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Fターム[4K029CA04]の内容

物理蒸着 (93,067) | 被覆処理方法 (12,489) | イオンプレーティング、イオンビーム蒸着 (1,603) | 反応性 (914)

Fターム[4K029CA04]に分類される特許

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【課題】高温・高湿環境でガスバリア性に対して優れた耐久性を有するガスバリア積層体を提供することを目的とする。
【解決手段】プラスチックフィルム基材の両面または片面に酸化珪素膜を積層するガスバリア積層体において、前記プラスチックフィルム基材の前記酸化珪素膜を積層する面の中心線平均粗さRaが3〜30nmであり、高分解能ラザフォード後方散乱法(HR−RBS法)測定によって算出される前記酸化珪素膜の密度が1.9〜2.6g/cmの範囲内であること、酸素と珪素の比(O/Si)が1.4〜2.0の範囲内であることにより、高温高湿環境下でガスバリア性の劣化を抑えることができるガスバリア積層体を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】ホローカソード型プラズマガン3を使用してプラズマアシスト蒸着を行う装置において、蒸着プロセス室の圧力上昇による蒸着膜の膜質劣化等の問題を解消し、透明で緻密な酸化物膜等が得られる蒸着装置を提供する。
【解決手段】ホローカソード型プラズマガン3のプラズマ放出部103と蒸着室101との間を圧力的に仕切りかつプラズマが蒸着室101へ通過可能な孔21を有する隔壁2を有する。プラズマアシスト蒸着を行うためのホローカソード型プラズマガン3と、蒸着室101と、プラズマガン3のプラズマ放出部103と蒸着室101との間を圧力的に仕切りかつプラズマが蒸着室101へ通過可能な孔21を有する隔壁2とを有する。 (もっと読む)


【課題】CrN膜について耐摩耗性が優れたものが安定して得られるようにし、またはそのような耐摩耗性および密着性に優れたCrN膜が形成された耐摩耗性CrN膜形成体とすることである。
【解決手段】CrN膜についてX線回折分析で測定される結晶面の(111)面、(200)面、(220)面、(222)面、(311)面および(400)面に対応するピーク強度の合計を100%とした場合に、(111)面のピーク強度が8〜40%であり、かつシェラー法で求められる(111)面における結晶子サイズが25nm以下である耐摩耗性CrN膜とする。(111)面のピーク強度が所定範囲の割合であり、かつ(111)面における結晶子サイズを所定範囲にすると、結晶方位の異方性によって影響を受けているものと考えられ、耐摩耗性が顕著に向上する。 (もっと読む)


【課題】連続稼動中において、プラズマガンに投入するパワーを経時的に上昇させることなく、均一な膜厚で成膜することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバ13と、真空チャンバの内部に備えられた成膜材料22にプラズマを放出するプラズマガン9と、プラズマガンに放電ガスを供給する放電ガス供給部とを有する成膜装置は、放電ガスの流量を変更することができるマスフローコントローラ25と、マスフローコントローラに接続された、マスフローコントローラによる流量の変更を予め決められた設定に基づいて制御する制御回路26と、を有する。 (もっと読む)


【課題】 真空槽内で被処理物を移動させるための移動手段と、この移動手段を覆う防着カバーと、を備え、移動手段を介して被処理物にバイアス電力が供給されると共に、このバイアス電力の電圧成分が所定の範囲内で任意に調整可能な成膜装置において、防着カバーと移動手段との間に放電現象が生じるのを防止しつつ、当該防着カバーによる防着機能が確実に維持されるようにする。
【解決手段】 移動手段としての自公転ユニット30は、防着カバーとしての防着板66および防着壁68によって覆われている。特に、自公転ユニット30内の公転板72と防着板66との間隔dは小さい。従って、これら両者間に不本意な放電現象が生じることが懸念される。本発明では、この間隔dが3[mm]〜10[mm]とされる。これにより、当該放電現象の発生が防止される。併せて、防着板66による防着機能も維持される。 (もっと読む)


【課題】取り扱い性に関して好ましい易滑性を有しつつ、必要な透明性又はヘーズ特性を達成する透明導電性積層体を提供する。また、このような透明導電性積層体を有する透明タッチパネルを提供する。
【解決手段】透明有機高分子基板1、透明有機高分子基板の一方の面上の透明導電層2、及び透明有機高分子基板の他方の面上の、凹凸表面を有する硬化樹脂層3を有する透明導電性積層体10、並びにこのような透明導電性積層体を有する透明タッチパネルとする。ここで、硬化樹脂層3が、物性の差に基づいて互いに相分離する2種の重合性成分を含有するコーティング組成物から形成されることによって凹凸表面を有しており、硬化樹脂層3が、平均一次粒子径200nm以上の無機及び/又は有機微粒子を含有しておらず、硬化樹脂層3が、平均一次粒子径200nm未満の金属酸化物及び/又は金属フッ化物超微粒子を含有している。 (もっと読む)


【課題】耐摩耗性・低摩擦性能、耐摩耗性、耐食性に優れた硬質炭素被膜を有する摺動部材を提供する。
【解決手段】酸化アルミニウム層で覆われているアルミニウム合金を基材とし、前記基材の外側に前記基材側から順に、導電層、前記基材との密着性を向上させ、前記基材の硬度を補うためのバッファー層、及びダイヤモンドライクカーボン層を形成する。 (もっと読む)


【課題】本発明の課題は、硬度と耐酸化性に優れた硬質皮膜およびその製造方法を提供することにある。
【解決手段】本発明の硬質皮膜は、[(Nb1-d ,Tada ,Al1-a-b-c ,Sib ,Bc](C1-XX)からなる硬質皮膜であって、0.4≦a≦0.6、0<b+c≦0.15、0≦d≦1、0.4≦X≦1(式中、a、b、c、dおよびXは互いに独立して、原子比を示す:なおbおよびcは、一方が0であってもよいが、両方が0になることはない)であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】プラズマアシスト源を用いたイオンプレーティング法による成膜を行いながら、第3元素を膜中に添加することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜空間に所定ガスのプラズマ105を生成し、成膜材料12の蒸気をプラズマ105を通過させた後、基板14上に堆積させることにより圧電膜を成膜する。圧電膜に添加すべき元素を含む部材16をプラズマ105から所定の距離に配置し、部材16に所定のバイアス電圧を印加することにより。プラズマ105により部材16をスパッタリングし、スパッタ蒸発した元素を圧電膜に添加する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、MoNの特性とTiAlNの特性とを兼備し、特に耐摩耗性に優れた被覆膜を備えた表面被覆切削工具を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の表面被覆切削工具は、基材とその上に形成された被覆膜とを備え、該被覆膜は、MoNy(ただし式中yは0.01≦y≦0.2)で表されるMoとNとの固溶体、Mo2N、MoNまたはこれらの混合体からなるA層と、Ti1-xAlxN(ただし式中xは0.3≦x≦0.7)からなるB層とが交互に各々2層以上積層されてなり、該A層の層厚λaと該B層の層厚λbとは、それぞれ2nm以上1000nm以下であり、その層厚比λa/λbは、基材側から被覆膜の最表面側にかけて増大し、かつ基材に最も近いA層とB層の層厚比λa/λbは0.1以上0.7以下であり、最表面側に最も近いA層とB層の層厚比λa/λbは1.5以上10以下であることを特徴としている。 (もっと読む)


本発明は、気相からの堆積により、特にPVD(物理蒸着)又は反応性PVD法に従って気相からの物理的な堆積により、基材コンポーネントの表面処理及び/又はコーティングするための機構に関する。複数の基材キャリアと複数のコーティング及び/又は処理ユニット、例えば、蒸発器の源、陰極、ターゲット、マグネトロン、フィラメント陰極、及びエッチング陽極などは、真空にすることができる堆積又は処理チャンバー内に配置されている。システムのより経済的な利用のために、設備に1つのバッチで導入される基材コンポーネントを、異なる処理(例えば、コーティングや、表面処理など)にかけることができるように、モジュール方式で装備することができる。さらに、本発明は、基材コンポーネントの表面処理及び/又はコーティングするための新たな方法を提供し、この方法を使用することにより、PVD(物理蒸着)又は反応性PVD法によるコーティング設備が大幅にコスト効率よく操作させることができる。それは、以下の方法の工程を特徴とする:a)基材コンポーネントのための所望のコーティング又は処置プログラムに従って、堆積又は処理チャンバー内に、モジュールから、コーティング及び/又は処置ユニット(蒸発器、陰極、ターゲット、マグネトロン、フィラメント陰極、及び腐食性の陽極など)及び遮蔽素子を作り上げ、b)同じ処理を受けることになる基材コンポーネントを基材キャリアに設置し、c)堆積または処理チャンバーを閉じ、d)1つのバッチで、基材キャリア上にグループで結合される基材コンポーネントに対する個々の処理又はコーティングプログラムを実行する。
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【課題】本発明は、MoNの特性とCrAlNの特性とを兼備し、特に耐摩耗性に優れた被覆膜を備えた表面被覆切削工具を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の表面被覆切削工具は、基材とその上に形成された被覆膜とを備え、該被覆膜は、MoNy(ただし式中yは0.01≦y≦0.2)で表されるMoとNとの固溶体、Mo2N、MoNまたはこれらの混合体からなるA層と、Cr1-xAlxN(ただし式中xは0.3≦x≦0.8)からなるB層とが交互に各々2層以上積層されてなり、該A層の層厚λaと該B層の層厚λbとは、それぞれ2nm以上1000nm以下であり、その層厚比λa/λbは、基材側から被覆膜の最表面側にかけて増大し、かつ基材に最も近いA層とB層の層厚比λa/λbは0.1以上0.7以下であり、最表面側に最も近いA層とB層の層厚比λa/λbは1.5以上10以下であることを特徴としている。 (もっと読む)


本発明は、硬い構成要素を形成している粉末とバインダー相を製粉して混合し、粉末混合物から所望の形状の物体を形成し、該形成された物体を焼結し、該焼結された物体を高精度で研磨して、所望の形状及び寸法を有するインサートを形成し、所望により、刃先に丸みを付け、そして対摩耗性非ダイアモンド又は非ダイアモンドに類似するコーティングを該研磨されたインサートに提供することにより、高い寸法精度が必要とされている切削工具インサートを製造する方法に関する。本方法によれば、該コーティング操作前に、該研磨されたインサートは、表面領域のミクロ構造が有意な寸法変化を起こすことなく再構成されるような時間に亘って、不活性雰囲気又は真空又は他の保護的な雰囲気において、バインダー相の固相線を下回って熱処理される。このようにして、工具寿命及び寸法精度が予想外に向上したインサート類が得られた。 (もっと読む)


【課題】高温での安定性に優れるとともに、刃先のチッピングを抑制することにより工具寿命を長期化させた表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】基材と基材の表面上に形成された被覆層とを含み、被覆層は、A層とB層とが交互にそれぞれ1層以上積層された交互層を含み、A層は、AlとCrとを含む窒化物からなり、A層を構成する金属原子の総数を1としたときのCrの原子数の比が0.05よりも大きく0.4以下であり、B層は、AlとVとを含む窒化物からなり、B層を構成する金属原子の総数を1としたときのVの原子数の比が0.05以上0.4以下である表面被覆切削工具である。 (もっと読む)


【課題】 回転工具の切削加工のように切刃に断続的に衝撃がかかる切削条件においても工具寿命が長い切削工具を提供する。
【解決手段】 基体の表面がTiとAlとを含む窒化物または炭窒化物からなる被覆層で被覆された切削工具であって、前記被覆層のCu−Kα線のX線回折測定についての(111)面および(200)面の回折ピークの回折角度をそれぞれ2θ(111)、2θ(200)とするとき、前記被覆層の未研磨面で測定したときの値2θ(111)N、2θ(200)Nが、前記被覆層を厚み方向に対して斜めに研磨した研磨面にて測定したときの値2θ(111)G、2θ(200)Gに比べてそれぞれ0.1°以上低角度側に検出されることを特徴とする切削工具である。 (もっと読む)


【課題】 絶縁性膜の生成時において、当該絶縁性膜が陽極の表面に付着するのを防止し、ひいてはプラズマの安定化を図る。
【解決手段】 本発明に係るイオンプレーティング方式の成膜装置10によれば、陰極としてのフィラメント40と陽極としてのアノード42との間にプラズマが発生する。そして、このプラズマによって、膜材料をイオン化し、イオン化された膜材料を被処理物28,28,…の表面に照射することで、当該被処理物28,28,…の表面にcBN膜等の絶縁性膜を形成する。このとき、フィラメント40については、積極的に加熱されるので、当該フィラメント40の表面には絶縁性膜は付着しない。一方、アノード42についても、その表面に当該絶縁性膜が付着するのを防止し得る程度に、自己加熱させる。これにより、これら両者間に発生するプラズマの安定化が図られる。 (もっと読む)


【課題】本願発明は、高硬度化による耐摩耗性と、高靭性化による耐欠損性に優れた旋削加工用の硬質膜被覆工具を提供すること。
【解決手段】旋削加工用の硬質皮膜被覆工具において、硬質皮膜は基体表面から第1硬質皮膜、第2硬質皮膜が被覆され、第1硬質皮膜は、(AlMe1−aで示され、但し、35≦a≦65、0.85≦e/f≦1.25、第2硬質皮膜は、(Ti1−hで示され、但し、1≦h≦30、0.85≦m/p≦1.25、であり、該第1硬質皮膜と該第2硬質皮膜のX線回折における(200)面の面間隔(nm)を夫々、d1、d2としたときに、1.01≦d2/d1≦1.05であり、該第2硬質皮膜は柱状組織構造を有し、該柱状組織構造の結晶粒はB成分に組成差を有する組成変調構造を有していることを特徴とする旋削加工用硬質皮膜被覆工具。 (もっと読む)


【課題】基板内の成膜のカバレッジ性を改善することができ、異物があった場合においても、この異物に起因する欠陥部が生じる虞が無く、外部からの酸素や水分の進入を防止することができ、薄膜の信頼性を確保することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】基板Wを収納する真空容器と、この真空容器内かつ基板Wに対向して配設される複数対のハース4A、4B、5A、5Bと、これらのハース4A、4B、5A、5Bにプラズマビームを照射するプラズマガン6、7とを備え、ハース4A、4Bとハース5A、5Bとを時系列的に切り替えることにより、基板W上に成膜を行う。 (もっと読む)


【課題】本発明は、VNの特性とTiAlNの特性とを兼備し、特に耐摩耗性に優れた被覆膜を備えた表面被覆切削工具を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の表面被覆切削工具は、基材とその上に形成された被覆膜とを備え、該被覆膜は、VNからなるA層と、Ti1-xAlxN(ただし式中xは0.3≦x≦0.7)からなるB層とが交互に各々2層以上積層されてなり、該A層の層厚λaと該B層の層厚λbとは、それぞれ2nm以上1000nm以下であり、その層厚比λa/λbは、基材側から被覆膜の最表面側にかけて増大し、かつ基材に最も近いA層とB層の層厚比λa/λbは0.1以上0.7以下であり、最表面側に最も近いA層とB層の層厚比λa/λbは1.5以上10以下であることを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】本発明は、AlNの特性とCrAlNの特性とを兼備し、特に耐摩耗性に優れた被覆膜を備えた表面被覆切削工具を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の表面被覆切削工具は、基材とその上に形成された被覆膜とを備え、該被覆膜は、AlNからなるA層と、Cr1-xAlxN(ただし式中xは0.3≦x≦0.8)からなるB層とが交互に各々2層以上積層されてなり、該A層の層厚λaと該B層の層厚λbとは、それぞれ2nm以上1000nm以下であり、その層厚比λa/λbは、基材側から被覆膜の最表面側にかけて増大し、かつ基材に最も近いA層とB層の層厚比λa/λbは0.1以上0.7以下であり、最表面側に最も近いA層とB層の層厚比λa/λbは1.5以上10以下であることを特徴としている。 (もっと読む)


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