説明

Fターム[4K029DA05]の内容

物理蒸着 (93,067) | 処理装置一般 (2,443) | ガス導入装置 (448) | 吹出ノズル (209)

Fターム[4K029DA05]の下位に属するFターム

配置 (118)

Fターム[4K029DA05]に分類される特許

61 - 80 / 91


【課題】ライン型蒸発源の設置間隔を狭く設定すると、メンテナンス性が悪くなる。
【解決手段】蒸着装置の構成として、Y方向に並べて設けられた複数のライン型蒸発源3と、複数のライン型蒸発源3を、当該ライン型蒸発源の並び方向Y及び/又は長手方向Xに個別に移動可能に支持する移動支持手段(11〜16)とを備える。 (もっと読む)


【課題】基材の面取部に対して的確に衝突する微粒子の密度を向上させ、成膜に寄与しない微粒子割合を減少させるとともに、機械的強度が大きく、均一な被膜を形成可能な面取部成膜用ノズルおよび成膜装置を提供する。
【解決手段】微粒子をガス中に分散させたエアロゾルを基材の面取部8bに向けて吐出する面取部成膜用ノズル1であって、該ノズル1は吐出開口部1aを有し、該開口部1aのエアロゾル吐出方向に垂直な断面形状が基材面取部8bの幅8aを1辺の長さとした正方形、または基材面取部8bの幅8aを直径とした円形であり、成膜装置はこの面取部成膜用ノズル1を用いる。 (もっと読む)


【課題】 従来より低コスト、小型で、筒状治具を自転させながら蒸着原料の周りを公転させつつ移動させる装置が必要なく、また試料の一部分に成膜の不要な箇所がある場合にその箇所にマスキング等が不要な、膜厚の均一性が高い薄膜を成膜する薄膜の成膜装置を提供すること。
【解決手段】 真空の炉体2内でターゲット8(蒸着原料)をプラズマ化させ、試料4の表面に膜を形成する薄膜の成膜装置1で、試料4の表面に窒素ガス(不活性ガス)を供給するガス供給装置6を備える。 (もっと読む)


有機気相ジェット成長法のためのシステム及び方法が提供され、隣接するノズル間に排気部が配置される。排気部はノズル内及びノズルと基板との間の圧力蓄積を低減することができ、改善された堆積プロファイル、解像度、及び改善されたノズル間の均一性をもたらす。排気部は周囲真空と流体連通してよく、又は真空源と直接接続されてよい。
(もっと読む)


【課題】高品質の有機物/無機物薄膜を製造して商用化することができる有機物/無機物複合薄膜の蒸着方法及び蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る時間分割型有機物/無機物複合薄膜の蒸着方法および蒸着装置は、有機物/無機物材料が含有されているソースタンクと、これを活性化させる熱開始剤が含有されている触媒ソースタンクとを各々装着することによって、大面積の基板上に有機物/無機物複合薄膜を蒸着する時、厚さを正確に調節することができ、蒸着を均一に行うことができる。また、1つ以上の有機物/無機物複合薄膜を蒸着する場合にも、厚さ及び組成を精密に調節することができる。 (もっと読む)


OLED基板(40)の上に有機材料を堆積させる方法であって、気化した有機材料を受け取るマニホールド(10)を用意し、そのマニホールドが、開口部を有するアパーチャ板を備えているようにし、そのアパーチャ板の開口部は、気化した有機材料で構成されていて軸外成分(60)を持つビーム(50)が基板(40)に向かうように選択するステップと;OLED基板(40)とマニホールド(10)の間に両者から離れて位置するマスク(80)を用意し、そのマスク(80)が複数の開口部を持っていて、そのそれぞれがアパーチャ板開口部に対応しており、マスクの開口部は、ビーム(50)の軸外成分(60)の少なくとも一部を阻止するように選択するステップを含む方法。
(もっと読む)


【課題】充放電サイクル特性に優れた高容量なリチウム二次電池用負極を提供する。
【解決手段】シート状の集電体と、前記集電体に担持された活物質層とを具備し、前記活物質層は、複数の柱状粒子を含み、前記柱状粒子は、ケイ素元素を含み、前記柱状粒子が、前記集電体の法線方向に対して傾斜しており、前記活物質層の空隙率Pが、10%≦P≦70%である、リチウム二次電池用負極。 (もっと読む)


第1の態様において、オリフィスを有する半導体製造チャンバーのコンポーネントを洗浄するための方法が提供される。この方法は、(A)洗浄溶液を有する槽にコンポーネントを入れるステップと、(B)洗浄溶液でコンポーネントを洗浄する間に、オリフィスに流体を流し込んで、オリフィスの少なくとも第1部分を、洗浄溶液がない状態に維持するステップと、(C)オリフィスから流体を回収し、洗浄溶液がオリフィスの第1部分に入り込んでオリフィスの第1部分を洗浄するようにするステップとを備えている。多数の他の態様も提供される。 (もっと読む)


【課題】簡易な構造でガスの供給量を良好に調節し、良好な成膜が可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置10は、成膜室21と、ターゲット23と、スパッタカソード24と、スパッタリングガス供給部31,32と、を備える。スパッタリングガス供給部31,32は、複数の噴出孔が形成された筐体と、噴出孔に嵌入し筐体に螺合されるボルトと、筐体にガスを導入する導入口と、を備える。噴出孔のボルトに対向する面は、テーパ状に形成されており、ボルトの平板部もテーパ状に形成されることにより、噴出孔とボルトとの間には間隙が生じる。ボルトのねじり込み具合を調節することによって、噴出孔とボルトとの間隙を調節し、ガスの噴出する量を連続的に変化させることができる。 (もっと読む)


本発明は、概して、1つ以上のガス導入管を隠す1つ以上の冷却アノードを含み、冷却アノードとガス導入管の両方が、スパッタリングチャンバ内で、1つ以上のスパッタリングターゲットと1つ以上の基板の間で画定された処理空間にまたがっている。ガス導入管は、ガス出口を有しており、導入されたガスが、1つ以上の基板から離れる方向に向いている。ガス導入管は、酸素等の反応性ガスを、スパッタリングチャンバに導入し、反応性スパッタリングによりTCOフィルムを堆積する。複数工程のスパッタリングプロセス中、ガスフロー(即ち、ガスの量とガスの種類)、ターゲットと基板の間の間隔及びDC電力を変更して所望の結果を得る。
(もっと読む)


【課題】層状堆積物と柱状堆積物の技術的利点、すなわち、低熱伝導性、良好な寿命、良好な耐腐食性、および高い収率と堆積速度という利点を併せ持つ堆積物を得ることを可能にする。
【解決手段】本発明は基板上に材料を堆積する方法の分野に関する。それは、基板上に熱障壁として働き、堆積前に粉体の状態である材料を堆積する方法に関する。粉体は第1プラズマトーチ(10)のプラズマジェット(12)および少なくとも1個の第2プラズマトーチ(20)のプラズマジェット(22)中に導入され、第1プラズマトーチ(10)および少なくとも1個の第2プラズマトーチ(20)は容器(2)中に配設され、そのプラズマジェット(12、22)が交差して粉体を気化する合成プラズマジェット(30)を生成するように配列され、基板(40)は合成プラズマジェット(30)の軸上に配置される。 (もっと読む)


【課題】生産性が良好となるように、発光素子の有機層上に金属層を形成することが可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】被処理基板を保持する保持台を内部に備えた処理容器と、金属を含む成膜原料を蒸発または昇華させて気体原料を生成する、前記処理容器の外部に設置された気体原料生成部と、前記処理容器内に前記気体原料を供給する気体原料供給部と、前記気体原料を前記気体原料生成部から前記気体原料供給部に輸送する輸送路と、を有し、前記被処理基板上の発光層を含む有機層上に金属を含む層を形成するように構成されていることを特徴とする成膜装置。 (もっと読む)


デバイスを製造する際に表面上に層を形成する方法であって、気化した材料を受け取る分配部材であって、チェンバーを規定する1つ以上の壁面を持ち、1つの壁面の中に複数の開口部からなる多角形二次元パターンが形成されていて、その開口部が気化した材料を分子流として上記表面上に供給する構成の分配部材を用意するステップと;開口部からなる多角形二次元パターンに少なくとも4つの頂部を設け、第1の開口部セット(80)をその頂部に配置し、縁部用の第2の開口部セット(78)を第1の開口部セットの2つの開口部の間に配置して多角形二次元パターンの縁部を規定し、内側用の第3の開口部セット(74)を、第1の開口部セットと第2の開口部セットによって規定される多角形二次元パターンの周辺部の中に配置するステップと;望む流速が得られるように開口部のサイズを決めるステップを含む方法。
(もっと読む)


【課題】AD法を用い、厚さが均一な膜を形成するのに適した成膜装置を提供する。
【解決手段】原料粉をガスによって分散させることにより、エアロゾルを生成するエアロゾル生成部と、複数の排気ポートが設けられた成膜チャンバと、該成膜チャンバ内に配置され、基板が固定される基板ステージと、成膜チャンバ内に配置され、エアロゾル生成部において生成された原料粉のエアロゾルを基板に向けて噴射するノズルとを含む。 (もっと読む)


【課題】微小領域に任意の形状でダイレクトにパターニングできる処理方法及び処理装置、並びにそれらにより作成された電子デバイスを提供すること。
【解決手段】第1の噴出口に反応性ガス及び蒸着物質が供給されつつ前記第1の噴出口の外周に設けられた第2の噴出口から不活性ガスを導入し、前記第1の噴出口の外周に設けられた電極に高周波電力を印加することで、前記第1の噴出口に対向して設けられた基板を処理する処理方法であって、前記蒸着物質は基板上に噴出されるとともにその一部は前記反応性ガスによってアッシング処理されることで解決できる。 (もっと読む)


【課題】 粉末の詰まりを低減する粉末加熱装置を提供する。
【解決手段】 粉末供給装置1、分散器2、直流プラズマ発生装置のトーチ4及び、分散器2からの配管T2に繋がる孔22が設けられた第1柱状部21Aと、この孔に繋がる開口部の径がこの孔の径より大きく、徐々にその径が小さくなる分岐孔25b,25cが設けられた第2の柱状部21Bと、各分岐孔に繋がる開口部の径が各分岐孔の径より大きい孔26a,26bが設けられた第3柱状部21Cから成るマニフォールド体の本体21を備えている。 (もっと読む)


【課題】広い面積の基板に有機物を均一に蒸着して高速に成膜させ、有機材料混合量の微細調整を可能とする。
【解決手段】気相有機物の蒸着装置は、母材10を安着せしめる母材安着部140を備え、気相有機物を母材の安着部方向へ噴射する噴射部110と、保温ヒーター130を含んで構成される蒸着チェンバー100と、気相有機物を運搬する運搬ガスが引き込まれるよう穴形状に形成された運搬ガス引込ホールと、有機物蒸気及び運搬ガスが引き出されうるよう穴形状に形成された気相有機物の引出ホールを備えており、有機物を貯蔵できるるつぼ220と、るつぼ内を加熱する有機物加熱ヒーターを内部に含む有機物チェンバー200と、有機物チェンバー内に引き込まれる運搬ガス量と流速を制御する流量制御部400と、有機物チェンバー内の気相有機物が噴射部に移動できる気相有機物の移送管210と、真空ポンプ150とを含んで構成される。 (もっと読む)


【課題】高いガスバリア能を有し、かつカール耐性に優れたガスバリア性薄膜積層体、ガスバリア性樹脂基材を高い生産性で提供し、またガスバリア性薄膜積層体、ガスバリア性樹脂基材を用いて密着性及びガスバリア耐性に優れた有機エレクトロルミネッセンスデバイスを提供する。
【解決手段】ポリマー膜と無機膜をそれぞれ少なくとも1層有するガスバリア性薄膜積層体において、該ポリマー膜の少なくとも1層が、大気圧またはその近傍の圧力下で重合性モノマーを含むガスを基材の表面に吹き付け、基材表面上で重合させて形成された重合膜であることを特徴とするガスバリア性薄膜積層体。 (もっと読む)


【課題】シングルナノサイズのクラスター生成、小さなクラスターサイズ分散性、高いビームフラックスおよび高いクラスタービームエネルギーの達成を可能とする。
【解決手段】レーザアブレーション法によってナノサイズクラスターを生成するクラスター生成装置は、クラスターを生成するクラスターセル11の取出口21に、ラバールノズル13のスロート口31が接続されているものである。 (もっと読む)


【課題】均一かつ細密に充填したSAMを大面積の基板に形成することを可能とする装置及び方法を提供する。
【解決手段】自己組織化分子を含有する液体原料を気化し、基板上に自己組織化単分子膜を形成する装置であって、前記基板を内部に保持する成膜室と、前記液体原料を前記成膜室内に直接噴射する噴射弁を備えるようにした。 (もっと読む)


61 - 80 / 91