【課題】帯状の基材の幅方向において膜厚や特性が均一な薄膜を効率良く成膜することができ、構成粒子の収率及び生産性の向上を図ることが可能な成膜方法を提供する。
【解決手段】成膜方法は、レーザ光Ｌをターゲット６の表面に照射して、このターゲット６の構成粒子６Ａを叩き出し若しくは蒸発させ、この構成粒子６Ａを帯状の基材上に堆積させることにより薄膜を形成する成膜方法であって、前記レーザ光Ｌが前記ターゲット６の表面に照射する位置を、前記基材の幅方向と同じ方向に振幅させ、前記基材を、転向部材に該基材の裏面が接しつつ長手方向に移動する状態として、前記構成粒子６Ａの堆積領域内を通過させることにより、前記基材の表面上に前記構成粒子６Ａを堆積させ、前記基材の表面上に薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】大幅な低フリクション化を図ることができるのはもちろんのこと、量産化が可能となるとともに、製造コストを低減することができる摺動部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】部材１，２間への高面圧の印加によって、局所的固体接触が摺動界面で起こり、摺動部材の摺動面で微視的摩耗が生じる。摺動部材１の潤滑膜１１には、炭素系分子１２が、単体あるいはその単体の集合体として含有されている。炭素系分子１２が、上記微視的摩耗によって、潤滑膜１１から露出し、その一部がそこから遊離し、摺動界面に供給される。そのような炭素系分子１２は、転動可能な中空構造を有するから、摺動界面で分子レベルのボールベアリングとして作用する。この場合、炭素系分子が少なくとも一つ存在すると、存在しない場合と比較して、局所的フリクションを低減することができる。 （もっと読む）

【課題】ホッパーからの材料供給が変化しても安定した成膜材料の供給が可能な簡単な構成の成膜装置の成膜材料供給装置を提供する。
【解決手段】材料ホッパー４１と、材料フィーダー４３と、制御板４８を備える成膜材料供給装置４０であって、材料ホッパー４１は、内部に収納した成膜材料２２を材料フィーダー４３に供給し、材料フィーダー４３は、材料ホッパー４１からの成膜材料２２を受け且つ内壁面４３ｄに螺旋溝４３ｅを有する円筒体４３ｃを備え、螺旋溝４３ｅを回転させることで円筒体４３ｃ内の成膜材料２２を、材料フィーダー４３の上端部４６ａにまで搬送の上、材料フィーダー４３外に排出し、制御板４８は、材料フィーダー４３の上端部４６ａから排出される成膜材料２２の排出量を制御している。 （もっと読む）

本発明は、フライス、切削インサート、射出成形用金型などのような工具のための摩耗保護層、特に物理的蒸着法を使用して蒸着させた摩耗保護層であって、当該層が、ＡｌＮｂＸの一般的な組成を有し（式中、Ｘは、Ｎ、Ｃ、Ｂ、ＣＮ、ＢＮ、ＣＢＮ、ＮＯ、ＣＯ、ＢＯ、ＣＮＯ、ＢＮＯ、またはＣＮＣＯを表す）、Ｎｂの割合が４０原子％未満であり、かつ／または当該製造プロセスにおいて使用されるアルミニウム粉体が、アルミニウムに対して１０〜５０原子％のジルコニウムと混合されることを特徴とする摩耗保護層に関し、さらに摩耗保護層を製造するための方法にも関する。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料の蒸発量の安定化を図ることにより、蒸着フィルムの収率及び生産性を向上させることができる蒸着装置を提供すること。
【解決手段】本発明の蒸着装置は、真空チャンバー１１の内部において樹脂フィルム基材１２を連続的に搬送して巻き取りながら、電子銃１６による電子ビーム１９を蒸着材料１７に照射して蒸着材料１７を樹脂フィルム基材１２の下面に蒸着するものである。移動速度制御手段２３は、蒸着材料温度測定手段２２による材料温度測定値が基準値未満であるときに蒸着材料移動手段１８による蒸着材料１７の移動速度を第１の移動速度とし、かつ、蒸着材料温度測定手段２２による材料温度測定値が前記基準値以上であるときに蒸着材料移動手段１８による蒸着材料１７の移動速度を前記第１の移動速度より速い第２の移動速度とする。 （もっと読む）

【課題】シリカ膜を形成する蒸着原料材料であって、スプラッシュレスで又はスプラッシュの発生を極微小に抑制し、かつ高速成膜を実現する蒸着原料材料とその製造方法を提供する。
【解決手段】嵩密度が１．２ｇ／ｃｍ^３を超え１．６ｇ／ｃｍ^３以下、かつＳｉＯｘのｘが１を超えて１．３以下である多孔質珪素酸化物。この原料として、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）によるＳｉ２Ｐスペクトルにおいて、シリコンの価数が１〜３に相当する結合エネルギーに帰属されるピーク面積が、金属シリコン及び二酸化シリコンを含む全面積の１０％以上となる珪素酸化物が好適に用いられる。そして、これを原料として粉砕し、プレス後、８００〜１１００℃で焼成することにより製造される。 （もっと読む）

【課題】 焼成が必要な透明導電膜前駆体について、膜強度や導電性への影響が無く、簡便に焼成処理を行い得る透明導電膜の形成方法を提供する。
【解決手段】 基材上に形成され焼結によって透明導電膜を形成する透明導電膜前駆体の表面に、レーザー光に対して吸収のある吸収剤を含む吸収剤含有液を塗布し乾燥させることにより吸収剤層を形成し、該吸収剤層に吸収のある波長を有するレーザー光を該吸収剤層に照射することにより、前記透明導電膜前駆体を焼結させて透明導電膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】充放電容量が大きいと共に、電池性能においても充分に満足できる非水電解質電池用正極の製造方法と非水電解質電池用正極および非水電解質電池を提供する。
【解決手段】基材上にリチウム複合酸化物を主体とする薄膜を気相成長法により形成し、形成した薄膜を熱処理した後、水洗する非水電解質電池用正極の製造方法。リチウム複合酸化物の原料粉末を主体とする成形体を焼結して焼結体を作製し、作製した焼結体を水洗する非水電解質電池用正極の製造方法。前記製造方法により製造された非水電解質電池用正極および前記非水電解質電池用正極を用いた非水電解質電池。 （もっと読む）

【課題】良好な保護層の形成を可能とし、もって良好な画像表示を行うプラズマディスプレイパネルの実現を可能とする成膜装置を提供することを目的とする。
【解決手段】成膜装置が備えるハース２０３への成膜材料２０２の供給がシューター２１２を通じて行われる成膜装置であって、シューター２１２の先端とハース２０３に存在している成膜材料２０２の表面とのクリアランスＨが、成膜材料の最大長Ｌの３倍以上である成膜装置である。 （もっと読む）

【課題】非導電性試料の表面に、むらの無い良質な導電性のカーボン膜を短時間で形成する。
【解決手段】開閉弁９ａを開き、ロータリーポンプ１０で試料室２ａの大気を排気する。試料室２ａの真空度が１Ｐａ程度になったら、流量調整弁８ａを開いて試料室２ａにアルゴンガスを導入し、試料室２ａの真空度が２Ｐａ程度になるようにアルゴンガスの流量を調整する。電極棒７ａと７ｂ及び電極５ａと５ｂを通じてカーボン棒に５０Ａ程度の電流を流す。通電によりカーボン棒が赤熱し、カーボンが蒸発することにより蒸着が行なわれる。 （もっと読む）

本発明は、サンプル（２）の表面にターゲット（３）の材料を蒸着する方法に関するものであり、ターゲットの表面にレーザービーム又は電子ビーム（７）を照射して、ターゲット材料粒子のプルーム（９）を生成させるステップと、ターゲット材料粒子がサンプルの表面に蒸着されるように、プルーム近傍にサンプル（２）を位置させるステップと、粒子が蒸着されるサンプルの表面に対して垂直な回転軸（１）回りに、サンプルを回転させるステップと、プルームが前記回転軸に対して半径方向に移動するように、ターゲットの表面に沿ってレーザービームを移動させるステップと、可変周波数で、レーザービームのパルスを発するステップと、を有している。
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【課題】本発明は、良好なプラズマディスプレイパネルの保護層の形成を可能とし、もって良好な画像表示を行うプラズマディスプレイパネルの実現を可能とする成膜材料（蒸着材料）を提供することを目的とする。
【解決手段】この目的を達成するために、本発明は、成膜装置への供給がシューター（材料補給路）を通じて行われる成膜材料であって、その形状が、直径（φ）と厚み（ｔ）との比（ｔ／φ）が、０．５以上の円柱形状である成膜材料２０２である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、良好なプラズマディスプレイパネルの保護層の形成を可能とし、もって良好な画像表示を行うプラズマディスプレイパネルの実現を可能とする成膜材料（蒸着材料）を提供することを目的とするものである。
【解決手段】この目的を実現するために本発明は、成膜装置への供給がシューター（材料補給路）を通じて行われる成膜材料であって、六面体形状の成膜材料と、その他の形状の成膜材料とが混合されて構成された成膜材料２０２である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、プラズマディスプレイパネルの保護層を良好に形成することを可能とし、もって良好な画像表示を行うプラズマディスプレイパネルを実現することを可能とする成膜材料（蒸着材料）の提供を目的とするものである。
【解決手段】この目的を実現するために本発明は、成膜装置への供給がシューター（材料補給路）を通じて行われる成膜材料であって、その形状が、主面が楕円形状で、厚み（ｔ）を有する楕円柱形状である成膜材料２０２である。 （もっと読む）

【課題】スプラッシュの低減化を図り、製品歩留まりを向上させることができ、かつ、電子ビーム溶解に要する時間の短縮も可能にした蒸着材料を用いた光学薄膜並びに光学部品を提供する。
【解決手段】蒸着材料を溶解蒸発せしめ蒸発した蒸着材成分を基板表面に蒸着させて蒸着膜として形成された光学薄膜において、上記蒸着材料は、形状が球体または楕円体である多数の蒸着材粒子からなり、この蒸着材粒子の赤道部に、外方向に突出する突起部が形成されており、上記蒸着材粒子を平面に投影したときに形成される投影像に外接する正円の面積をＡとし、上記投影像に内接する正円の面積をＢとした場合に、Ａ／Ｂで表される形状係数が１以上５以下である蒸着材粒子の割合が９０質量％以上であり、上記蒸着材粒子の粒径が０．５ｍｍ〜３０ｍｍの範囲にある一方、上記基板１枚当りの蒸着膜中に混入した直径５μｍ以上のスプラッシュ個数が、基板１枚あたり平均３．８個以下であることを特徴とする光学薄膜である。 （もっと読む）

【課題】安定してスプラッシュ頻度を少なくさせ、しかも酸化珪素蒸気の蒸発速度も高め、信頼性の高いガスバリアフィルムを製造するためのフィルム蒸着用ペレット体、その製造方法、及び酸化珪素蒸着フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】主にＳｉとＯとからなり、Ｏ含有量が３７〜４５質量％、ＢＥＴ比表面積０．１〜２０ｍ²／ｇ、嵩密度が０．５〜１．５ｇ／ｃｍ³、最大寸法が２〜５０ｍｍの範囲であることを特徴とするペレット体。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料と絶縁部材との間を密着させて安定した初期放電を得ることができる同軸型真空アーク蒸着源及びこれを備えた真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る同軸型真空アーク蒸着源５は、円筒状の絶縁碍子１４と、絶縁碍子１４の内周部に配置され外周部が絶縁碍子１４の内周部に弾性的に接触する蒸着材料１１と、絶縁碍子１４の外周部に配置されたトリガ電極１３と、トリガ電極１３の周囲に同心的に配置された筒状のアノード電極２３とを具備する。これにより、蒸着材料１１と絶縁碍子１４との間の密着を常に維持することができるので、蒸着源５の安定した放電動作を確保することができる。 （もっと読む）

【課題】産業廃棄物が発生せず、コーティングの膜厚や状態の変化が小さく、コーティング能力の経時劣化や粒子同士の融着、金属の残渣など、アルミ発生源である金属に起因する作業性問題を解決することが可能なアルミコーティング方法を提供する。
【解決手段】真空中で被コーティング部材３の表面にアルミニウムをコーティングするアルミコーティング方法において、真空中で、カーボンと接触させた状態でアルミナ５を１３００℃以上に加熱してアルミナ５を分解させると共に、発生したアルミガスを被コーティング部材３の表面にコーティングする。 （もっと読む）

【課題】固体酸化物燃料電池の緻密な電解質と多孔質の空気極を一回の製膜プロセスで作成が可能な製造方法を提供する。
【解決手段】レーザー堆積法においては、結晶成長が２次元であるため、結晶の成長エネルギーが小さくて済むことから、従来の方法より低い６００〜８００℃での作製が可能であり、基板を真空チャンバーに入れた状態において、少なくとも一つの成膜条件を変更することにより、固体酸化物燃料電池の多孔質/緻密/多孔質構造の積み分けが一回の製膜プロセスで作製することを可能とした。 （もっと読む）

【課題】高い結晶性を維持し、かつ低いコストを維持するＳｉ_(1-v-w-x)Ｃ_wＡｌ_xＮ_v基材、エピタキシャルウエハ、およびそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のＳｉ_(1-v-w-x)Ｃ_wＡｌ_xＮ_v基材の製造方法は、異種基板１１を準備する工程と、異種基板１１上に、主表面を有するＳｉ_(1-v-w-x)Ｃ_wＡｌ_xＮ_v層を成長させる工程とを備えている。Ｓｉ_(1-v-w-x)Ｃ_wＡｌ_xＮ_v層における主表面に位置する組成比ｘ＋ｖは、０＜ｘ＋ｖ＜１である。Ｓｉ_(1-v-w-x)Ｃ_wＡｌ_xＮ_v層において、異種基板１１との界面から主表面に向けて組成比ｘ＋ｖが単調増加または単調減少する。Ｓｉ_(1-v-w-x)Ｃ_wＡｌ_xＮ_v層において、異種基板１１との界面の組成比ｘ＋ｖは、主表面の組成比ｘ＋ｖよりも異種基板１１の材料に近い。 （もっと読む）