【課題】基板上に光吸収特性を有する金属膜を蒸着によって成膜する際に光学特性が安定した光学フィルタ及びその成膜方法を提供する。
【解決手段】基板上に金属膜層と誘電体膜層を積層状に形成する光学フィルタにおいて、その金属膜層を蒸着で形成する際に膜厚さが不安定となる蒸着初期及び／又は蒸着終期に蒸着皮膜に反応性ガス（活性ガス；酸素、窒素、フッ素など）を照射して化合物に変化させることを特徴としている。これによって酸化、窒化などで化合物に変化した被膜は透明となり光の透過率に影響を及ぼすことがない。 （もっと読む）

【課題】液晶を用いた画像表示装置において、光学的異方性を避けるためと、高速応答のために、液晶を基板に対して垂直若しくはそれに近い配向にする必要がある。液晶には強い光、波長の短い光があたることが多いので、従来のポリイミドの配向膜では劣化が生じ寿命が短くなる。配向膜を無機化したいが、ＳｉＯ_２斜方蒸着を液晶配向膜とした場合、液晶として特性の優れる誘電率異方性が正のものを使うと水平配向になってしまう。金属アルコラートを用いて垂直配向にする技術はあるが工程が複雑になっている。
【解決手段】液晶を挟む２枚の基板の内、少なくとも一方の基板側の液晶配向膜を金属にすることにより、基板の間に封入する液晶は、誘電率異方性（Δε）が正のものを用いていながら、基板に対して垂直若しくはほぼ垂直に配向させることができる。 （もっと読む）

【課題】蒸着機をいじることなく、斜方蒸着配向膜を均一な膜厚にできる液晶表示素子とその製造方法を提供する。
【解決手段】画素電極基板と透明電極基板とが液晶を介して互いに対向配置された液晶表示素子であって、 前記画素電極基板と前記透明電極基板とのそれぞれの前記液晶に接する面側に、基板面に対して斜め方向から蒸着形成された第１斜方蒸着配向膜と、基板面に対して垂直方向から蒸着形成された垂直蒸着膜と、前記垂直蒸着膜を介して、前記第１斜方蒸着配向膜形成時と基板の上下を１８０度回転し基板面の法線に対して前記斜め方向から対称な斜め方向から蒸着形成された第２斜方蒸着配向膜とが順に積層形成され、基板全面で蒸着膜の総厚が一定である液晶表示素子とする。 （もっと読む）

【課題】膜質の良い有機薄膜を形成する。
【解決手段】供給装置４０と加熱部材２５の間には遮蔽板６１が配置されているため、加熱部材２５からの輻射熱や加熱部材２５上で発生した蒸着材料３９の蒸気が供給装置４０へ到達しない。供給装置４０は高温に加熱されないから、供給装置４０内の蒸着材料３９が溶融、蒸発しない。供給装置４０から落下した蒸着材料３９は遮蔽板６１に落下すると、移動装置６５により移動して、落下口６３から加熱部材２５上に乗せられる。 （もっと読む）

【課題】レンズの表面に成膜する際に、曲率半径の小さい小径レンズに対しても均一な膜厚の膜を形成する。
【解決手段】レンズＬを回転自在に支持する１個以上のレンズ支持部材３０が真空槽２内に設けられている。各レンズ支持部材３０は、レンズＬの中心軸の角度が個別に設定可能となっている。これにより、レンズ支持部材３０ごとに回転軸の角度を設定できることから、曲率半径の小さい小径レンズＬに対しても、均一な膜厚の膜を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】膜質の良い有機薄膜を成膜可能な装置と成膜方法を提供する。
【解決手段】載置部材２２の載置面２５は水平面から傾斜しており、加熱した載置面２５に蒸着材料３９を載置すると、蒸着材料３９は載置面２５上で広がるから、蒸着材料３９が短時間で蒸発し、蒸発室２１内部に蒸着材料３９の蒸気が発生する。蒸着材料３９は短時間で蒸発するから、蒸発速度が蒸着材料３９が熱分解されない。また、従来に比べて蒸気発生速度の安定するから、有機薄膜の膜厚が均一になる。 （もっと読む）

【課題】酸化タングステン材料を利用することによりマイクロメートル領域の形状を持つ金型部品の耐久性を向上し、それを用いた微小部品生産を実現する。
【解決手段】微細加工用超硬材料工具は、加工工具部の材料が炭化タングステンを主材料とした超硬材料からなり、その表面に２０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の厚さを持つ酸化タングステン５を主材料とした薄膜構造２を持たせ、酸化タングステン５を主材料とした薄膜構造２は、単結晶、多結晶構造及びアモルファス構造６のいずれか１つ、又は単結晶、多結晶構造及びアモルファス構造６の混合状態からなり、酸化タングステンを主材料とした薄膜構造は、酸化触媒効果を持つ金ナノ粒子７を含有し、打ち抜き用金型工具、絞り用金型工具、曲げ用金型工具のいずれかとして使用される。 （もっと読む）

【課題】基材フィルムの表面に形成した蒸着層に型押しを施して凹凸模様を形成する包装用蒸着フィルムにおいて、より鮮やかな模様が得られるようにする。
【解決手段】蒸着フィルム１は、基材フィルム２の表面にプライマー層５を形成し、プライマー層５の表面に蒸着層３を形成したものである。模様原版４で蒸着層に型押しを施し、凹凸模様を形成する。 （もっと読む）

【課題】より簡便・安価に製造でき、より高感度で再現性にすぐれた表面増強赤外吸収（ＳＥＩＲＡ）センサーの製造技術を提供する。
【解決手段】誘電体基板上に金属ナノ薄膜が吸着されてなる表面増強赤外吸収センサーの製造方法であって、溶液中に分散した金属ナノ粒子を基板表面に吸着させ、あるいは吸着した金属ナノ粒子を溶液中で成長させることにより製膜し、前記基板の金属ナノ薄膜が配置されている側とは反対側の面から赤外光を照射し、前記基板から染み出したエバネッセント波を検出して表面増強赤外吸収シグナルをその場モニターしながら、表面増強赤外吸収活性度を調整することにより、前記金属ナノ薄膜を扁平かつ分断された島状に成長させることを特徴とする表面増強赤外吸収センサーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】被着体に対して、高い寸法精度で強固に、かつ低温下で効率よく接合することができる接合膜を備えた接合膜付き基材、かかる接合膜付き基材と被着体とを、低温下で効率よく接合し得る接合方法、および、接合膜付き基材と被着体とが高い寸法精度で強固に接合してなる信頼性の高い接合体を提供すること。
【解決手段】本発明の接合膜付き基材は、基板２と、接合膜３と、これら基板２と接合膜３との間に介挿された中間層７とを有しており、対向基板（他の被着体）４に対して接合可能なものである。この接合膜付き基材が備える接合膜３は、その少なくとも一部の領域にエネルギーを付与することにより、表面３５付近に存在する脱離基が脱離し、これにより接合膜３の表面３５に、対向基板４との接着性が発現し得るものである。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、炭素などの粒子状母材の表面に安定的に粒径が２ｎｍ以上１０ｎｍ以下の微粒子元素を担持させた合金粒子を得る合金微粒子担持装置を提供することである。
【解決手段】 粒子状母材を収容する容器と、この容器と対峙して配置され、白金を含有する矩形状の第１のスパッタ源と、この第１のスパッタ源に隣接して配置され、前記第１のスパッタ源と異なる元素を含有する第２のスパッタ源と、前記第１のスパッタ源の前記容器と対峙する側とは反対側に配置された第１の磁石と、前記第２のスパッタ源の前記容器と対峙する側とは反対側に配置された第２の磁石と、を具備する合金微粒子担持装置において、前記第１或いは第２のスパッタ源とこれに応じた前記第１或いは第２の磁石間の距離、または、前記第１或いは第２の磁石の磁力を調整することにより、前記第１或いは第２のスパッタ源の表面近傍の磁場の磁束密度を変化させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＰＺＴ系のペロブスカイト型酸化物において、焼結助剤ややアクセプタイオンを添加することなく、Ａサイトに５モル％以上のドナイオンを添加することを可能とする。
【解決手段】本発明のペロブスカイト型酸化物は、下記式（Ｐ）で表されることを特徴とするものである。
（Ｐｂ_{１−ｘ＋δ}Ｍ_ｘ）（Ｚｒ_ｙＴｉ_１−ｙ）Ｏ_ｚ・・・（Ｐ）
（式中、ＭはＢｉ及びランタニド元素からなる群より選ばれた少なくとも１種の元素である。０．０５≦ｘ≦０．４。０＜ｙ≦０．７。δ＝０及びｚ＝３が標準であるが、これらの値はペロブスカイト構造を取り得る範囲内で基準値からずれてもよい。） （もっと読む）

【課題】真空蒸着室内への有機物の着膜を防止すること。
【解決手段】有機ＥＬディスプレイパネル製造装置は、真空蒸着室９内で蒸着源８から発した有機材料を有機ＥＬディスプレイパネルに用いられる基板３に蒸着させるようになっている。そして、有機ＥＬディスプレイパネル製造装置は、基板３を保持する基板トレイ１と、基板トレイ１の蒸着源の側に突設された防着部材２と、を備えている。有機ＥＬディスプレイパネル製造時における真空蒸着室への着膜を著しく低減することができる。 （もっと読む）

【課題】被成膜基板に高精度に成膜することができるマスク、マスクの製造方法、電気光学装置の製造方法を提供する。
【解決手段】蒸着マスク２０は、マスク基体２２と、マスク基体２２上に形成されたドライフィルム２３とを有する。マスク基体２２は、シリコン又はシリコン化合物からなる。蒸着マスク２０の製造方法は、まず、マスク基体２２をＭＥＭＳ加工により形成する。次に、開口孔２１ａを有するマスク基体２２上に、熱転写法を用いてドライフィルム２３を転写する。マスク基体２２がシリコンからなるので、熱転写によってマスク基体２２に熱が加わったとしてもマスク基体２２が伸縮（変形）することを抑えることができる。その結果、マスク基体２２にドライフィルム２３を安定した状態で転写させることが可能となり、開口孔２１ｂの形状が変形したり開口孔２１ｂの位置がずれたりすることを抑えることができる。 （もっと読む）

【目的】金型表面の摩耗を抑制することができ、これにより、金型寿命を延ばし、製造コストを低廉化することができる温熱間鍛造用金型及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】温熱間鍛造用金型１は、金型意匠面２に４Ａ族（Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ）、５Ａ族（Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ）、６Ａ族（Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ）金属の一種又は二種以上を含む炭化物、窒化物若しくは炭窒化物、及び、４Ａ族（Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ）、５Ａ族（Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ）、６Ａ族（Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ）金属の一種又は二種以上とＳｉ及びＡｌの一種又は二種とを含む窒化物からなる群から選ばれる一種又は二種以上からなる単層又は多層の硬質被膜３を備え、硬質被膜３は、表面粗さＲａがいずれの方向から測定しても０．１μｍ以上０．６μｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】低ＲＡでも高ＭＲ比を有する磁気抵抗効果素子の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】 酸化性ガスに対するゲッタ効果がＭｇＯより大きい物質（但し、Ｔａ、ＣｕＮ、ＣｏＦｅ、Ｒｕ、ＣｏＦｅＢ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｃｒ、及びＺｒの１以上からなる、金属又は半導体を除く）を含有するターゲットをスパッタリングして、成膜室の内壁に被着する第一工程と、前記第一工程後に、前記成膜室においてＭｇＯターゲットに高周波電力を印加してスパッタリング法によりＭｇＯ層を形成する第二工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】SiOを蒸着材料としたガスバリア性フィルムにおいて、反応ガスを導入しなくても、黄色を呈さず高い透明性を備えながら、優れたガスバリア性を有するガスバリア性フィルムおよびその製造方法の提供。
【解決手段】 基材フィルムの少なくとも一方の面に、ＳｉＯｘ蒸着材料を用い、反応ガスを導入しない雰囲気下でエレクトロンビーム蒸着方法によりＳｉＯｘ膜を形成し、前記ＳｉＯｘ蒸着材料が結晶質のＳｉＯ_２の回折パターンを有するものであり、かつ、前記ＳｉＯｘ蒸着材料の真密度に対する嵩密度が７０％以上８０％未満であるガスバリア性フィルムの製造方法。該製造方法を用いて形成したことを特徴とするガスバリア性フィルムであって、前記ＳｉＯｘ膜の膜厚が２００ｎｍ以下であることを特徴とするガスバリア性フィルム。 （もっと読む）

【課題】ディスク基板上に、所望の膜厚分布の薄膜を形成する。
【解決手段】回転するディスク基板１１とスパッタターゲット２５との間に、ディスク基板に形成しようとする薄膜の膜厚分布に基づいてその形状が形成された遮蔽部材５０Ａを配置した状態で、ディスク基板１１の記録領域１０ａに対するスパッタリングを行う。これにより、スパッタターゲット２５から射出される粒子の一部が、形成しようとする薄膜の膜厚分布に基づいて遮蔽され、ディスク基板１１上の記録領域１０ａに、所望の膜厚分布の薄膜が形成される。 （もっと読む）

【課題】板状の導電性ダイヤモンド電極を、ＣＶＤ法を使用して製造すると、一方の面に非ダイヤモンド構造の炭素質が生成して電極性能を低下させる。この電極を賦活化して電極性能を高く維持する。
【解決手段】導電性ダイヤモンド電極の表面を、励起水素、励起酸素、及び励起アルゴンから選ばれる一種類以上と接触させる。表面に生成している非ダイヤモンド構造の炭素質が励起ガスと接触して、電極表面から除去される。 （もっと読む）

水蒸気及び気体に対する良好な透過遮断硬化を有する無機の遮断層を備え、プラスチック成形された包装要素であって、この包装要素には、所望の透過遮断硬化を有する材料を使用して真空中で生成されたコーティングが付与される。この真空コーティングには、磨耗及び腐蝕に対する保護及び機械的安定性の改良のために、オーバーラッカーを施す。 （もっと読む）