【課題】所望の領域の材料のみが成膜されることを可能にし、微細パターンの形成を可能にすることを目的とする。また、成膜に要する時間を短縮し、生産性を向上させることを目的とする。
【解決手段】一方の面に、金属窒化物を含む光吸収層と、光吸収層に接して形成された材料層と、を有する第１の基板を用い、第１の基板の材料層が形成された面と、第２の基板の被成膜面とを対向させ、第１の基板の他方の面側から周波数１０ＭＨｚ以上、パルス幅１００ｆｓ以上１０ｎｓ以下のレーザ光を照射し、光吸収層と重なる位置にある材料層の一部を選択的に加熱し、材料層の一部を第２の基板の被成膜面に成膜する。 （もっと読む）

【課題】耐酸性に優れ、かつ接触抵抗が低い燃料電池用金属セパレータおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る燃料電池用金属セパレータ１は、表面が平面の金属基材２、または、表面の少なくとも一部に凹形状のガス流路が形成される金属基材２を用いて製造された燃料電池用金属セパレータであって、金属基材２の表面に、Ｎｂ、Ｔａから選択される１種以上の非貴金属を含んでなる耐酸性金属皮膜３と、この耐酸性金属皮膜３の上にＡｕ、Ｐｔから選択される１種以上の貴金属、および、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａから選択される１種以上の非貴金属を含んでなる導電性合金皮膜４と、を有する構成とした。また、本発明に係る燃料電池用金属セパレータの製造方法は、耐酸性金属皮膜を成膜する工程Ｓ１と、導電性合金皮膜を成膜する工程Ｓ２と、を含んでなる。 （もっと読む）

【課題】構造及び組成を制御することが可能な、イオンビームスパッタ法によるリチウム複合酸化物薄膜の製造方法、及び、当該製造方法によりリチウム複合酸化物薄膜を製造する工程を有する、電極体の製造方法を提供する。
【解決手段】リチウム及び遷移金属を含有するリチウム複合酸化物を有するターゲット2にイオンビーム3を照射し、ターゲットから飛び出したスパッタ粒子を基板４に堆積させることにより、リチウム複合酸化物薄膜５を製造する方法において、イオンビームの正反射方向に基板４’を配置した場合の成膜速度を１とするとき、成膜速度が０．４以下となる位置に基板４が配置される、リチウム複合酸化物薄膜の製造方法とし、当該製造方法によってリチウム複合酸化物薄膜を製造する工程を有する、電極体の製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】光学的品質の薄膜を製造することに関し、特に非線形光学デバイス及び有機発光デバイスで利用されるそのような薄膜の低圧製造を提供する。
【解決手段】基体５８上に有機薄膜を形成する方法であって、その方法は、複数の有機前駆物質（１４、４８）を気相で与え、前記複数の有機前駆物質（１４、４８）を減圧下で反応させる工程を有する。そのような方法により製造された薄膜及びそのような方法を実施するのに用いられる装置も含む。本方法は、有機発光デバイスの形成及び他のディスプレイ関連技術によく適している。 （もっと読む）

【課題】スパッタリング時にパーティクル発生が少ない光記録媒体膜形成用Ｔｅ系スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】（Ｔｅ_ｘＰｄ_ｙ）_ａ（ＴｅＯ_２）_ｂ（但し、原子％で３０≦ｙ≦６０、ｘ＝１００−ｙ、５０≦ｂ≦７０、ａ＝１００−ｂ）からなる成分組成を有する光記録媒体膜形成用Ｔｅ系スパッタリングターゲットにおいて、Ｔｅ：３０〜６０原子％を含有し、残部がＴｅおよび不可避不純物からなる組成を有するＴｅＰｄ合金相とＴｅＯ_２相とからなる混合相からなり、前記ＴｅＰｄ合金相の平均粒径が５〜１５μｍ、前記ＴｅＯ_２相の平均粒径が５〜１５μｍを有し、かつＴｅＰｄ合金相の平均粒径とＴｅＯ_２相の平均粒径との比：｛（ＴｅＰｄ合金相の平均粒径）／（ＴｅＯ_２相の平均粒径）｝が０．５〜１．５の範囲内にあることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】多数の圧電素子を備えた圧電素子構造体において、圧電体膜の分極方向が下部電極層側から上部電極層側に向かう向きである、実用化可能な圧電素子構造体を提供する。
【解決手段】基板１１上に、下部電極層２２、圧電体膜２３および上部電極層２４がこの順に積層されてなる多数の圧電素子２を備えた圧電素子構造体１を製造する圧電素子構造体の製造方法において、圧電体膜２３をスパッタ法により成膜し、成膜により自発分極が下部電極層２２から上部電極層２４に向かう向きとなっている圧電体膜２３に対し、圧電体膜２３の抗電界以上の大きさの、上部電極層２４から下部電極層２２に向かう電界をパルス印加する。 （もっと読む）

【課題】所望の領域の材料のみが成膜されることを可能にし、微細パターンの形成を可能にすることを目的とする。また、成膜に要する時間を短縮し、生産性を向上させることを目的とする。
【解決手段】一方の面に、光吸収層と、光吸収層に接して形成された材料層と、を有する第１の基板を用い、第１の基板の材料層が形成された面と、第２の基板の被成膜面とを対向させ、第１の基板の他方の面側から周波数１０ＭＨｚ以上、パルス幅１００ｆｓ以上１０ｎｓ以下のレーザ光を照射し、光吸収層と重なる位置にある材料層の一部を選択的に加熱し、材料層の一部を第２の基板の被成膜面に成膜する。 （もっと読む）

【課題】基板上に形成される圧電体膜であって、結晶配向性が高く、かつ表面側から基板側に向かう向きの自発分極を有する圧電体膜を提供する。
【解決手段】基板Ｂ上に、キュリー点以上の成膜温度でスパッタ法により圧電体膜５３を成膜し、該成膜後、圧電体膜５３の温度がキュリー点以下に低下する前に、該圧電体膜５３に対して該圧電体膜５３の表面側から基板Ｂ側に向かう電界Ｅ₁を生じさせ、分極処理を開始し、電界Ｅ₁を生じさせた状態で、圧電体膜５３の温度をキュリー点以下に下げる。 （もっと読む）

【課題】材料と被成膜基板との間にマスクを設けることなく、被成膜基板に微細なパターンの薄膜を形成する成膜方法を提供することを課題の一とする。また、このような成膜方法を用いて発光素子を形成し、高精細な発光装置を作製することを課題の一とする。
【解決手段】反射層、光吸収層及び材料層が形成された成膜用基板を透過して、光吸収層にレーザ光を照射することによって材料層に含まれる材料を、対向して配置された被成膜基板へ成膜する。反射層を選択的に形成することによって、被成膜基板に成膜される膜は、反射層のパターンを反映した微細なパターンで選択的に成膜することができる。材料層の形成は、湿式法を用いて行う。 （もっと読む）

【課題】スパッタリング時にパーティクル発生が少ない相変化膜形成用スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】原子％でＧｅ：１５．０〜３０．０％、Ｓｂ：５．０〜３０％を含有し、さらにＦｅ：１〜２０ｐｐｍを含有し、残部がＴｅおよび不可避不純物からなる組成を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】装置構成を大規模にすることなく、タクトタイムを短縮可能な有機ＥＬ製造技術を提供する。
【解決手段】本発明の有機ＥＬ製造装置１は、第１〜第４の搬送室２ａ〜２ｄ間を真空中で基板７を順次搬送するように構成された搬送ユニット２と、搬送ユニット２の各搬送室２ａ〜２ｄに接続された第１〜第８の成膜ユニット１０〜８０とを備え、各成膜ユニット１０〜８０は、マスク付きパレット９を収容するマスクストック室１１〜８１と、基板７とマスク付きパレット９のマスク８とを位置合わせする位置合わせ室１５〜８５と、マスク付きパレット９に装着された基板７上に成膜を行う成膜室１３〜８３とを有する。マスクストック室１４〜８４と成膜室１３〜８３とが同一の成膜搬送ラインＭ上に配置される一方で、アライメント室１５〜８５が、成膜搬送ラインＭから分岐した退避位置に配置される。 （もっと読む）

【課題】電子顕微鏡用試料ホルダの電子線窓に、薄くかつ反応性の低い薄膜を形成すること。
【解決手段】本発明は、ＢＮ膜を形成すべき基板を冷却する工程Ｓ１２と、スパッタリング法を用い、前記基板上に非晶質ＢＮ膜を形成する工程Ｓ１４と、を有する薄膜形成方法、前記薄膜を用いた電子顕微鏡用試料ホルダおよびその形成方法である。本発明によれば、非晶質ＢＮ膜を均一に形成することができる。よって、反応性の低いＢＮ膜を薄く形成することができる。 （もっと読む）

【課題】コモン電圧の変動を抑制して、表示品位を向上させる。
【解決手段】 第１及び第２の基板、第１及び第２の電極電極、第１の液晶による液晶装置の製造方法であって、第３の基板と第４の基板との間に第２の液晶が介在されたテストセルについて、第３又は第４の電極の各成膜条件と、第３及び第４の電極間に電圧を印加した場合におけるテストセルのコモン電圧の変動と、の関係を求める工程（Ｓ１）と、相互に同一の条件で第１及び第２の電極を成膜した場合における液晶装置のコモン電圧の変動を求める工程（Ｓ２）と、第３及び第４の電極の成膜条件とテストセルのコモン電圧の変動との関係と、液晶装置のコモン電圧の変動とに基づいて、第１及び第２の電極の成膜条件を決定する工程（Ｓ３）と、決定された第１及び第２の電極の成膜条件に基づいて、第１及び第２の基板上に第１及び第２の電極を成膜して、液晶装置を製造する工程（Ｓ４）とを具備する。 （もっと読む）

本発明は一般に、基板が処理チャンバを通って移動するときに基板上に層を堆積させる方法および装置に関する。基板は、ロールツーロールシステムに沿って移動することができる。ロールツーロールシステムは、基板を第１のロールから繰り出すことができ、したがって基板を処理にかけ、次いで処理後に第２のロール上に巻き直すことができるシステムである。基板が処理チャンバを通って移動するとき、プラズマ源はプラズマを発生させることができる。基板に電気的バイアスを印加すると、プラズマを基板へ引き寄せることができ、したがって、基板がチャンバを通って移動するときに基板上に材料を堆積させることができる。
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【課題】諸特性に優れるカルコパイライト型太陽電池を効率よく生産する。
【解決手段】バッファ層上に透明電極層を形成するに際しては、ＤＣスパッタ法を採用する。この際、ターゲットから蒸発する粒子中に１０ｅＶ以上のエネルギを有するものが占める割合を７％以上とするべく、前記ターゲットとガラス基板との間の距離（離間距離）と、供給ガスの圧力との積が４．８ｃｍ・Ｐａ以下となるように、離間距離及び圧力を設定する。さらに、透明電極層を形成した後に熱処理を施し、バッファ層ないし光吸収層、又は透明電極層の結晶構造中に存在する点欠陥等の欠陥を修復して元の結晶構造に復元する。 （もっと読む）

【課題】有機層と無機層の密着性が十分に高くて、バリア性に優れている有機無機積層型の積層体を簡便な方法で提供する。
【解決手段】少なくとも１層の無機層と少なくとも１層の有機層を含む積層体の製造法であって、無機層の表面に、珪素原子またはチタン原子を含む有機カップリング剤を気相分子堆積法によって吸着させる工程と、珪素原子またはチタン原子を含む有機カップリング剤を吸着させた無機層上に有機層を設置する工程を含む積層体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】優れた配向性および表面平坦性を確保しつつ、成膜速度を上昇させることが可能なＣｅＯ_２薄膜の製造方法、ＣｅＯ_２薄膜およびＣｅＯ_２薄膜の製造装置を提供する。
【解決手段】ＣｅＯ_２薄膜の製造方法は、配向性金属基板を準備する基板準備工程と、配向性金属基板上にＣｅＯ_２膜を形成する成膜工程とを備えている。そして、成膜工程におけるＣｅＯ_２膜の成膜速度は３０ｎｍ／分以上であり、成膜工程における、配向性金属基板の温度は７５０℃以上１１００℃以下である。 （もっと読む）

【課題】基板上に所望のサイズのクラスター粒子を所望の堆積量分布に従って形成する。
【解決手段】所定サイズのクラスター粒子からなるイオンビームを出射することが可能なイオンビーム出射手段（２）と、イオンビーム出射手段（２）から出射されたイオンビーム（１４）の照射方向を可変する照射方向可変手段（４）と、イオンビームの照射方向に配置された基板（８）と、イオンビーム（１４）の基板（８）上での強度分布を推定するためのイオンビーム強度分布推定手段（２０）と、基板上に所望の堆積量分布を有するクラスター粒子を形成するために、イオンビーム強度分布推定手段（２０）によって推定された強度分布に基づいて、イオンビーム出射手段（２）および照射方向可変手段（４）を制御する制御装置（１２）と、を備える、クラスター粒子堆積装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】帯状可撓性基板の幅方向を鉛直方向に向けながら、基板を水平方向に長い距離にわたり搬送しても、基板の表面に皺が発生したり、基板が幅方向に蛇行したり、下方へ垂れ下がったりするのを防止することが可能な薄膜積層体の製造装置を提供する。
【解決手段】帯状可撓性基板１の表面に複数の薄膜を積層して薄膜積層体を製造する装置であって、基板１の幅方向が鉛直方向になるようにして、基板１を水平方向に搬送する基板搬送手段１１と、基板１の搬送方向に沿って連続して配列され、基板１の表面に成膜を行う複数の成膜室４２とを具備する薄膜積層体の製造装置において、複数の成膜室４２のそれぞれの間に配置され、基板１の鉛直方向上側の端部両面をスパイラル状の溝または突起４４ｘの表面で挟む複数対のスパイラルローラ４４を備えている。 （もっと読む）

【課題】所定の有機膜と無機膜とを有する機能性フィルムの製造において、目的とする性能を有する機能性フィルムを安定して製造することを可能にする。
【解決手段】基板の表面に有機膜を成膜し、その後、真空成膜法によって無機膜を成膜し、かつ、真空装置内で有機膜に接触する部材は、機能発現部分以外に接触する構成とすることにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）