【課題】安全性、操業安定性に優れ、しかも低コストの蒸着用素材を提供する。
【解決手段】棒状の蒸着素材本体２と、該蒸着素材本体２の片端部に接合されたつかみ部３とを有するとともに、つかみ部３は、蒸着素材本体２よりも径の小さいロッド部４と、該ロッド部４から拡径したフランジ部５とが一体に形成され、該フランジ部５と蒸着素材本体２との間が、その外周部を飛び石状に溶接することにより、隙間Ｇをあけて接合されている。 （もっと読む）

本発明は、ＰＶＤ（物理的蒸着）によって、特に陰極アーク蒸着によって酸化物層を製造するための方法であって、粉末冶金ターゲットが蒸着され、その粉末冶金ターゲットは少なくとも２つの金属または半金属構成要素でできており、そのターゲットの金属または半金属構成要素の組成が、液相への転移における室温からの加熱の際に、少なくとも２つの金属または半金属成分の溶融混合物の状態図に関して純粋な固相のどの相境界もが横切られないように選択される方法に関する。 （もっと読む）

【課題】安価な材料から成り、しかも光輝性、高電気抵抗、及び高電波透過性を有し、ミリ波対応型の樹脂成型品に適用可能な高抵抗金属薄膜被覆樹脂材料及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】樹脂基材と、前記樹脂基材の表面に形成されたＡｌ及びＭｇを含む高抵抗金属薄膜とを備え、前記高抵抗金属薄膜は、前記樹脂基材表面に層状に形成された酸化物層と、前記酸化物層の表面に孤立した島状に形成された金属粒子と、前記金属粒子の表面及び粒子間に形成された酸化物被膜とを備えた高抵抗金属薄膜被覆樹脂材料。金属Ａｌ領域と金属Ｍｇ領域に分割されたターゲットを用いて、パルスレーザーデポジション法により、樹脂基材表面にＡｌ及びＭｇを含む高抵抗金属薄膜を形成する薄膜形成工程を備えた高抵抗金属薄膜被覆樹脂材料の製造方法。 （もっと読む）

【課題】膜厚均一性が良好で、かつ、突沸に起因する欠陥等の少ない蒸着膜が成膜できるルツボ、真空蒸着方法、および真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】底面が水平になる成膜材料の収容部を有し、かつ、成膜材料蒸気の排出口の少なくとも一部の高さが他の部分よりも高い第１の条件、および、成膜材料蒸気の排出口を形成する壁面の少なくとも一部が傾斜する第２の条件の、少なくとも一方の条件を満たすルツボを用いることにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】平坦で薄いＡｌＮ薄膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】ＡｌＮ薄膜２は、ＩＩＩ族元素、ＩＶ族元素およびＶ族元素から選ばれた１種以上の添加元素を０．００１ｗｔ％以上１０ｗｔ％以下含む。該ＡｌＮ薄膜２は、ＩＩＩ族元素、ＩＶ族元素およびＶ族元素から選ばれた１種以上の添加元素を０．００１ｗｔ以上１０ｗｔ％以下含むＡｌＮ焼結体を真空チャンバ内にセットし、基材１を真空チャンバ内にセットした状態で、ＡｌＮ焼結体にレーザを照射することで発生したプラズマを用いて基材１上に形成可能である。 （もっと読む）

【課題】 既存設備の大幅改造や装置コスト増大、大規模化等の問題を回避しながら電子ビーム蒸着を行うときにフィルム基材の帯電障害を極力抑え、損傷のない安定的な成膜作業を行うことが可能な巻取式真空蒸着方法及び装置を提供する。
【解決手段】 本発明の巻取式真空蒸着方法及び装置は、フィルム基材が成膜ドラムに密着する近傍の成膜ドラムの内部、および、前記フィルム基材が成膜ドラムから剥離する近傍の成膜ドラム内部に、それぞれ永久磁石を設置するとともに、前記成膜ドラムの対極をチャンバー外壁とし、前記成膜ドラムに４０ＫＨｚ〜１００ＫＨｚの高周波電位を印加することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】バッキングプレートを用いないでレーザが照射された場合でも、クラックが入り難く、且つ、適用可能な酸化物超電導焼結体の組成範囲が広いレーザ蒸着用ターゲットを提供する。
【解決手段】酸化物超電導焼結体を含むレーザ蒸着用のターゲットであって、当該ターゲット使用面に垂直な向きにおける線熱膨張率の値が、当該ターゲット使用面に平行な向きにおける線熱膨張率の値より１０％以上大きいことを特徴とするレーザ蒸着用ターゲットを提供する。 （もっと読む）

【解決手段】密度１．０〜２．０ｇ／ｃｍ³、三点曲げ強度５０ｇ／ｍｍ²以上、かつＢＥＴ比表面積０．１〜２０ｍ²／ｇであるフィルム蒸着用酸化珪素焼結体。
【効果】本発明のフィルム蒸着用酸化珪素焼結体をフィルム蒸着材料として用いることにより、従来、問題となっているスプラッシュによるフィルム上のピンホール等欠陥の発生が安定して防止でき、従って、ガスバリア性に優れ、かつ信頼性に優れた包装材料を安定的に製造することができる。また、本発明のフィルム蒸着用酸化珪素焼結体の製造方法も、特殊な技術を必要とせず、量産化が可能であり、低コストの酸化珪素焼結体を市場に供給できるものである。 （もっと読む）

【課題】レーザ蒸着装置に用いる酸化物ターゲットにおいて、高レーザー出力および高温雰囲気によるターゲットの割れの伸展を防いで、安定した成膜を長時間行うことができるレーザー蒸着用酸化物ターゲットの提供。
【解決手段】ターゲットにレーザー光を照射してターゲット表面から酸化物の微粒子を発生させ、該微粒子を基材表面に堆積させ、基材表面に酸化物膜を成膜するレーザ蒸着装置に用いる酸化物ターゲットにおいて、希土類酸化物粉末、炭酸バリウム粉末及び酸化銅粉末を一定比率で混合し、この混合粉末を圧粉成型し、さらに部分溶融成型して得られたターゲット本体に銀網が埋設されたことを特徴とするレーザー蒸着用酸化物超電導ターゲット。 （もっと読む）

【課題】レーザ蒸着装置に用いる酸化物ターゲットにおいて、その使用限界時間を改善し、安定した成膜を長時間行うことができるレーザー蒸着用酸化物ターゲットの提供。
【解決手段】ターゲットにレーザー光を照射してターゲット表面から酸化物の微粒子を発生させ、該微粒子を基材表面に堆積させ、基材表面に酸化物膜を成膜するレーザ蒸着装置に用いる酸化物ターゲットにおいて、ターゲットの固定プレート上に、Ａｇろう層が接合され、該Ａｇろう層上に酸化物・Ａｇ混合層が接合され、該酸化物・Ａｇ混合層上に酸化物層が接合されてなることを特徴とするレーザー蒸着用酸化物ターゲット。 （もっと読む）

【課題】 保磁力などの磁気特性が効果的に向上または回復し、かつ、耐食性や耐候性を有する永久磁石を高い量産性で製造できる永久磁石の製造方法を提供する。
【解決手段】 処理室７０を画成する処理箱７内に焼結磁石と、Ｄｙ、Ｔｂの少なくとも一方を含む金属蒸発材料ｖとを配置した後、真空チャンバ３内に収納する。そして、真空中にて処理箱を加熱して金属蒸発材料を蒸発させ、蒸発した金属原子を焼結磁石表面に付着させ、前記付着した金属原子を焼結磁石の結晶粒界及び／または結晶粒界相に拡散させる。処理室内の昇温過程で金属蒸発材料が蒸発しないように処理室内に不活性ガスを導入する。 （もっと読む）

【課題】カソード電極側の蒸着材料が消耗することによってトリガ放電が発生しなくならないように、蒸着材料を自動的に供給可能な同軸型真空アーク蒸着源。
【解決手段】本発明の蒸着源５は、蒸着材料１１と一体的な棒状のカソード電極１２と、カソード電極１２の周囲に配置されたアノード電極と、蒸着材料１１に近接した位置に配置されたトリガ電極１３と、蒸着材料１１を軸方向に移動させる手段と、カソード電極１２とアノード電極１２の間における放電を制御する電源装置６と、電源装置６の出力に基いて直線駆動機構６２の駆動制御を行う放電コントローラ６５とを備えた同軸型真空アーク蒸着源である。蒸着材料１１と一体的な棒状のカソード電極１２は、放電コントローラ６５からの信号を受けた直線駆動機構６２により、アーク放電に同期して自動的に駆動される。 （もっと読む）

【課題】同軸型真空アーク蒸着源を用いた真空処理装置における蒸着量のバッチ毎の再現性を改善し、その安定化を提供する。
【解決手段】同軸型真空アーク蒸着源５は、環状のトリガ電極１３と、カソード電極１２と、カソード電極１２に接続される一端部と、一端部と反対側の他端部とを有し、一端部と他端部の少なくとも一方が面取りされた円柱状の蒸着材料１１と、トリガ電極１３と蒸着材料１１の間、及びトリガ電極１３とカソード電極１２の間に配置された絶縁碍子１４と、トリガ電極の周囲に配置され、一端に開口を有する筒状のアノード電極２３とを具備する。これにより、蒸着材料１１が消耗しても、その端部周縁の曲面が維持された状態となるので、蒸発粒子の出射角が安定し、蒸着の再現性が改善する。 （もっと読む）

【課題】 蒸着法によって、生産上大きなトラブルの原因となるスプラッシュ等を防止し、安定して平坦な膜を成長することができる、薄膜形成方法、その薄膜形成方法で形成したリチウム電池用正極、その正極を備えるリチウム電池を提供する。
【解決手段】 るつぼ２１の原料装入空間２１ａを、１つまたは数個によって占めるような形状のペレット１５を、成形加工する工程と、成形加工によって準備されたペレット１５を、１個または数個、るつぼに装入して照射を行う工程とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】多層膜を一括で形成可能な蒸着方法を提供する。
【解決手段】２次元的に配列された蒸着源１１０が層構成の数に対応して蒸着材料毎に３つのグループ１１１、１１２、１１３に分かれており、各グループの蒸着源は発熱体１２０（１２１、１２２、１２３）によって、それぞれ独立して加熱・制御可能である。各蒸着源１１０は、充填された材料の９５％以上を、各層の成膜においてグループ毎に順次蒸発させる。蒸着源の交換を行うことなく複数の有機材料層からなる多層膜を一括で形成することができる。 （もっと読む）

【課題】発光効率を高める為、放電ガス中のＸｅ濃度を１０％以上に高めたＰＤＰの放電電圧を低減し、且つ、取り扱いが容易な保護膜用蒸着材、及び、保護膜を提供する。
【解決手段】Ｍｇに対して希土類元素を０．３〜０．６５ｍｏｌ％含有し、ＭｇＯ純度が９９ｍｏｌ％以上である事を特徴とする、放電ガス中のＸｅ濃度が１０％以上のプラズマディスプレイパネルの保護膜用蒸着材。希土類元素を０．７〜１．６ｍｏｌ％含有するＭｇＯからなる事を特徴とする、放電ガス中のＸｅ濃度が１０％以上のプラズマディスプレイパネル用保護膜。希土類元素としてはＣｅが好適である。 （もっと読む）

【課題】耐久性の良好な防汚層を有する光学物品の製造方法を提供する。
【解決手段】基材２００の上に反射防止層を形成することと、ペレット５９を用いた真空蒸着法により、反射防止層に重ねて防汚層を形成することとを有する製造方法を提供する。ペレット５９は、フッ素含有有機ケイ素化合物を含む防汚溶液に触媒を添加し、活性状態のフッ素含有有機ケイ素化合物を含む防汚溶液を含浸した後、触媒の蒸発温度以上、フッ素含有有機ケイ素化合物の蒸発温度未満の温度範囲内で加熱処理されたものである。反応活性が適当な状態となったフッ素含有有機ケイ素化合物を含む防汚溶液をペレット内に固定することができ、拭き耐久性の高い防汚層を成膜できる。 （もっと読む）

【課題】 スプラッシュ、更にはパーティクルの発生を顕著に抑制でき、しかも高強度で低コストなＳｉＯ焼結蒸着材料及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 析出ＳｉＯからなる原料粉末を蒸着材料形状に成形する。ＳｉＯの成形体を酸素含有雰囲気中で低温焼結する。低温焼結体を非酸化性雰囲気中で高温焼結する。ＳｉＯ₂ からなる標準試料をＥＰＭＡにより定量分析したときのＯ／Ｓｉ比ａの理論値ａ₀ （≒１．１４）に対する比（ａ／ａ₀ ）を補正係数Ｋとし、ＥＰＭＡによるＯ／Ｓｉ比の実測値Ａを前記補正係数Ｋにより補正して得たＯ／Ｓｉ比の補正値Ａ₁ （＝１／Ｋ・Ａ）から求めた酸素定量分析値Ｏ₁ 〔＝１００／（１＋１／Ａ₁ ）〕が、酸素含有雰囲気中での低温焼結により４４〜４９％となる。高温焼結での析出Ｓｉの弊害が抑制されることにより、焼結温度の上昇が可能となり、圧縮破壊強度が１５ＭＰａ以上に上り、３０ＭＰａ以上も可能となる。 （もっと読む）

【課題】焼結密度が高く、高電圧下でも異常放電を生じ難く、広い範囲に蒸着膜を形成する蒸着材材に適するＺｎＯ蒸着材とその製造方法などを提供する。
【解決手段】ＺｎＯを主成分とし、希土類酸化物を含有する焼結体ペレットからなり、焼結体の相対密度が９７.５％以上であることを特徴とし、好ましくは、希土類酸化物の含有量が０.０５〜１０質量％であり、一次粒子の平均粒径が０.１〜５.０μmのＺｎＯ粉末と、一次粒子の平均粒径が該ＺｎＯ粉末の平均粒径の１/５〜１/２である希土類酸化物粉末とを、希土類酸化物の含有量が上記範囲になるように混合し、バインダーを加え、加圧成形し、脱型後、１０００℃以上で焼成してなるＺｎＯ蒸着材とその製造方法。 （もっと読む）

【課題】表面抵抗が低く、酸素を含む雰囲気下で加熱しても加熱前後の表面抵抗の変化率が小さく耐熱性に優れた酸化亜鉛系薄膜製造用のイオンプレーティング用ターゲットを提供する。
【解決手段】酸化亜鉛およびインジウムを含む焼結体からなる酸化亜鉛系薄膜製造用のイオンプレーティング用ターゲットであって、焼結体に含まれるインジウム元素の比率は０．００３〜３０質量％である。焼結体の結晶粒径を走査型電子顕微鏡で観察したとき、平均結晶粒径は０．１〜２０μｍであることが好ましい。 （もっと読む）