【課題】 回転している回転体に支持された状態でスパッタ処理を受ける被処理物の冷却を、回転体に冷却機構を設けずに実現する真空処理装置を提供すること。
【解決手段】 真空室と、被処理物の支持部を有し、前記真空室内に回転可能に設けられた回転体と、前記回転体の回転に伴って前記支持部が移動する経路に対向して設けられた少なくとも１つの真空処理源と、前記回転体から離間し対向して設けられた冷却体と、を備えたことを特徴とする真空処理装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 高価な有機ＥＬ原料を無駄なく利用すると共に、有機ＥＬ膜を長時間に亘って均一に成膜できる成膜装置及びそのための治具を提供することである。
【解決手段】 単一の原料容器部に対して、複数の吹き出し容器を備え、原料容器部の有機ＥＬ原料を気化してキャリアガスと共に各吹き出し容器に供給する配管系を他の吹き出し容器の配管系へ切り替える切替器を備えている。このように、複数の吹き出し容器に対して、単一の原料容器部から有機ＥＬ原料を切り替え供給することにより、有機ＥＬ原料の利用効率を改善できる。 （もっと読む）

【課題】酸化膜のスパッタリング効率を向上させる。
【解決手段】ターゲット室１５から区画して酸素供給室２７を設ける。導入口２６を通してターゲット室１５にアルゴンガスを導入し、導入口３０を通して酸素供給室２７に酸素ガスを導入する。円筒状のターゲット１２の内部に磁石ユニット２２ａを設け、マグネトロン方式でスパッタリングを行う。酸素供給室２７はスパッタ原子が飛散する経路に面して吐出口３１を備え、スパッタ原子を酸化する。酸素供給室２７の内部に、放電電極３５が設けられ、酸素供給室２７内で酸素ガスを活性化する。ターゲット室１５と酸素供給室２７とがそれぞれ空間的に区画されているので、スパッタリングと酸素ガスの活性化とが互いに影響を受けずに効率化される。 （もっと読む）

本発明は、物理的蒸着を利用して基材を被覆する装置であって、コイル中で変動電流を用いて、ある量の導電性材料（１０）を空中浮揚状態に維持し、かつ該材料を加熱および蒸発させるためのコイル（１）が配置された真空チャンバを備えてなり、該コイルを空中浮揚された材料から隔離するための手段（３）が該コイル中に配置されている、装置に関する。本発明によれば、該装置は、該隔離手段が、非導電性材料製の容器（２）の一部であり、該容器が、蒸発した導電性材料を被覆されるべき該基材に導くための一個以上の開口部（５）を有することを特徴とする。本発明は、物理的蒸着を利用して基材を被覆する方法にも関する。
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【課題】オゾン導入手段により基板洗浄と酸化物薄膜の形成を連続的に行うことを可能とする連続式成膜装置及び方法を提供する。
【解決手段】排気手段を備える真空槽、基板表面に成膜材料を堆積させる成膜手段、成膜手段に対面する成膜位置に順次基板を供給する搬送手段、および、基板表面にオゾンを吹き付けるオゾン導入手段を備える連続式成膜装置において、オゾン導入手段を用いて成膜位置に供給される直前の基板にオゾンを吹き付ける構成とした。 （もっと読む）

【課題】 中性粒子ビームのビーム径を広げ、基板上のより広い面積に粒子の堆積を行う
。
【解決手段】 中性粒子生成源として不活性ガスを満たしたクラスター生成容器５内で、
間欠的なレーザビームを材料の固体ターゲットに照射し、発生した材料蒸気の分子又は原
子同士の結合によりクラスター群を形成せしめ、形成されたクラスター群を、該クラスタ
ー生成容器５の容器窓７から中性粒子ビームとして流出せしめ、該中性粒子ビームの途中
において該中性粒子に対してビーム中央から外周に向かう力を作用させるガイド１１ａお
よびガス噴射口１２ａを設け、中性粒子の流れを変化させる。 （もっと読む）

【課題】 成膜開始時、成膜時、及び、成膜停止時における配管系、原料容器、及び、吹き出し容器に残留する有機分子等を迅速に吹き出すことにより、高品質で長寿命の膜、特に、有機ＥＬ膜を得ることである。
【解決手段】 吹き出し容器に有機ＥＬ分子ガスを吹き出す構成を備えた成膜装置において、複数の有機ＥＬ原料容器と、複数の有機ＥＬ原料容器と吹き出し容器とを接続する配管系を有し、複数の有機ＥＬ原料容器は選択的に有機ＥＬ分子供給状態となり、当該配管系は、各有機ＥＬ原料容器内に、成膜時と非成膜時において同じ圧力となるように、輸送ガスを供給するように構成されている。非成膜時、輸送ガスは有機ＥＬ原料容器の一つから他の原料容器に流される。 （もっと読む）

【課題】 被蒸着部材へ放出される蒸発材料の指向性を弱めることにより、被蒸着部材に形成される膜厚を略均一にし得る蒸着装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 蒸発材料誘導管および放出用部材は所定の温度に維持されるとともにそれらの内部の蒸発材料が希薄流をなしており、放出用容器の上面にガラス基板１へ蒸発材料を放出するための放出ノズルが突設されるとともに、放出ノズルの先端側に蒸発材料を拡散するためのオリフィス部材が設けられており、放出ノズルの口径φＤとオリフィス部材の口径φＤ´とがφＤ´／φＤ≦０．８の関係を満たすことにより、ｎ値が６以下のｃｏｓ^ｎθ則により蒸発材料の放出が行われ、オリフィス部材から放出される蒸発材料の指向性が弱まることとなるため、ガラス基板の膜厚分布の均一性を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】 本願発明は、簡易な構造で、現在要求される膜厚分布及びカバレージ分布を達成することのできるスパッタ装置を提供する。
【解決手段】 この発明は、基板を保持して自転する基板ホルダと、前記基板に薄膜を形成するためのターゲットが搭載されるスパッタカソード部と、該スパッタカソード部を前記基板に対して円弧状に移動させる駆動アームとを具備し、前記スパッタカソード部が、前記ターゲットに囲設され、前記基板側に開口部を有するノズル部を具備するスパッタ装置において、前記ノズル部の開口部に、前記スパッタカソード部の移動方向の両端から前記開口部の中央方向に延出して、前記スパッタカソード部の移動方向前後におけるスパッタ粒子を制限する延出部を形成することにある。 （もっと読む）

【課題】 目的の粒径をもった微粒子を効率よく分級する分級方法を提供し、該分級方法を用いた、成膜装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 搬送ガス中に分散させた微粒子を搬送管内に流しながら該微粒子を分級する分級方法であって、前記搬送ガス中に分散させた前記微粒子の進行方向に対して、前記搬送管内に、各々の孔の位置が一致しないように、各々が多数の孔を備える多孔フィルタを複数配置すると共に、前記多孔フィルタを加熱する、ことを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は乾燥したナノ粒子（１８ｂ）のための移送システムを提供する。このシステムでは、移送するためにナノ粒子（１８ｂ）を磁化又は帯電させ、移送通路内に場発生器（２０ａ、２０ｂ）によって磁界又は電場を発生させ、その中でナノ粒子（１８ｂ）を移送通路（１２）を経て移動させる。ナノ粒子を、例えば放出開口部（１３）を通して放出することで配量が可能である。ナノ粒子（１８ｂ）の凝集又は内壁（２６）への堆積を回避するために、壁のコーティング（２７）をピエゾ駆動機構（２８）によって振動させ、その振動をナノ粒子（１８ｂ）へ伝達する。この移送システムによって、乾燥したナノ粒子の取扱いが効果的に可能になるので、ナノ粒子を懸濁液として処理する必要がない。
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