【課題】表面抵抗が低く、酸素を含む雰囲気下で加熱しても加熱前後の表面抵抗の変化率が小さく耐熱性に優れた酸化亜鉛系薄膜製造用のイオンプレーティング用ターゲットを提供する。
【解決手段】酸化亜鉛およびインジウムを含む焼結体からなる酸化亜鉛系薄膜製造用のイオンプレーティング用ターゲットであって、焼結体に含まれるインジウム元素の比率は０．００３〜３０質量％である。焼結体の結晶粒径を走査型電子顕微鏡で観察したとき、平均結晶粒径は０．１〜２０μｍであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】１×１０^-4Ωｃｍ未満の抵抗率を有する低抵抗ＩＴＯ薄膜とその製造方法等を提供する。
【解決手段】低電圧スパッタリング法、酸素クラスタービーム援用蒸着法、ＣＶＤ法、有機金属ＣＶＤ法、有機金属ＣＶＤ−原子層積層法、及びＭＢＥ（分子線エピタキシー）法のうちから選ばれる成膜法を用いて結晶性基板上に形成する低抵抗ＩＴＯ薄膜の製造方法であって、
結晶性基板の最表面の結晶性配列が、Ｉｎ₂Ｏ₃の結晶構造と適合するものであることを特徴とする低抵抗ＩＴＯ薄膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】液晶を用いた画像表示装置において、光学的異方性を避けるためと、高速応答のために、液晶を基板に対して垂直若しくはそれに近い配向にする必要がある。液晶には強い光、波長の短い光があたることが多いので、従来のポリイミドの配向膜では劣化が生じ寿命が短くなる。配向膜を無機化したいが、ＳｉＯ_２斜方蒸着を液晶配向膜とした場合、液晶として特性の優れる誘電率異方性が正のものを使うと水平配向になってしまう。金属アルコラートを用いて垂直配向にする技術はあるが工程が複雑になっている。
【解決手段】液晶を挟む２枚の基板の内、少なくとも一方の基板側の液晶配向膜を金属にすることにより、基板の間に封入する液晶は、誘電率異方性（Δε）が正のものを用いていながら、基板に対して垂直若しくはほぼ垂直に配向させることができる。 （もっと読む）

【課題】成膜時の蒸発速度、成膜速度が高く、導電性および透明性に優れ、さらには耐湿性に優れた緻密なＺｎＯ膜を形成するＺｎＯ蒸着材とその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電膜の成膜に用いられるＺｎＯ蒸着材であって、ＺｎＯを主成分とする焼結体からなり、該焼結体が第一添加元素と第二添加元素とを含み、第一添加元素がＰｒ、Ｎｄ、ＰｍおよびＳｍの群から選ばれた１種または２種以上の元素であり、第二添加元素がＢ、Ａｌ、ＧａおよびＳｃの群から選ばれた１種または２種以上の元素であり、第一添加元素の含有量が０.１〜１４.９質量％の範囲内であり、第二添加元素の含有量が０.１〜１０質量％の範囲内であり、第一添加元素の含有量が第二添加元素の含有量より多く、かつ該焼結体が３〜５０％の気孔率を有する多孔質焼結体であることを特徴とするＺｎＯ蒸着材、およびその製造方法。 （もっと読む）

【課題】成膜時の蒸発速度、成膜速度が高く、導電性および透明性に優れ、さらには耐湿性に優れた緻密なＺｎＯ膜を形成するＺｎＯ蒸着材とその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電膜の成膜に用いられるＺｎＯ蒸着材であって、ＺｎＯを主成分とする焼結体からなり、該焼結体が第一添加元素のＬａと第二添加元素とを含み、該第二添加元素がＢ、Ａｌ、ＧａおよびＳｃの群から選ばれた１種または２種以上の元素であり、Ｌａの含有量が０.１〜１４.９質量％の範囲内であり、第二添加元素の含有量が０.１〜１０質量％の範囲内であり、Ｌａの含有量が第二添加元素の含有量より多く、かつ該焼結体が３〜５０％の気孔率を有する多孔質焼結体であることを特徴とし、好ましくは、第一添加元素のＬａと第二添加元素の合計含有量が０.２〜１５質量％、平均気孔径０.１〜５００μｍ、平均結晶粒径１〜５００μｍのＺｎＯ蒸着材であるＺｎＯ多孔質焼結体とその製造方法。 （もっと読む）

【課題】成膜時の蒸発速度、成膜速度が高く、導電性および透明性に優れ、さらには耐湿性に優れた緻密なＺｎＯ膜を形成するＺｎＯ蒸着材とその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電膜の成膜に用いられるＺｎＯ蒸着材であって、ＺｎＯ純度が９８％以上のＺｎＯ焼結体からなり、該焼結体がＹ、Ｌａ、Ｓｃ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、ＰｍおよびＳｍの群から選ばれた１種または２種以上の添加元素を含有し、かつ該焼結体が３〜５０％の気孔率を有する多孔質焼結体であることを特徴とし、好ましく、比抵抗９.５×１０^-4以下、および可視光透過率８７％以上のＺｎＯ膜を形成するＺｎＯ蒸着材およびそのＺｎＯ膜。 （もっと読む）

【課題】成膜時の蒸発速度、成膜速度が高く、導電性および透明性に優れ、さらには耐湿性に優れた緻密なＺｎＯ膜を形成するＺｎＯ蒸着材とその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電膜の成膜に用いられるＺｎＯ蒸着材であって、ＺｎＯを主成分とする焼結体からなり、該焼結体が第一添加元素のＹと第二添加元素とを含み、該第二添加元素がＢ、Ａｌ、ＧａおよびＳｃの群から選ばれた１種または２種以上の元素であり、Ｙの含有量が０.１〜１４.９質量％の範囲内であり、第二添加元素の含有量が０.１〜１０質量％の範囲内であり、Ｙの含有量が第二添加元素の含有量より多く、かつ該焼結体が３〜５０％の気孔率を有する多孔質焼結体であることを特徴とし、好ましくは、第一添加元素のＹと第二添加元素の合計含有量が０.２〜１５質量％、平均気孔径０.１〜５００μｍ、平均結晶粒径１〜５００μｍのＺｎＯ蒸着材であるＺｎＯ多孔質焼結体とその製造方法。 （もっと読む）

【課題】成膜時の蒸発速度、成膜速度が高く、導電性および透明性に優れ、さらには耐湿性に優れた緻密なＺｎＯ膜を形成するＺｎＯ蒸着材とその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電膜の成膜に用いられるＺｎＯ蒸着材であって、ＣｅおよびＧａを含み、Ｃｅ含有量がＧａ含有量より多く、Ｃｅ含有量が０.１〜１４.９質量％の範囲内およびＧａ含有量が０.１〜１０質量％の範囲内であるＺｎＯ多孔質焼結体を主体とし、該焼結体が３〜５０％の気孔率を有することを特徴とし、好ましくは、ＣｅとＧａの合計含有量が０.２〜１５質量％、平均気孔径０.１〜５００μｍ、平均結晶粒径１〜５００μｍのＺｎＯ蒸着材であるＺｎＯ多孔質焼結体とその製造方法。 （もっと読む）

【課題】スプラッシュ数やスカム率が低く、コンピュータのデータ等の情報を記録する媒体としても利用可能な高品質の蒸着テープを得ることができる蒸着用 素材を提供する。
【解決手段】コバルト系蒸着用素材に含まれる炭素、マグネシウム、珪素、マンガン、アルミニウム、およびチタンの濃度を、合計で４２〜７１ｐｐｍとなるようにする。 （もっと読む）

【課題】PDP用MgO保護膜を成膜するためのターゲット材として、成膜特性、成膜後のPDPの電気特性など、全ての性能のバランスという点において優れたPDP保護膜を成膜することが可能なMgO焼結体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】酸化マグネシウム粉末粒子を成形焼成した酸化マグネシウム焼結体であって、前記焼結体が、Alを10〜1000ppm、Caを10〜1000ppm、Feを10〜500ppm、Crを1〜200ppm、Mnを1〜100ppm、Vを1〜100ppmの範囲で含み、相対密度が90.0%以上である蒸着材用酸化マグネシウム焼結体である。 （もっと読む）

【課題】アーク放電を行なわずに均一な粒子径を有し、その表面に炭素被膜が形成された炭素被覆金属微粒子を提供すること。
【解決手段】金属微粒子を構成する金属材料を保持したカーボンロッドをチャンバー内で懸架し、該チャンバー内を１０^−５〜１０^−３Ｐａに減圧し、該チャンバー内の圧力が１００〜５００００Ｐａとなるように不活性ガスを導入した後、カーボンロッドに電圧を印加して通電加熱をする炭素被覆金属微粒子の製造方法、外部空間と遮断して設けられたチャンバー内で金属材料保持用カーボンロッドの一端を懸架するための導電性懸架材Ａおよびカーボンロッドの他端を懸架するための導電性懸架材Ｂが懸架されて外部電源と接続され、減圧管および不活性ガス導入管がチャンバーの内部空間と接続されている炭素被覆金属微粒子の製造装置。 （もっと読む）

【課題】あらかじめ決められた化合物、たとえば蛍光体の薄膜を基板上に成膜する方法。
【解決手段】その化合物は、３元、４元またはより高次の化合物、特に周期表のグループIIAおよびIIBの少なくとも１つの元素のチオアルミン酸塩、チオ没食子酸塩およびチオインデートからなるグループから選ばれた化合物である。実施例において、この方法は、少なくとも１つの硫化物のペレットを第１のソースの上に置き、少なくとも１つの硫化物のペレットを第２のソースの上に置き、１つのペレットに不純物が含まれているものである。基板への蒸着は各々別の電子ビームを使って実施する。硫化物の蒸発率は各々別に遮断された膜率モニタで監視する。基板上に化合物を生成するためにソースの温度を制御する。この方法は、とくにエレクトロルミネセントディスプレイにおいて、ほぼ不透明の基板上に３元または４元の蛍光体を成膜するために使用される。 （もっと読む）

【課題】高屈折率を有する光吸収率の小さい光学薄膜用材料であり、大電流の電子ビームの照射を行っても材料の割れやビーム照射面の陥没などの起こらない真空蒸着用材料として用いることのできる金属酸化物焼結体を提供する。
【解決手段】金属成分としてジルコニウムとチタニウムとニオブを含み、化学量論的にＺｒ_ｗＴｉ_ｘＮｂ_ｙＯ_ｚの組成で表され、かつ酸素欠損を有する複合酸化物であり、該ｗ、ｘ、ｙ、ｚは、３．８≦ｗ≦７．９、０．１６≦ｘ≦５．６、０．０１≦ｙ≦１．８３、１３．６≦ｚ＜２０．１５の範囲にあり、および、該酸素欠損の量は、完全酸化に対して０．０８９ｍｏｌ％以上１７．０８４ｍｏｌ％以下の範囲にあることを特徴とする光学薄膜の形成材料。 （もっと読む）

【課題】各種電子機器、情報機器のディスプレイなどに使用される有機エレクトロルミネッセンス素子の陰極を構成する金属膜を提供する。
【解決手段】Ｂａ：３０〜７０質量％を含有し、さらに酸素：０．０５〜１質量％を含有し、残部がアルミニウムおよび不可避不純物からなる組成を有する金属膜であって、この金属膜は蒸着、スパッタ、その他の方法で成膜される。 （もっと読む）

【課題】 セラミックゾルを基材表面にコーティングした後、２００℃〜３５０℃の低温熱処理を実施する場合、ゾルが微粒子であってもセラミック耐食膜を充分に緻密化しにくく、ゾル粒子間に腐食性ガスが浸入しやすい。
【解決手段】 基材１の表面に、コーティング後に焼成したセラミックスからなる耐食膜２が形成されている耐食性部材Ｓにおいて、耐食膜２の主面を走査型電子顕微鏡観察によって組織表面を拡大した写真または画像において、結晶粒子の面積占有率を７０％以上とする。 （もっと読む）

【課題】蒸着源、蒸着装置及び蒸着方法の技術分野に関し、特に、同軸型真空アーク蒸着源に関する。
【解決手段】本発明の蒸着源５では、絶縁部材１０の側面２０と、トリガ電極１２の表面２２と、蒸着材料１４ａの側面２４とが、面一になるように構成されている。トリガ電極１２と蒸着材料１４ａとの間に電圧を印加して、トリガ放電を発生させると、蒸着材料１４ａの側面２４から荷電微粒子３１や巨大粒子３３が放射状に放出されるが、蒸着材料の側面２４に沿う方向に放出される荷電微粒子３１や巨大粒子３３の数は非常に少ない。このため、蒸着材料の側面２４と面一に配置された絶縁部材の側面２０には、巨大粒子３３がほとんど付着しないので、付着した巨大粒子３３が再蒸発して基板４の表面に付着する量を少なくすることができ、従来に比して膜質の良好な薄膜を成膜することができる。 （もっと読む）

本発明は、ＡｌとＴｉとを含有する、窒化物又は炭窒化物の単層又は多層の、硬質材料被膜であって、少なくとも１つの被膜層が組成（Ａｌ_xＴｉ_yＲｕ_zＭｅ_v）（Ｎ_aＣ_1-a）を有し、式中、０．４５≦ｘ≦０．７５、０．２０≦ｙ≦０．５５、０．００１≦ｚ≦０．１０、０≦ｖ≦０．２０、そして、０．８≦ａ≦１．１であり、ＭｅがＳｉ、Ｂ、Ｗ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｖ、Ｈｆ及びＺｒからなる元素群から選択されているものに関する。Ｒｕ含有硬質材料被膜は、硬度低下温度がより高い温度へずらされ、従って改善された耐摩耗性を示す。
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【課題】蒸着源、蒸着装置及び蒸着方法の技術分野に関し、特に、同軸型真空アーク蒸着源に関する。
【解決手段】本発明の蒸着源５では、絶縁部材１０の側面２０と、トリガ電極１２の表面２２と、蒸着材料１４ａの側面２４とが、面一になるように構成されている。トリガ電極１２と蒸着材料１４ａとの間に電圧を印加して、トリガ放電を発生させると、蒸着材料１４ａの側面２４から荷電微粒子３１や巨大粒子３３が放射状に放出されるが、蒸着材料の側面２４に沿う方向に放出される荷電微粒子３１や巨大粒子３３の数は非常に少ない。このため、蒸着材料の側面２４と面一に配置された絶縁部材の側面２０には、巨大粒子３３がほとんど付着しないので、付着した巨大粒子３３が再蒸発して基板４の表面に付着する量を少なくすることができ、従来に比して膜質の良好な薄膜を成膜することができる。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜を成膜する際の安全性を高めると共に、基板に対する水素パッシベーションを効果的に行って生産性も向上する。
【解決手段】太陽電池用の反射防止膜を成膜する成膜装置１において、成膜室９内にプラズマビームＰｂ２を供給し、酸化珪素からなるタブレットＭを昇華させて反射防止膜を成膜する。更に、水素イオン発生ガスを成膜室９内に導入し、アークプラズマ環境で水素イオンを生成し、その水素イオンでダングリングボンドを終端する。この成膜装置１では、酸化珪素からなるタブレットＭを用いているため、モノシランガスに比べて安全性は極めて高い。さらに、加熱ヒータ２６による加熱によって水素パッシベーションが促進される。その結果として、基板Ｗに対する水素パッシベーションを効果的に行いながら生産性も向上できる。 （もっと読む）

【課題】電子ビーム蒸着法にて蒸着しても、スプラッシュ程度と成膜（蒸発）速度との最適化を図ることができ、同時に、材料コストの低減と生産性向上とを図る。
【解決手段】ＭｇＯ純度が９９．０％以上かつ相対密度が９０．０％以上で、外形体積が３５ｍｍ^３ 〜１５００ｍｍ^３ である。 （もっと読む）