【課題】酸素または水素雰囲気中でのレーザーアブレーションにより金属などの異種基板に対して良好なダイヤモンド膜を形成できる方法を提供する。
【解決手段】酸素または水素雰囲気中で、グラファイト、アモルファスカーボン、グラッシーカーボン、またはダイヤモンドからなる炭素ターゲットに、５０ｎｓ以下のパルス幅でレーザー光を照射し、レーザーアブレーションによって前記ターゲットから炭素粒子を飛散させて基板上に堆積させ、パルス毎に堆積粒子の過飽和状態を形成して前記基板上にダイヤモンド膜を形成する方法において、前記基板に負バイアスを印加した状態で前記レーザー光を照射する。 （もっと読む）

【課題】高い耐久力を有し、湿分、酸およびアルカリに対して不感性であり、放射能が低く、広スペクトル範囲において透明かつ非吸収性であり、溶融および蒸発中に最初の組成を変化させず、低い焼結温度しか必要とせず、それを利用して１．７〜１．８の範囲にその屈折率を特定して設定することができる前記特性を有する中程度屈折率の層を得ることができる、中程度屈折率の光学層の製造のための蒸着材料を提供する。
【解決手段】酸化アルミニウム、ならびに、酸化ガドリニウム、酸化ジスプロシウムおよび酸化イッテルビウムからなる群より選択される少なくとも一つの化合物を含む、中程度の屈折率の光学層を製造するための蒸着材料。 （もっと読む）

【課題】耐久性があり、湿度、酸およびアルカリに非感受性で、低放射性で、透明であり、広範囲のスペクトルに非吸収性であり、その元の組成を溶融と蒸発の間に変化させず、かつ、同じ特性を有する高屈折率の層の製造に適した、少なくとも２．０の高屈折率を有する層を製造するための蒸着材料を提供する。
【解決手段】酸化チタンと酸化ガドリニウムおよび／または酸化ジスプロシウムとを含む、高屈折率の光学層を製造するための蒸着材料。 （もっと読む）

【課題】ドロップレットの混入を十分に抑制しながら十分に効率よく成膜することが可能なレーザーアブレーションによる成膜方法を提供すること。
【解決手段】ターゲット１にレーザー光Ｌを照射して飛散粒子ａを発生させ、基材５の表面に飛散粒子ａを付着させて基材５の表面上に膜を形成させるレーザーアブレーションによる成膜方法であって、
ターゲット１が支持基板と該支持基板上に形成された無機材料の粒子からなる粒子層とを備えており、前記無機材料の粒子の平均粒子径が５ｎｍ〜５０μｍであり、且つ、前記粒子層の厚みが１〜２００μｍであることを特徴とするレーザーアブレーションによる成膜方法。 （もっと読む）

【課題】 貼り合わせ型のガスバリアフィルムのように、貼り合わせ型の機能性フィルムの製造方法において、薄膜化や低コスト化を目的として基材を薄くした場合でも、所定の性能を有する機能性フィルムを安定して作製する。
【解決手段】 貼り合わせ型のガスバリアフィルムを製造するに際し、少なくとも１枚の材料フィルムが、基材の厚さが５０μｍ以下で、かつ、無機膜および下地層を有するものであり、この材料フィルムの作製時に、下地層の成膜で生じた反りを、無機層の成膜で補正することにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着法に用いられる酸化物焼結体タブレットを歩留まりよく安定して量産できる製造方法を提供すること。
【解決手段】原料粉を湿式混合しかつ噴霧乾燥して造粒粉を製造する第一工程と、造粒粉を加圧して圧粉体を製造する第二工程と、圧粉体を破砕して成形体用粉末を製造する第三工程と、成形体用粉末を金型中で加圧成形して成形体を製造する第四工程と、成形体を焼成して酸化物焼結体タブレットを製造する方法であって、第二工程の造粒粉に対する加圧条件を５０ＭＰａ以上２００ＭＰａ以下に設定して第三工程で得られる成形体用粉末のタップ密度が理論密度の２５％以上４５％以下となるように調整し、かつ第四工程において上記タップ密度に調整された金型中の成形体用粉末に対する加圧条件を５０ＭＰａ以上２００ＭＰａ以下に設定して所定形状の成形体を製造することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理装置および光学素子成形型の製造方法において、プラズマ放出方向を均等化しつつ、ドロップレットや飛散粒子を容易に除去することができ、表面処理の品質を向上することができるようにする。
【解決手段】ターゲット６とアノード電極とを有し、アーク放電によるプラズマ８を放出するプラズマ放出部１０と、プラズマ８を偏向させて光学素子成形用型母材１１の表面に輸送する偏向部１３と、ターゲット６の表面から光学素子成形用型母材１１に向けて直進する経路を遮蔽する遮蔽板２０とを備え、アノード電極は、複数の円弧状導電体が、ターゲット６の軸方向回りに周回するように配置され、ターゲット６を挟んで光学素子成形用型母材１１と反対側に円弧状導電体の各開口が配置された周回電極部と、周回電極部に電流を供給する配線部と、を備えるプラズマ処理装置１を用いる。 （もっと読む）

【課題】成膜時にスプラッシュ現象などが発生せず、放電を安定させることができ、しかも機械的強度が高く、自動搬送時などに破損しにくい酸化亜鉛系焼結体タブレットを提供する。
【解決手段】常圧焼結体タブレットを、圧力１×１０^-3Ｐａ以下の真空中にて、９００℃〜１３００℃の温度で還元処理することにより、その相対密度が５０〜７０％でありながら、圧縮強さが１５０ＭＰａ以上であり、かつ、表面と内部における比抵抗がそれぞれ１×１０²Ω・ｃｍ以下、特にガリウムを含む酸化亜鉛系焼結体タブレットにおいては１×１０^-2Ω・ｃｍ以下であって、表面と内部の酸化亜鉛濃度差が０．５質量％以下である構造を実現する。 （もっと読む）

【課題】検知感度の高い赤外線検出素子に適した強誘電体薄膜を形成可能な薄膜形成装置およびそれを用いた薄膜形成方法を提供することである。
【解決手段】薄膜形成装置１０００は、真空槽１０と、真空槽内を移動可能なように保持されるターゲット保持台１２と、成膜材料を含むターゲット２０と、このターゲット２０の表面に、高エネルギー放射線を放射するためのＡｒＦエキシマレーザ３０と、エキシマレーザからの放射線をターゲット２０の表面に集光させるための光学系と、基板４０を保持する基板保持台５０と、基板４０に堆積する物質を酸化させるための酸化性ガスを真空槽１０内に導入するための酸化性ガス導入部６０と、基板保持台５０の内部に設けられ基板を真空槽１０内において加熱するためのヒータ７０と、基板保持台５０に保持された基板４０に光線を照射するためのライト８０とを備える。 （もっと読む）

【課題】 スパッタ法やレーザアブレーション法では基板の加熱処理なしでは得られない固有保磁力の高い膜磁石を、基板を加熱処理することなく得られる製造方法を提供するものである。
【解決手段】 磁石材料を含む電極と導電性の基板との間に所定の間隔を設け、電極と基板との間に電圧を印加してアーク放電を発生させることにより磁石材料を基板の表面に付着させて、内部に平均粒径が２０ｎｍ以上で５００ｎｍ以下の強磁性結晶相が分散した膜磁石を製造する製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】高い耐湿性、低スプラッシュ、且つ継足し利用可能な光学薄膜形成用の組成物を提供する。
【解決手段】組成式Ｌａ_wＴｉ_xＡｌ_yＯ_z（ｗ＋ｘ＋ｙ＝１００とした時に、ｗ＝１９〜５４、ｘ＋ｙ＝８１〜４６（ｘ：ｙ＝１：９９〜９９：１）、１．５ｗ＋１．５ｘ＋１．５ｙ≦ｚ≦１．５ｗ＋２ｘ＋１．５ｙ）で表わされる薄膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】透明性及びガスバリア性に優れた薄膜の形成に好適な蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シートを提供する。
【解決手段】ＺｎＯ粉末のＺｎＯ純度が９８％以上であり、ＣｅＯ₂粉末のＣｅＯ₂純度が９８％以上であり、蒸着材がＺｎＯ粒子とＣｅＯ₂粒子を含有するペレットからなり、蒸着材に含まれるＣｅＯ₂粒子の平均粒径が０．０５〜５μｍであり、蒸着材中のＣｅ元素の含有量が２０質量％を超え８０質量％以下であることを特徴とする。薄膜シートは、第１基材フィルム上にＺｎ元素とＣｅ元素を含む薄膜を形成してなり、薄膜中のＣｅ元素の含有量が２０質量％を超え８０質量％以下である。 （もっと読む）

【課題】待機時においても蒸着装置内部の温度を下げないことで生産再開時の立ち上げ時間ロスを無くすとともに、搬送治具への不要な蒸着粒子付着を抑制し、信頼性の高い基板への薄膜形成を実現する。
【解決手段】ターゲットに電子ビームを照射して搬送治具に載置された基板に薄膜を形成する薄膜形成方法であって、搬送治具に載置された基板に薄膜を形成する成膜時と、搬送治具への基板の載置がない待機時とで、電子ビームを発生させる電子ビーム源である電子銃への投入パワーを略同一とし、かつ、待機時のターゲットに照射する電子ビームの照射領域を異ならせることによって、蒸着装置内部の温度を保ったまま、成膜レートを抑制する。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で、アノードの清掃を容易に行うことができるプラズマ成膜装置を提供することを目的とする。
【解決手段】メインアノード３４と、カソード１を有し、メインアノード３４とカソード１との間でプラズマを発生させるプラズマガン１０１と、プラズマガン１０１とメインアノード３４との間に形成され、その内部に成膜空間２６を有し、基板１６及びターゲット１７がプラズマを挟んで対抗するように設けられた成膜室１０３と、メインアノード３４と成膜空間２６との間に設けられたサブアノード３５と、メインアノード３４又はサブアノード３５とプラズマガン１０１のカソード１との間に放電によりプラズマを発生するための電圧を印加するプラズマ電源１０５と、プラズマ電源１０５をメインアノード３４及びサブアノード３５に選択的に接続するための第１切替器４１と、を備える、プラズマ成膜装置。 （もっと読む）

【課題】高温下での使用の際の剥離を抑制でき、しかも高い熱遮蔽効果を有する遮熱コート材料、遮熱コーティング部材とその製造方法、遮熱コーティング材により被覆されたタービン部材、及びガスタービンを提供する。
【解決手段】耐熱基材２１と、該耐熱基材上に形成されたボンドコート層２２と、該ボンドコート層上に形成されたセラミックス層２４とを含んでなる遮熱コーティング部材であって、該セラミックス層２４が、一般式Ａ’_１Ｂ_１Ｚｒ_２Ｏ_７で表される酸化物を含む。但し、Ａ’及びＢはそれぞれＬａ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｄｙ、Ｃｅ又はＹｂのいずれかの互いに異なる元素を表す。 （もっと読む）

【課題】アーク放電を連続して行った際の、着火不良を大幅に向上できる成膜方法、成膜装置、及び半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
第１の電極１４をカソード１２の所定位置に接触させ、前記カソード１２とアノード１３との間にアーク放電が発生したかどうかを検出する。前記検出結果に応じて、第２の電極１５を前記所定位置とは異なる位置に接触させ、前記アーク放電を発生させてプラズマを生成し、前記プラズマに含まれる導電材料を、基板５１の上方に堆積させる。成膜時の電極の着火確率を大幅に向上させることができ、ひいては、半導体装置の製造効率や製造歩留まりの改善を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】一つの試料を作製するだけで、フェライトの組成変化に伴う磁気特性の変化を連続して測定することができるフェライトの特性評価方法を提供する。
【解決手段】透光性を有する単結晶基板上に、薄膜形成法を用いて、成分組成を水平方向に傾斜させて製膜した複数層の組成傾斜フェライト層からなる組成傾斜フェライト薄膜を形成し、該フェライト薄膜の組成傾斜方向に沿い連続して磁気光学効果を測定することにより、該フェライトの組成変化に伴う磁気特性の変化を連続して測定する。 （もっと読む）

【課題】電子ビーム物理蒸着を用いて、各皮膜間の界面の組成が連続的に変化する傾斜組成組織が形成され、遮熱特性、熱サイクル寿命に優れたセラミックス被覆部材を提供することを目的とする。
【解決手段】セラミックス被覆部材は、金属またはセラミックスからなる基材２０に、少なくとも熱応力緩和層２２、遮熱層２３をこの順に積層して構成される。また、熱応力緩和層２２と遮熱層２３との境界部２４とその近傍において、熱応力緩和層２２から遮熱層２３に向かって、熱応力緩和層２２を形成する酸化ジルコニウムの濃度が連続的に減少するとともに、遮熱層２３を形成する酸化ハフニウムの濃度が連続的に増加する。 （もっと読む）

【課題】交流型プラズマディスプレイパネルの誘電体層の保護膜として有用な酸化マグネシウム膜を、電子ビーム蒸着法により形成するのに有利に用いることのできる酸化マグネシウム蒸着材を提供する。
【解決手段】金属元素の価数が３価、４価又は５価のいずれかである金属酸化物を０．０１〜６モル％の範囲にて含む酸化マグネシウム蒸着材。または、酸化マグネシウム以外のアルカリ土類金属酸化物と、金属元素の価数が３価、４価又は５価のいずれかである金属酸化物とをそれぞれ金属元素量に換算して０．００５モル％以上で、かつその合計量が金属元素量に換算して６モル％以下となるように含む酸化マグネシウム蒸着材。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料の蒸発量の安定化を図ることにより、蒸着フィルムの収率及び生産性を向上させること。
【解決手段】蒸着材料温度測定手段２２は、蒸着材料移動台１８１の内部に埋設され下部が蒸着材料移動台１８１の下面から露出している複数の金属ビン２２１と、複数の金属ピン２２１の下部に接触するように配置され複数の金属ピン２２１の温度を測定することにより蒸着材料１７の温度を測定する複数の熱電対２２２を具備する。蒸着材料温度測定手段２２は、蒸着材料１７の予備加熱直前における前記蒸着材料の下面の温度を測定し蒸着材料１７への加熱温度分布を測定する。加熱蒸着制御手段２３は、前記加熱温度分布における最大温度と最小温度の差が平均温度から１０％以内で電子ビームによる加熱蒸着を行う。 （もっと読む）