【課題】ＰＺＴ系の強誘電体膜において、焼結助剤やアクセプタイオンを添加することなく、Ｂサイトに１０モル％以上のドナイオンを添加することを可能とする。
【解決手段】本発明の強誘電体膜は、多数の柱状結晶からなる柱状結晶膜構造を有し、下記式（Ｐ）で表されるペロブスカイト型酸化物を主成分とするものである。
Ａ_１＋δ［（Ｚｒ_ｘＴｉ_１−ｘ）_１−ｙＭ_ｙ］Ｏ_ｚ・・・（Ｐ）
（式中、ＡはＡサイト元素であり、Ｐｂを主成分とする少なくとも１種の元素である。Ｚｒ，Ｔｉ，及びＭはＢサイト元素である。ＭはＶ，Ｎｂ，Ｔａ，及びＳｂからなる群より選ばれた少なくとも１種の元素である。０＜ｘ≦０．７、０．１≦ｙ≦０．４。δ＝０及びｚ＝３が標準であるが、これらの値はペロブスカイト構造を取り得る範囲内で基準値からずれてもよい。） （もっと読む）

【課題】複数の機能領域を有する有機化合物膜を作製する成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜室内に複数の蒸発源を備え、それぞれの有機化合物からなる機能領域を連続的に形成し、さらに機能領域間の界面には混合領域を形成することができる。さらに、成膜室の内壁の表面は電解研磨されている。成膜部内を連続的に移動できる基板搬送手段を有し、基板搬送手段は、成膜部の上方に設けられ、成膜部と同一空間を有しており、成膜室内にある基板を平面方向に搬送する手段を有している。成膜部は、基板搬送手段による基板の搬送空間を含んで設けられ、基板搬送手段に基板が保持された状態で蒸着が行われる。 （もっと読む）

【課題】太陽電池用の反射防止及び／又はパッシベーションコーティングを製造する。
【解決手段】堆積チャンバに、シリコンウェハ５を提供する工程と、該シリコンウェハを４００℃を超える温度まで予備加熱する工程と、水素含有反射防止及び／又はパッシベーションコーティングをスパッタプロセスにより堆積する工程とを含む方法、並びに、反射防止及び／又はパッシベーションコーティングをＳｉウェハに製造するコーティング装置であって、第１の真空チャンバ１と、第２の真空チャンバ２と、基板５を該第１及び第２の真空チャンバに、この順番で搬送するための搬送手段４とを含み、該第１の真空チャンバは、少なくとも１つの赤外線ヒータ１６を含み、該第２の真空チャンバは、ターゲットを蒸発させるためのスパッタ手段１２及び水素を含む反応性ガスを導入するためのガス入口を含むコーティング装置に関する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、有機電界発光素子作製において、電極、水分吸着膜、環境遮断膜からなる複数の膜を、環境雰囲気に素子特性が影響されずに、容易に連続成膜することが可能なスパッタリング装置及び成膜方法を提供することを課題とした。
【解決手段】
チャンバー内に、筒状のバッキングプレートと、バッキングプレートの高さ方向を回転軸方向とするバッキングプレート回転手段と、バッキングプレートの外面に配置された複数のターゲット設置部と、各ターゲット設置部の背面位置に設置された極性の異なる対のカソードマグネットと、基板と、基板と対向する位置に具備されたターゲットに接続する機構を有するスパッタリング用電源とを有するマグネトロンスパッタリング装置とする。 （もっと読む）

【課題】滑り感等の蒸着膜の表面性を高い信頼性をもって評価するための方法を提供すること。
【解決手段】基材上に蒸着膜を有する光学部材の該蒸着膜表面上で、原子間力顕微鏡の探針を振動させながら走査して位相変化を測定し、測定された位相変化に基づいて前記蒸着膜を評価する蒸着膜評価方法。 （もっと読む）

【課題】基板、特に、有機ポリマー製基板に（Ｚｎ_1-xＣｕ_x）Ｓｅ薄膜を有する薄膜付き基板を提供する。
【解決手段】基板およびこの基板の表面の少なくとも一部に設けられた（Ｚｎ_1-xＣｕ_x）Ｓｅ薄膜（但し、０＜ｘ≦０．２）を含むことを特徴とする薄膜付き基板。基板を配設した真空蒸着器内において、ＺｎＳｅを加熱し、かつＣｕＳｅおよび／またはＣｕ₂Ｓｅを加熱し、前記基板の表面上に（Ｚｎ_1-xＣｕ_x）Ｓｅ薄膜（但し、０＜ｘ≦０．２）を形成することを特徴とする、薄膜付き基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】３００℃以上の温度でのプレス加工するプリント配線基板の製造に用いても、キャリアと銅箔層との引き剥がし可能なキャリアシート付銅箔の提供を目的とする。
【解決手段】前記課題を解決するために、キャリアシートの表面に接合界面層を介して銅箔層を有し、当該キャリアシートが物理的に引き剥がし可能なキャリアシート付銅箔であって、当該接合界面層は、金属層と炭素層とからなることを特徴とするキャリアシート付銅箔を採用する。そして、前記接合界面層は、厚さ１ｎｍ〜５０ｎｍの金属層と、厚さ１ｎｍ〜２０ｎｍの炭素層とで構成されたものとすることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 ＯＬＥＤ装置（または他の種類の装置）の密封に利用可能な新しい、改良されたシーリング材およびシーリング技術を提供する。
【解決手段】 装置２００への酸素および水分の透過を抑制する方法であって、少なくとも装置２００の一部分を覆うようにＳｎ^２＋含有無機材料２０２で蒸着し、装置２００の少なくとも一部分を覆うように蒸着したＳｎ^２＋含有無機材料２０２を加熱処理する各工程を有してなる。Ｓｎ^２＋含有無機材料２０２は、例えば、ＳｎＯ、ＳｎＯとＰ_２Ｏ_５の混合粉末、およびＳｎＯとＢＰＯ_４の混合粉末などでありうる。 （もっと読む）

【課題】常温でもＩ型結晶構造を多く含む強誘電性の積層体とその製造方法を提供する。
【解決手段】フッ化ビニリデン系ポリマーを含むポリマー層の片面に、フッ化ビニリデン系オリゴマーを含むオリゴマー層が積層されてなる積層体。 （もっと読む）

【課題】４００℃〜６００℃の作動温度においても、原子の透過性を向上させることができる金属薄膜を提供する。
【解決手段】金属組成物と、前記金属組成物の結晶粒界に分散させた酸化物とを含有する。前記金属組成物を構成する金属ターゲットと、前記酸化物を構成する酸化物ターゲットとを同時にスパッタリングして形成した。前記酸化物が、ジルコニア、ランタンガレート、セリアのうちいずれか一つの元素で構成した。前記金属組成物が、銅、銀、白金、パラジウム及び金のうちいずれか一種、又は二種以上を主体とした合金で構成した。 （もっと読む）

【課題】透明性に優れると共に、酸素および水蒸気のガスバリア性に優れた透明ガスバリアフィルムおよびそれを用いたエレクトロルミネッセンス素子の提供。
【解決手段】樹脂基板１の片面または両面に珪素原子と窒素原子とを含む薄膜２を有する透明ガスバリアフィルム１０であって、前記薄膜２に含まれる珪素原子と窒素原子との割合がＳｉＮｘ（ただし、０．５≦ｘ≦１．４）であり、かつ、前記薄膜２の膜厚が２０〜５０ｎｍであることを特徴とする透明ガスバリアフィルム１０。 （もっと読む）

【課題】塗布膜とスパッタ膜とを備え、且つ、従来に比べて厚み方向における導電性の向上が図られた透明導電膜、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】金属アルコキシドを含む溶液から得られたゾルを、基材１４に塗布し、それを乾燥させて、第１の透明導電膜（塗布膜１１）を形成し、塗布膜１１に対してプラズマ処理を行い、そして、塗布膜１１の上に、スパッタリング法によって第２の透明導電膜（スパッタ膜１２）を形成して、透明導電膜１０を完成させる。プラズマ処理は、例えば、プラズマ放電によって発生させたガスイオンを塗布膜１１に衝突させることによって行われるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】触媒気相成長法と物理気相成長法により連続してガスバリア層を積層形成することにより、基材フィルム表面にプライマー処理を施すことなくガスバリア性に優れたガスバリア積層フィルム、及び該フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】基材フィルムの少なくとも一方の面に、厚さ０．１〜５００ｎｍの無機及び／又は有機の薄膜層（Ａ層）、及び厚さ０．１〜５００ｎｍの無機薄膜層（Ｂ層）を順次形成してなるガスバリア積層フィルムであって、上記Ａ層が加熱触媒体を用いて材料ガスを接触熱分解する触媒化学気相成長法により形成され、かつＢ層が物理気相成長法により形成されたガスバリア積層フィルム。 （もっと読む）

【課題】長穴形状のマスク開口部を複数、梁部を間に挟んで並列させた場合でも、梁部の側面同士の貼り付きを防止することのできる成膜用マスク部材および該成膜用マスク部材の製造方法を提供すること。
【解決手段】成膜用マスク部材１０は、ベース基板をなす矩形の支持基板３０に、チップ２０を複数、取り付けた構成を有しており、チップ２０には、成膜パターンに対応する長孔形状のマスク開口部２２が複数一定間隔で平行に並列した状態で形成されている。チップ２０において、マスク開口部２２で挟まれた梁部２７の側面２７ａには、微小な凸部２８が形成されている。このため、チップ２０の製造工程などにおいて洗浄、乾燥を行なった場合でも、梁部２７の側面２７ａ同士が貼り付いて剥がれなくなるという事態を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】液晶に対して任意のプレチルトを与え、かつ安定したアンカリング力を与えることにより高い表示品位を実現することが可能な液晶装置、液晶装置の製造方法、電子機器を提供する。
【解決手段】第１の基板と該第１の基板に対向する第２の基板との間に液晶が挟持されてなる液晶装置において、電極９ａ上に形成されてなり、所定の方向に延在し、かつ所定の間隔で配列された複数の溝部３１を有する下地膜３０と、該下地膜３０上に形成され、前記溝部３１の延在方向に沿って所定の角度θ０だけ傾斜して凸設される複数の柱状構造物により構成された斜方蒸着膜４０とによって構成される配向膜１６を具備する構成とした。 （もっと読む）

【課題】本発明は、長期間にわたる過酷な自然環境に耐え得る、耐熱性、耐候性、耐加水分解性、防湿性、軽量性等の諸特性に優れ、水蒸気（水分）や酸素等の侵入を防止するガスバリア性を著しく向上させ、高温・高湿環境下でのガスバリア性能および太陽電池としての電力出力特性を長期にわたり維持することが可能な耐久性を有し、かつ、安価な太陽電池モジュール用裏面保護シートおよびそれを用いた太陽電池モジュールを提供することを目的とする。
【解決手段】耐侯性・耐加水分解性を有するフィルム基材の少なくとも片面に無機化合物からなる蒸着層を有するガスバリア性フィルムと、前記ガスバリア性フィルムに配置された耐熱性を有するフィルム基材とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被堆積面がダメージを受け難くかつ膜組成の変更が容易なマグネトロンスパッタリング技術を提供する。
【解決手段】本発明の成膜方法は、各々が方向５１に延びた形状を有するターゲット部２１および２２を方向５２に並べてなりかつターゲット部２１および２２は組成が異なるスパッタリングターゲット２と、カソードマグネット１１と、基板３と、枠体１４１とこれに支持されたトラップマグネット１４３ａおよび１４３ｂとを備えたスパッタリングトラップ１４とを、ターゲット２と基板３とが枠体１４１の開口部１４２を挟んで向き合いかつターゲット２がカソードマグネット１１と基板３との間に介在するように配置し、カソードマグネット１１がターゲット部２１および２２と順次向き合うようにカソードマグネット１１をターゲット２に対して方向５２に相対的に移動させながらマグネトロンスパッタリング法により基板３上に膜を形成することを含む。 （もっと読む）

【課題】高い発光強度を有する無機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】Ｂａを含む合金からなるスパッタリングターゲットであり、不純物として含まれるＳｒ、ＣａおよびＭｇの含有量がいずれも０．１質量％以下である。該スパッタリングターゲットを用いて、Ｈ₂Ｓガス共存下でスパッタリング法により蛍光体膜が得られ、該蛍光体膜は無機ＥＬ素子の無機ＥＬ発光体発光層を形成するのに好適である。 （もっと読む）

【課題】放電遅延時間を短縮させ、温度依存性を改善し、増進されたイオン強度を有するＰＤＰの保護膜を製造するための材料、その製造方法、これより形成された保護膜及び該保護膜を備えるＰＤＰを提供する。
【解決手段】本発明によれば、ＭｇＯ１質量部を基準に２．０×１０^−５〜１．０×１０^−２質量部の希土類元素がドーピングされた酸化マグネシウム単結晶を含む保護膜の材料、約２８００℃の温度で結晶化を通じて前記酸化マグネシウム単結晶を製造する方法、これより形成された保護膜及び前記保護膜を含むＰＤＰを提供する。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ表示装置の発光層等の蒸着のときにガラス基板との位置合わせが容易で、また強度が十分で正確な蒸着パターンの形成ができる成膜用精密マスクを提供する。更に、このような成膜用精密マスクを簡単かつ確実に製造する方法、有機ＥＬ表示装置及びその製造方法、有機ＥＬ表示装置を備えた電子機器を提供する。
【解決手段】平行に所定の間隔をもって配置され、複数の第１の開口部２を形成する第１の梁３と、第１の梁３の上に当該第１の梁３に交差して配置され、複数の第２の開口部４を形成する１又は複数の第２の梁５とを備え、第１の梁３と第２の梁５とは交差部分で連結されているものである。 （もっと読む）