【課題】所定の有機膜と無機膜とを有する機能性フィルムの製造において、目的とする性能を有する機能性フィルムを安定して製造することを可能にする。
【解決手段】基板の表面にポリマーを主成分とする有機膜を成膜し、その後、真空成膜法によって無機膜を成膜し、かつ、前記無機膜の成膜を終了するまでは、真空中において前記有機膜の表面に接触することなく、前記有機膜を成膜した基板の処理を行なうことにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】制御された蒸気の供給を可能とする。
【解決手段】液体又は固体の物質を保持する保持部４と、保持部を冷却する冷却手段５と、保持部の温度を検知する検知手段６と、検知手段により検出した温度に基づき、冷却手段を制御する制御手段７と、を有し、制御手段により、冷却手段を用いて保持部の温度を制御することで、液体又は固体の物質の気化又は昇華を制御して、物質の蒸気を供給する。蒸気供給装置の置かれた雰囲気での、液体又は固体から気化又は昇華した蒸気の圧力を測定する手段９又は１０を有し、制御手段は、測定された圧力に基づき蒸気の圧力が所定の値になるように保持部の温度を制御する。 （もっと読む）

【課題】バリア性能が向上したバリア性積層体を提供する。
【解決手段】少なくとも１層の有機層と、少なくとも１層の無機層とを有し、前記有機層は、重合性化合物と、１分子中に２以上の重合開始能を有する部位を有する光重合開始剤を含む組成物を光照射して硬化させてなることを特徴とするバリア性積層体。 （もっと読む）

【課題】蒸着法による成膜を行う場合において、所望の蒸着材料のみが蒸着されることを可能にし、蒸着材料の利用効率を高めることによって製造コストを低減させると共に、均一性の高い膜を成膜することが可能な蒸着用基板を提供する。
【解決手段】基板上に開口部を有する反射層を形成し、基板および反射層上に透光性を有する断熱層をそれぞれ分離形成し、断熱層上に光吸収層をそれぞれ形成し、光吸収層上に材料層をそれぞれ形成することによって得られる蒸着用基板を作製する。 （もっと読む）

【課題】 ＣＮＴを基板上に直接合成する触媒ＣＶＤ法で、そのカイラリティを制御すること、特に金属的性質を示すアームチェア型ＣＮＴを選択的に合成することは極めて困難である。そこで、本発明の目的は、金属的性質を有するアームチェア型ＣＮＴを選択的に基板上に直接合成する方法を提供することにある。
【解決手段】 本発明は、ＣＮＴ合成時に触媒として作用する金属として準結晶組成から成るアルミニウム３元合金を用いて、それを熱処理することにより準結晶相を有する微粒子を形成して、その合金微粒子を触媒として用いる触媒ＣＶＤ法により、アームチェア型ＣＮＴを選択的に合成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、低屈折率ガラスにおいて優れた透過率特性を有し、フレアやゴースト等の発生の少なく、かつ優れたヤケ防止効果を有し、耐久性、耐擦性にも優れた反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置を提供する。
【解決手段】基板上に、第１層〜第５層を基板側からこの順に積層してなる反射防止膜であって、波長領域400〜700 nmの光において、基板の屈折率が1.42〜1.55であり、各層は所定の光学膜厚を有し、第１層はアルミナを主成分であり、第２層〜第４層は所定の屈折率を有し、第５層がシリカを主成分とする多孔質層である反射防止膜。 （もっと読む）

【課題】 蒸着法によって、生産上大きなトラブルの原因となるスプラッシュ等を防止し、安定して平坦な膜を成長することができる、薄膜形成方法、その薄膜形成方法で形成したリチウム電池用正極、その正極を備えるリチウム電池を提供する。
【解決手段】 るつぼ２１の原料装入空間２１ａを、１つまたは数個によって占めるような形状のペレット１５を、成形加工する工程と、成形加工によって準備されたペレット１５を、１個または数個、るつぼに装入して照射を行う工程とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置の配線および電極を形成するための銅合金薄膜を提供する。
【解決手段】フッ素：０．０１〜５原子％を含有し、さらにＣａ、ＭｇおよびＺｎの内の１種または２種以上を合計で０．０１〜２．５原子％含有し、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる成分組成を有する密着性に優れた銅合金薄膜。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、蒸着膜厚を長時間にわたって高精度に制御することができる仕組みを提供する。
【解決手段】本発明の有機ＥＬ素子の製造装置は、有機ＥＬ素子の素子基板に有機材料からなる蒸着材料を蒸着させるとともに、素子基板に蒸着される蒸着材料の膜厚を監視する膜厚監視部２３を備える。膜厚監視部２３は、光透過性を有する測定用板２６と、この膜厚監視部２３の一部に蒸着材料を付着させるための蒸着窓３０を有する防着板２７と、測定用板２６を回転移動可能に支持する駆動機構２８と、蒸着窓３０を通して測定用板２６に付着した蒸着膜厚を光学的に測定する反射率測定器２９とを有する。 （もっと読む）

【課題】材料の利用効率が高く、生産性に優れたプロセスで、蒸着膜を連続的に形成する。
【解決手段】真空槽内で基板４を走行させ、基板４上に蒸着原料の蒸着膜を連続形成する真空蒸着装置であって、基板の幅方向の任意の装置断面において、蒸発源４の蒸発面の中心から基板を結ぶ直線と、直線が基板４と交わる点の基板の蒸着面のたてた法線とでなす角度を入射角と定義するとき、基板４を曲線に沿って走行させる第１の曲線走行部６４と、基板４を直線に沿って走行させる第１の直線走行部６５とで構成され、入射角を法線から傾斜させた第１の成膜領域６０と、基板４を曲線に沿って走行させる第２の曲線走行部６６と、基板４を直線に沿って走行させる第２の直線走行部６７とで構成され、入射角を前記法線から傾斜させた第２の成膜領域６１とを有し、第１の成膜領域の蒸着面および第２の成膜領域の蒸着面が、蒸発面の中心を通る法線の両側に対向して配置されている。 （もっと読む）

【課題】水など種々の液体による濡れに対して比較的高抵抗性であるセラミック材料、かかる材料から作製された物品、かかる物品及び材料を製造する方法、並びにこれらの材料から形成したコーティングを用いて物品を保護する方法を提供する。
【解決手段】１実施形態は一次酸化物及び二次酸化物を含有する材料である。一次酸化物はセリウム及びハフニウムを含む。二次酸化物は希土類元素、イットリウム及びスカンジウムからなる群から選択される二次酸化物カチオンを含む。別の実施形態は一次酸化物及び二次酸化物を含有する材料である。一次酸化物はセリウム又はハフニウムを含む。二次酸化物は、（ｉ）プラセオジム又はイッテルビウムと、（ｉｉ）希土類元素、イットリウム及びスカンジウムからなる群から選択される別のカチオンとを含有する。 （もっと読む）

【課題】水など種々の液体による濡れに対して比較的高抵抗性であるセラミック材料、かかる材料から作製された物品、かかる物品及び材料を製造する方法、並びにこれらの材料から形成したコーティングを用いて物品を保護する方法が提供される。
【解決手段】１実施形態は耐濡れ性物品２００である。物品２００は表面連結細孔含量約５体積％以下であるコーティング２０２を含む。コーティング２０２は、一次酸化物と二次酸化物を含有する材料を含有し、（ｉ）一次酸化物がセリウム、プラセオジム、テルビウム及びハフニウムからなる群から選択されるカチオンを含み、（ｉｉ）二次酸化物が一次酸化物より低い表面エネルギーを有し、希土類元素、イットリウム及びスカンジウムからなる群から選択されるカチオンを含む。 （もっと読む）

【課題】電気を流すことができる。
【解決手段】基板１１と、基板１１上に形成された、開口孔を有する絶縁膜１２と、開口孔の底部に形成された、内部にアルカリ金属原子（またはハロゲン原子）１６ａを有する筒状炭素構造体１４と、を有する配線構造１０により、基板１１と、基板１１上に形成された、開口孔を有する絶縁膜１２と、開口孔の底部に形成された、内部にアルカリ金属原子（またはハロゲン原子）１６ａを有する筒状炭素構造体１４とにより、筒状炭素構造体１４が金属性を示す。 （もっと読む）

【課題】単独膜が生成されることが無く、濃度ムラも無く共蒸着を行うことができるインライン式成膜装置を提供する。
【解決手段】搬送方向Ｔに垂直な基板４の幅方向に長く、搬送方向Ｔの上流側及び下流側に互いに平行に配置された開口部２ａ、３ａを備え、異なる成膜材料Ａ、Ｂを収容する２つの蒸着源２、３と、搬送方向Ｔの上流側及び下流側に互いに平行に配置され、共蒸着室１と隣接する他の蒸着室とを仕切る２つの防着板５_A、５_Bと、防着板５_A、５_Bにより制限された開口部２ａ、３ａからの蒸気の基板４における蒸着範囲と一致するように、開口部２ａ、３ａからの蒸気の蒸着範囲を制限する衝立６とを有し、基板４において、単独膜の成膜を防止して、混合膜のみを成膜するようにした。 （もっと読む）

【課題】ホスト材料に対するゲスト材料の割合が非常に小さい場合、ワークの表面に蒸着するゲスト材料の割合やゲスト材料の分布状態を精度良く保つことが困難である。
【解決手段】真空チャンバ１１と、この真空チャンバ１１内に配される第１および第２の蒸着源１６，１７と、これら第１および第２の蒸着源１６，１７から供給されるゲスト材料１４およびホスト材料１５が表面に蒸着される基板１３を真空チャンバ１１内にて固定状態で保持するワーク保持手段３３とを具えた本発明による真空蒸着装置１０は、第１の蒸着源１６とワーク保持手段３３に保持される基板１３との間に位置して基板１３の表面に対するゲスト材料１４の蒸着量をホスト材料１５の蒸着量よりも低減させるための遮蔽部材１８と、この遮蔽部材１８を第１の軸線Ｏ₂回りに回転させると共に第２の軸線Ｏ₁に関して運動させる遮蔽部材駆動機構１９と、この遮蔽部材駆動機構１９を介して遮蔽部材１８を駆動する単一の駆動モータ２５とをさらに具える。 （もっと読む）

【課題】太陽電池の光吸収層を形成するためのＣｕ−Ｉｎ−Ｇａ−Ｓｅ四元系合金膜を形成するときに使用するＣｕ−Ｉｎ−Ｇａ三元系焼結合金スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。
【解決手段】原料粉末として、Ｇａ：２０〜５０質量％を含有し、残部がＣｕおよび不可避不純物からなるＣｕ−Ｇａ二元系母合金粉末、Ｉｎ：２０〜７０質量％を含有し、残部がＣｕおよび不可避不純物からなるＣｕ−Ｉｎ二元母合金粉末並びに純Ｃｕ粉末を用意し、これら原料粉末をＩｎ：４０〜６０質量％、Ｇａ：１〜４５質量％を含有し、残部がＣｕからなる成分組成となるように配合し混合して混合粉末を作製し、得られた混合粉末をプレス成形して成形体を作製し、得られた成形体を焼結する。 （もっと読む）

【課題】光学素子を成形から成膜に至るまで時間ロスのない工程設定を行い生産のリードタイムの短縮化を図る。
【解決手段】成膜機５０において成膜に要する時間をＴ１、成膜機５０の処理室５８の数をＮ１（自然数）、成形機１０において成形に要する時間をＴ２、成形機１０の処理室２２の数をＮ２（自然数）とした場合に、Ｔ１＞Ｔ２のときはＴ１／Ｔ２≦Ｎ１，Ｎ２＝１であり、Ｔ１＜Ｔ２のときはＴ２／Ｔ１≦Ｎ２，Ｎ１＝１とした。 （もっと読む）

【課題】大きな変形を伴う基材の表面に形成した場合においても、剥離及びクラックが発生しにくく且つ耐蝕性が高い炭素質薄膜を実現できるようにする。
【解決手段】炭素質薄膜は、基材の表面に形成され、炭素同士が結合したＣ−Ｃ成分及び炭素とシリコンとが結合したＳｉＣ成分を含む膜本体を備えている。膜本体の表面における酸化シリコン成分の比率は、０．０５以下である。 （もっと読む）

【課題】太陽電池の光吸収層を形成するためのＣｕ−Ｉｎ−Ｇａ−Ｓｅ四元系合金膜を形成するときに使用するＣｕ−Ｉｎ−Ｇａ三元系焼結合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】Ｉｎ：４０〜６０質量％、Ｇａ：１〜４５質量％を含有し、残部がＣｕからなる成分組成を有するＣｕ−Ｉｎ−Ｇａ三元系焼結合金スパッタリングターゲットであって、このスパッタリングターゲットの素地中に分散しているＩｎ含有合金相の最大粒径が１０μｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機エレクトロルミネッセンス素子を製造する際の大面積成膜における膜厚制御性に優れた蒸着源を提供する。
【解決手段】真空チャンバー１内に複数の放出口１１を備えた蒸着源１０において、成膜材料を収容する坩堝１４と複数の放出口１１の間に分岐点１４ｃを設け、分岐点１４ｃより坩堝１４側の供給流路１４ａにバルブ１２を設ける。バルブ１２から各放出口１１までのコンダクタンスが均等になるように、分岐点１４ｃから分岐流路１４ａを経てそれぞれの放出口１１に至るまでの流路の長さを等しくする。 （もっと読む）