に磁性層（薄膜）を形成する際に、反発硬さが６９１Ｌ値以下の繰り出し側ロール１１ａを使用すると共に、ベースフィルム１１における冷却ドラム２２に接している部位の薄膜形成面（磁性層の形成面）に電子線照射装置２３によって電子線を照射する。 （もっと読む）

【課題】 スループットを低下させることなく、所定の温度まで基板温度を低下させた状態で成膜可能な磁気記録ディスクの製造方法およびその製造装置を提供すること。
【解決手段】 垂直磁気記録方式の磁気記録ディスクの記録層１６をスパッタ法により形成するにあたっては、真空チャンバー２３０内の成膜部１００に磁気記録ディスク用基板１０とターゲット１１０とが対向する空間１５０の周りを囲むように筒状の陰極シールド体１６０を配置しておき、陰極シールド体１６０の内側に冷却ガスを供給して磁気記録ディスク用基板１０を冷却する強制冷却工程と、１００℃以下まで冷却された磁気記録ディスク用基板１０にスパッタ成膜を行うスパッタ成膜工程とを行う。強制冷却工程を行う際、磁気記録ディスク用基板１０に向かう冷却ガスの流れを磁気記録ディスク用基板１０に垂直な方向とする整流部材１８０を磁気記録ディスク用基板１０に対向配置させておく。 （もっと読む）