【課題】ＳＣＡＭ（ＳｃＡｌＭｇＯ４：スカンジウム・アルミニウム・マグネシウム・オキサイド）結晶基板の簡便かつ安価な製造方法を提供する。
【解決手段】サファイア（０００１）の薄膜成膜用基板１を真空チャンバー内に導入し、導入後に、パルスドレーザー蒸着法によって、フラックスをターゲットとして、薄膜成膜用基板１上にフラックスの薄膜２を作製し、その後スカンジウム（Ｓ）、アルミニウム（Ａ）及びマグネシウム（Ｍ）を含むＳＡＭ成分をターゲットとして、薄膜成膜用基板１をフラックスが溶融する温度で加熱しながら薄膜成膜用基板の薄膜上にＳＡＭ成分の薄膜３を積層して、ＳＣＡＭ単結晶膜４を有するＳＣＡＭ薄膜基板を作製する。 （もっと読む）

【課題】ＵＮＣＤを形成する技術を提供する。
【解決手段】グラファイトで構成されたカソード電極１３２とトリガ電極１３４の間にトリガ放電を発生させ、アノード電極１３１とカソード電極１３２の間にアーク放電を誘起させ、カーボン蒸気のイオンを真空槽１０内に放出させる。真空槽１０内は水素ガス雰囲気にしておき、電荷を有するカーボン蒸気を成膜対象物２０に到達させる。成膜対象物２０の表面にＳｉＣ膜２２を形成しておくと、ＵＮＣＤが成長する。 （もっと読む）

【課題】電子ビーム蒸着法、イオンプレーティング法、高密度プラズマアシスト蒸着法などの真空蒸着法により酸化物透明導電膜を製造する際に、多量のエネルギーを投入しても、割れやクラックが発生することのない酸化物焼結体を提供する。
【解決手段】モリブデンを固溶したインジウム酸化物を含有し、モリブデンがインジウムに対する原子数比で０．００１以上０．０６０以下含まれ、密度が３．７ｇ／ｃｍ³以上
６．５ｇ／ｃｍ³以下であり、金属相と酸化モリブデンの結晶相を含まない酸化物焼結体
とする。 （もっと読む）

安定で管理された蒸着によってマグネシウムの蒸着物を形成する。マグネシウムの含有量が４３．３４質量％以下であるマグネシウム−銅組成物を用いてマグネシウム蒸着を行う。 （もっと読む）

【課題】 ガスバリア性に優れた透明ガスバリア性フィルムを効率良く製造することが可能な透明ガスバリア性フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】 同一の真空槽１２を用いて、透明基材フィルム１８の片面または両面にガスバリア性有機薄膜層およびガスバリア性無機薄膜層を形成する透明ガスバリア性フィルムの製造方法において、前記ガスバリア性有機薄膜層の形成は、前記ガスバリア性有機薄膜層形成材料を気化して発生した蒸気を前記透明基材フィルム１に接触させて塗膜を形成し、前記塗膜を硬化して前記透明ガスバリア性有機薄膜層を形成することで実施され、前記塗膜形成を真空槽１２内で実施し、前記塗膜形成において、前記真空槽１２内の圧力よりも低い雰囲気圧力条件下で前記蒸気を前記透明基材フィルム１８に接触させる。前記真空槽１２内の圧力よりも低い雰囲気条件下は、例えば、真空槽１２の真空引きとは別に設けた真空ポンプ１９により実現する。 （もっと読む）

本発明の主題は、レーザアブレーションにもとづくコーティング方法であって、基材とアブレーションされるターゲットとの間の距離が例外的に小さいコーティング方法に関する。この短い距離は、基材のコーティングを、工業的規模においても、好ましくは低真空あるいは非真空の雰囲気のもとですら可能にする。本発明は、あらゆる大型サイズの物体または種々の形状を有する物体の最適なコーティングに関して好ましい。
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本発明は、物体を１つ以上の表面によってコーティングするためのレーザアブレーション方法であって、コーティング対象の物体、すなわち基材を、コーティング対象の物体へと蒸着される表面の一様性が±１００ｎｍとなるように、ターゲットをアブレーションすることによってコーティングする方法に関する。コーティングされた物体の表面は、有利にはミクロンサイズの粒子が存在せず、典型的には個々の粒子のサイズが最大でも±２５ｎｍであるであるナノテクノロジー表面である。さらに、物体は、前記方法によって製造される製品に関する。
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【課題】高透過率の透明性と、低抵抗の導電性とを同時に実現する透明導電性積層体を提供すること。
【解決手段】本発明では、上記課題を達成するために、透明基材（１１）上に、透明基材（１１）側より透明導電性薄膜からなる第１層（１２）、第１層（１２）および第３層（１４）よりも屈折率が低い低屈折率薄膜層からなる第２層（１３）、透明導電性薄膜からなる第３層（１４）を積層してなることを特徴とする透明導電性積層体としたものである。 （もっと読む）

【課題】 電子ビーム物理蒸着装置における溶融池とコーティングされる部品との距離を自動制御により一定に保ち、コーティングのばらつきを減少させる装置を提供する。
【解決手段】 電子ビーム物理蒸着装置１０のチャンバ１２内に配置された部品Ｐが回転シャフト１６によって固定され、セラミックインゴットＣからの気化物質Ｖが蒸着される。装置１０は、インゴットＣを受けるように構成されたるつぼ１８と、るつぼ内にインゴットＣを供給するドライブと、インゴットＣを融解し気化させる電子ビームガン３０を含む。温度センサ３２がるつぼ１８内の溶融池Ｍの位置を監視するとともに、制御装置３４が検知された溶融池Ｍの位置に対応してインゴットＣの供給速度を自動調節し、溶融池の高さを一定に保つことにより部品に適用されるコーティングのばらつきを減少させる。 （もっと読む）

【課題】 種々の金属組成の合金被膜を希土類系永久磁石などの個片の表面に簡易に蒸着形成するための方法を提供すること。
【解決手段】 本発明の真空蒸着方法は、金属Ａと金属Ｂの２種類の金属を少なくとも含む合金被膜（但し金属Ｂは金属Ａよりも高蒸気圧である）を被処理物である個片の表面に蒸着形成するための真空蒸着方法であって、真空処理室の内部の被膜原料溶融蒸発部において、坩堝内の金属Ａの固体と坩堝の直上方に所定の送り速度で案内される金属Ａと金属Ｂを含む合金ワイヤーに対して電子線を照射し、金属Ａの固体と合金ワイヤーを同時に溶融蒸発させることで、合金ワイヤーの送り速度に応じた金属組成の合金被膜を被膜原料溶融蒸発部の上方に位置する個片の表面に蒸着形成することを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】３個以上のリングハースに対しても均等に成膜材料を供給することができること。
【解決手段】長期間の連続運転に耐える多量の成膜材料を収容する成膜材料供給室から供給される成膜材料を成膜室内のリングハース上で蒸発させて上方を移送される基板に膜を形成させる真空蒸着装置において、前記リングハースは前記移送される基板の幅方向に３個以上並設されていて、少なくとも両端のリングハースを除く中間のリングハースには、前記成膜材料の供給量を調節可能な電磁振動フィーダにより供給することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】シングルナノサイズのクラスター生成、小さなクラスターサイズ分散性、高いビームフラックスおよび高いクラスタービームエネルギーの達成を可能とする。
【解決手段】レーザアブレーション法によってナノサイズクラスターを生成するクラスター生成装置は、クラスターを生成するクラスターセル11の取出口21に、ラバールノズル13のスロート口31が接続されているものである。 （もっと読む）

【課題】ＳｒＯとＣａＯを主成分とするペレット状の蒸発材料の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の蒸発材料の製造方法は、ペレット状の蒸発材料を製造する方法であって、ＳｒＯ粉末とＣａＯ粉末とを十分かつ均一に混合して混合粉末とする工程Ｓ１と、この混合粉末を加圧成型しペレット状の成型体とする工程Ｓ２と、この成型体をＳｒＣＯ₃の分解温度以上の温度で焼成して焼成体とする工程Ｓ３と、この焼成体を冷却する工程Ｓ４とを有する。これらの工程Ｓ１〜Ｓ４をＨ₂Ｏ、ＣＯ₂及びＣＯを含まない雰囲気中において行う。本発明によれば、形成される蒸着膜と蒸発材料との間に組成のずれがなく、かつ、高い成膜レートにおいてもスプラッシュの発生のない蒸着膜の形成が可能になる。 （もっと読む）

【課題】 接触する被切削材の凝着を大きく抑制でき、しかも、基材と皮膜との密着性に優れ、これによって優れた耐摩耗性を確保することが可能な切削工具と、工業的な量産規模での製造を可能とする前記切削工具の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る切削工具１は、超硬合金からなる基材１Ａと、該基材１Ａの表面に形成された皮膜１Ｂとを備え、少なくとも被切削材Ｍと接触する接触面、或いは少なくとも逃げ面において、前記皮膜１Ｂの最外層がＳｉＣからなることを特徴とする。切削工具１は、ＳｉＣを成膜源とする物理蒸着法（好適にはレーザデポジション法）を用いて、超硬合金からなる基材１Ａの表面に最外層がＳｉＣからなる皮膜１Ｂを形成することによって製造される。 （もっと読む）

【課題】低抵抗で光透過率が大きい酸化物透明導電膜を電子ビーム蒸着法などの各種真空蒸着法を用い連続供給システムを備えた蒸着装置で製造するにあたり、蒸着用酸化物焼結体タブレットの供給時に破損物質が発生することなく真空槽内の汚染を防止でき、連続供給システムの押上げ用ロッド軸や回転テーブルの回転軸等機構部品に破損物質が堆積することによって、スムーズな駆動に支障をきたすことの無い蒸着用酸化物焼結体タブレットを提供する。
【解決手段】連続供給システムを備えた蒸着装置を使用し真空蒸着法で成膜する時に用いる蒸着用酸化物焼結体タブレットであって、該蒸着用酸化物焼結体タブレットは略円柱形状であり、底面と側面がなす角部が、断面長さが０．７〜５ｍｍのＣ面取り形状、又は直径０．７〜５ｍｍのＲ面取り形状をなしているか、該略円柱形状の側面の十点平均粗さ（Ｒｚ）が１１０μｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】 真空蒸着法によって、膜厚のばらつきの少ない防汚膜を光学物品に形成できる防汚性光学物品の製造装置を提供すること。
【解決手段】 円形ドーム形状の支持装置２０に対し、複数の排気口１１１が支持装置２０の回転軸に対して回転対称な配置で設けられているため、排気の流れを支持装置２０の回転軸に対して等方的にできる。排気が等方的に行われることによって、反射防止膜１２等の表面処理が施された基板１５が支持された支持装置２０の異なる位置において、蒸着物質の濃度分布を回転軸に対して等方的にでき、かつ均一にできる。したがって、各プラスチックレンズ１の表面に形成される防汚膜１３の膜厚のばらつきを少なくできる。 （もっと読む）

【課題】良質の薄膜を作成することにより、これまで不可能だった紫外光発光を示すタングステン酸塩化合物／モリブデン酸塩化合物を得ようとするものである。
【解決手段】10nm以下の均一な結晶性ナノ粒子が凝集した組織を備えていることを特徴とする紫外発光を示すタングステン酸塩化合物及び/又はモリブデン酸塩化合物からなる紫外発光薄膜及びタングステン酸塩化合物及び／又はモリブデン酸塩化合物からなるターゲットと基板をオフアクシス配置すると共に、該ターゲットにレーザーを照射し、レーザーアブレーションにより基板上にタングステン酸塩化合物及び／又はモリブデン酸塩化合物からなる薄膜を形成することを特徴とする紫外発光薄膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 均質性の高い酸化マグネシウム膜を安定して効率よく成膜できる蒸着材を効率よく、しかも低コストで製造するための材料および方法の提供、および前記酸化マグネシウム蒸着材の製造原料となる酸化マグネシウム粉末を提供すること。
【解決手段】 ＢＥＴ法による比表面積が３〜５ｍ^２／ｇの範囲にある多結晶酸化マグネシウム粉末を蒸着材の材料とすることにより、蒸着材成型物の生産効率の向上と蒸着時のスプラッシュ防止を図る。 （もっと読む）

【課題】 生産性に優れ、ガスバリア性の高い透明ガスバリア膜の製造が可能な透明ガスバリア膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 真空槽１２中でハース３に入れられた有機材料または無機材料に電子ビーム発生器２により電子ビームを照射して物理的に前記有機材料または前記無機材料を気化する。ここで、前記有機材料または前記無機材料の蒸発源である前記電子ビーム発生器２とは別の圧力勾配型プラズマガン１によって発生されるプラズマを利用して、前記気化した有機材料または無機材料を活性化させて、透明基材フィルム１３上に有機薄膜層または無機薄膜層を形成する。 （もっと読む）

【課題】 電子ビームを用いた薄膜形成装置において、昇華性材の蒸着材料に電子ビームを照射時、電子チャージアップ現象が生じ、安定した蒸着が行えないという問題点を解決し、昇華性材上の電子の中和を可能とする薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】 真空チャンバ内に設けられた電子ビーム発生装置とおよび柱状をなし中央部の上面から下面に達する貫通孔が設けられた蒸着材料を収納したるつぼを備え、電子ビーム発生装置の出射する電子ビームを蒸着材料に照射する。 （もっと読む）