【課題】原料粉体表面に均一なナノメートルオーダの粒子を付着せしめる方法及びこの方法を利用して得られた燃料電池用触媒の提供。
【解決手段】トリガ電極とカソード電極とが絶縁碍子を挟んで隣接して配置されてなり、カソード電極とトリガ電極との周りに同軸状にアノード電極が配置されている同軸型真空アーク蒸着源を備えている同軸型真空アーク蒸着装置を用い、トリガ電極とアノード電極との間にトリガ放電をパルス的に発生させ、カソード電極とアノード電極との間にアーク放電を断続的に誘起させ、原料粉体にナノ金属粒子を付着せしめる。粒径１０〜１００ｎｍのカーボン粉体の表面に、上記のようにして作製したナノ粒子を金属触媒として担持させる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、透明導電膜と基材の熱膨張係数の違いに起因する、透明導電膜のクラック等の損傷を抑制して、耐熱性、耐薬品性、耐プレス性等の機械的特性に優れた透明導電性基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の透明導電性基板の製造方法は、樹脂からなる基材と該基材の一面に金属酸化物からなる透明導電膜を配してなる透明導電性基板の製造方法であって、前記基材を延伸状態に保持する工程と、前記延伸状態を保ちつつ、前記基材の一面に前記透明導電膜を形成する工程と、前記延伸状態を解除し、前記透明導電膜に圧縮応力をかける工程と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 従来と比べて担持する物質の使用量を少なくすることによりコストを低減させた担持微粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る担持微粒子の製造方法は、内部形状が多角形である真空容器内に、表面に複数の細孔２１を有する微粒子３を収容し、前記真空容器を回転させることにより該真空容器内の微粒子を攪拌あるいは回転させながらスパッタリングを行う担持微粒子の製造方法であって、前記担持微粒子における前記超微粒子又は薄膜は、前記複数の細孔２１内より前記微粒子３の見掛け表面に多く担持されており、前記担持微粒子は、前記超微粒子又は薄膜が担持されていない前記細孔２１を有し、前記担持微粒子は、１次電池の電極触媒、２次電池の電極触媒、燃料電池の電極触媒、１次電池の電極材料、２次電池の電極材料、及び燃料電池の電極材料のうち少なくとも一つに用いられるものである。 （もっと読む）

【課題】蒸着装置の処理室の内面などに堆積した堆積物を、処理室を開放することなく除去できるようにする。
【解決手段】蒸着により被処理体Ｇを成膜処理する蒸着装置１３であって、被処理体Ｇに成膜材料の蒸気を供給する蒸着ヘッド６５と、成膜材料を蒸発させる蒸気発生部７０〜７２と、クリーニングガスを発生させるクリーニングガス発生部８６と、蒸気発生部７０〜７２から蒸着ヘッド６５に成膜材料の蒸気を供給する蒸気供給配管８１〜８３と、クリーニングガス発生部８６から蒸着ヘッド６５にクリーニングガスを供給するクリーニングガス供給配管８７とを備え、蒸気供給配管８１〜８３とクリーニングガス供給配管８７とに、開閉弁７５〜７８を設けた。 （もっと読む）

【課題】周期表第２Ａ族に属する元素の酸化物からなるＰＤＰ用蒸着材の耐湿性を改善し、電子ビーム蒸着法を使用して基板上に保護膜を成膜するためのターゲット材として使用する焼結体であって、得られた保護膜の密度及び耐スパッタ性を低下させることなく、優れた膜特性、例えば、ＰＤＰ用保護膜として使用した場合の放電特性などを向上させることが可能な焼結体及びその製造方法、並びにこの焼結体をターゲット材として得られたＰＤＰ用保護膜を提供することである。
【解決手段】周期表第２Ａ族に属する元素の酸化物からなる相対密度が９０％以上の焼結体で、平均粒子径が１００μｍ以上であるＰＤＰ保護膜用蒸着材であり、また、それらの酸化物単体および、それらの２つ以上の組合せによる混合物あるいは固溶体からなるＰＤＰ保護膜用蒸着材で、更に、有機シリケートで表面処理したことを特徴とするＰＤＰ保護膜用蒸着材である。 （もっと読む）

本発明は、特に鋼のキャリヤ材又は鋳込材でできたピストンリング（１）に関する。このピストンリングは、各々が金属窒化物の少なくとも２つの層（２０、２１）からなる周期構造（１１）を各々が有する周期的な多層系（１０）からなる耐摩耗コーティング（４）を有する。この多層系は、夫々の層（２０、２１）の厚さが２ｎｍ以上１５ｎｍ未満であり、かつ多層系の厚さが４．５μｍを超えた厚さの超格子構造を特徴とし、また、周期構造（１１）内の互いに隣接する層（２０、２１）は、異なる金属元素を含む。
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【課題】基板成形後からスパッタ開始までの時間を管理し、基板に吸着したガスや水分の影響を極力小さくすることにより、記録感度のばらつきを制御し、品質を安定化させることが可能な光情報記録媒体の製造方法の提供。
【解決手段】（１）基板成形直後からスパッタ開始までの時間（スパッタ開始時間）を管理し、スパッタ開始時間が予め設定した一定時間内に収まる基板のみをスパッタする光情報記録媒体の製造方法。
（２）基板１枚毎にスパッタ開始時間を管理する（１）記載の光情報記録媒体の製造方法。
（３）スパッタ開始時間を６０秒以内とする（１）又は（２）記載の光情報記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ラビング処理することなく、所望の品質を有する配向膜を形成できる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置は、有機材料を含むターゲット部材の表面にイオン粒子を照射して、ターゲット部材より配向膜を形成するためのスパッタ粒子を放出させるスパッタ装置と、基板の表面がターゲット部材の表面と対向しないように基板を保持する基板保持部材と、ターゲット部材からのスパッタ粒子が供給可能な位置に配置され、ターゲット部材から供給されたスパッタ粒子を基板の表面に供給するようにスパッタ粒子の進行方向を変える所定面を有する所定部材とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 Ｉｂ族元素とＩＩＩｂ族元素とＳｅを含むＶＩｂ族元素とからなるカルコパイライト構造の半導体薄膜半導体薄膜の製造及び光電変換素子の製造に際し、ＣＩＧＳ系薄膜等の半導体薄膜の製膜過程におけるセレン原料の浪費を防止することを課題とする。
【解決手段】 Ｉｂ族元素とＩＩＩｂ族元素とＳｅを含むＶＩｂ族元素とからなるカルコパイライト構造の半導体薄膜の製造方法であって、上記半導体薄膜は製膜過程において、プラズマによってクラッキングされてラジカル化したセレンを用いたことを特徴とする半導体薄膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ラビング処理することなく、所望の品質を有する配向膜を形成できる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置は、配向膜を形成するための有機材料の固体物を第１の温度に加熱して、有機材料の液状体を生成する第１処理装置と、第１処理装置で生成された液状体を第１の温度よりも高い第２の温度に加熱して、有機材料の蒸気を生成する第２処理装置とを備え、第２処理装置で生成された有機材料の蒸気を基板に供給して、基板上に有機材料からなる配向膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】成形物もしくは金型の温度が２００℃をこえるような高い温度における長時間、多回数の成形・転写に対して、精密金型としての寸法精度、離型性に優れる。
【解決手段】基材表面に形成される含フッ素薄膜であって、該含フッ素薄膜は下記式（１）で表される化合物、またはこの化合物のオリゴマーを出発原料として薄膜化される。


Ｒｆは含フッ素官能基を、Ｒ¹は直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を、Ｒ²はアルキル基を、ｎは２以上の整数をそれぞれ表す。 （もっと読む）

【課題】各グリル部を構成する全てのグリルの変形を補償して、グリル間の変形量の差を最小化できる構造のマスクを提供する。
【解決手段】本発明のマスク100は、少なくとも一つのグリルからなる多数のグリル部112,113を含み、最外縁にあるグリル部の第１グリル部に形成されたグリルの一部または全部が傾斜している。また、上端コーナー部に形成されたグリル部112のグリル112A−1〜112A-4は、その下部がマスクの内側方向に向かって傾斜した構造を有し、下端コーナー部に形成されたグリル部113のグリル113A−1〜113A-4は、その下部がマスクの外側方向に向かって傾斜した構造を有する。傾斜方向は、引張力（矢印方向）の作用方向と反対の内側方向である。 （もっと読む）

【課題】基板上に膜を形成する際に、異物の発生を抑制し、膜を良好に形成できる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置は、ターゲット材料にイオン粒子を照射して、ターゲット材料より膜を形成するためのスパッタ粒子を放出させるスパッタ装置と、基板を保持して移動可能であり、ターゲット材料からのスパッタ粒子が供給可能な位置に基板を配置可能な基板保持部材と、ターゲット材料と基板との間に配置され、ターゲット材料からのスパッタ粒子の少なくとも一部が通過可能な開口を有する所定部材とを備える。所定部材は、ターゲット材料と同じ材料によって形成されている。 （もっと読む）

【課題】ＭｇＯ保護膜の耐久性を損うことなく、しかもこのＭｇＯ保護膜を用いたＦＰＤの放電応答特性及び発光効率を向上する。
【解決手段】ＦＰＤ用のＭｇＯ保護膜１３の表面に窪み１３ａを形成するとともに粒子１３ｂを付着させる表面処理用蒸着材１１は、ＭｇＯを主成分とし平均粒径が０．５μｍ〜１ｍｍである。この表面処理用蒸着材１１をＭｇＯ保護膜１３の表面にスプラッシュさせることにより、平均穴径５０ｎｍ〜１００００ｎｍの窪み１３ａが形成され、かつ平均粒径５０ｎｍ〜１００００ｎｍの粒子１３ｂが付着される。 （もっと読む）

【課題】ダウンタイムを少なくし、かつ蒸着材料の変質の発生を伴うことなく蒸着装置内をクリーニングすることにより、有機物付着の少ない蒸着装置で素子歩留まりが良好な有機ＥＬ素子を短時間の製造プロセスにて製造可能な有機ＥＬ素子の製造装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】基板２１の上で、陽極２２と陰極２５との間に有機発光層の膜２３，２４を積層して構成された有機ＥＬ素子における有機発光層の膜を形成すべく、真空炉１１内の蒸発源１２に対向する位置に基板２１を配置して基板２１上に蒸発源１２からの蒸着物質を蒸着して有機ＥＬ素子を製造する手段において、真空炉１１の外部に設置した酸素ラジカル発生機構１５から導入した酸素ラジカルガスにより真空炉１１内に残存した有機蒸着物片を除去するクリーニングを行い、その後に有機発光層２３，２４の製膜を行っている。 （もっと読む）

【課題】ボイル殺菌やレトルト殺菌等の加熱殺菌や加熱調理等による加熱処理がなされても密着性が低下せずに、加熱処理前に有していた当初のガスバリア性が劣化しないようにした、加熱処理耐性を有するガスバリア性積層体の提供を目的とする。
【解決手段】ポリエチレンテレフタレート製基材上に少なくとも無機酸化物からなる蒸着薄膜層が積層されているガスバリア性積層体であって、無機酸化物からなる蒸着薄膜層が積層されている基材の少なくとも一方の表面には放電処理を利用した前処理により前処理部が形成されていると共に、Ｘ線光電子分光法により測定した当該処理部のＣ−Ｃ結合ピークとＣ−Ｏ結合ピークとのピーク間距離が１．６５〜１．７６ｅＶであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】導電性が高い透明導電膜を提供する。
【解決手段】Ｇａ、ＴｉおよびＯから実質的になる透明導電膜。ＧａおよびＴｉの合計量（モル）に対し、Ｔｉの量（モル）が０．０２以上０．９８以下である前記の透明導電膜。Ｇａ、ＴｉおよびＯから実質的になる焼結体。ＧａおよびＴｉの合計量（モル）に対し、Ｔｉの量（モル）が０．０２以上０．９８以下である前記の焼結体。チタンを含有する粉末と、ガリウムを含有する粉末とを混合して得られる混合物を成形して成形体を得、該成形体を焼結することにより得られる前記の焼結体。前記の焼結体をターゲットとして、パルス・レーザー蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法およびＥＢ蒸着法から選ばれる方法により成膜する透明導電膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】プラズマ耐性が高い保護層を有するプラズマディルプレイパネルの提供。
【解決手段】放電空間を介して対向する前面基板および背面基板と、前記前面基板上および／または前記背面基板上の放電電極と、前記放電電極を被覆する誘電体層と、前記誘電体層上の保護層とを有し、前記保護層の少なくとも一部がマイエナイト型化合物からなる、プラズマディスプレイパネル。 （もっと読む）

【課題】積層型固体電解コンデンサの作製に適し、エッチングＡｌ箔よりも高容量密度であり、かつ、同等の電極抵抗を有し、さらに、高価な希少金属であるＴａやＮｂの使用量を減らした安価な電解コンデンサ用電極箔およびその製造方法を提供する。
【解決手段】銅箔（８）の上に、ＴａまたはＴａ合金と、Ｔａと相溶しない異相成分が、粒径１ｎｍ〜１μｍの範囲で均一に分布した合金薄膜（９）を形成し、得られた合金薄膜（９）の上に、ＴａまたはＴａ合金の緻密層（１０）を形成し、熱処理をすることにより、ＴａまたはＴａ合金、および前記異相成分を粒調整した後に、緻密層（１０）の上に、ＡｌまたはＡｌ合金からなる集電体層（１２、１３）を形成し、銅箔および異相成分を除去する。あるいは、ＴａまたはＴａ合金の代わりに、ＮｂまたはＮｂ合金を用いることができる。 （もっと読む）

【課題】有機EL素子などの製造工程で形成される各層における相互汚染を回避でき、しかも、フットプリントも小さく、生産性の高い成膜システムを提供する。
【解決手段】基板に成膜する成膜装置１３であって、処理容器３０の内部に、第１の層を成膜させる第１成膜機構３５と、第２の層を成膜させる第２成膜機構３６を備える。処理容器３０内を減圧させる排気口３１を設け、第１成膜機構３５を、第２成膜機構３６よりも排気口３１の近くに配置した。第１成膜機構３５は、例えば基板に第１の層を蒸着によって成膜させ、第２成膜機構３６は、例えば基板に第２の層をスパッタリングによって成膜させる。 （もっと読む）