説明

Fターム[4K029DB14]の内容

物理蒸着 (93,067) | 蒸着装置 (6,894) | るつぼ、蒸発材容器 (1,378) | 複数のるつぼを有するもの (610)

Fターム[4K029DB14]に分類される特許

41 - 60 / 610


【課題】基板に蒸着される膜の膜厚均一性を向上させることができる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置10は、基板Sを収容する処理チャンバ12と、基板Sを保持するステージ14と、蒸着材料を含むガスGを基板Sに噴き付ける複数のノズル16cを有する蒸着ヘッド18cとを備える。ノズル16cはY方向に沿って配列される。成膜装置10は、ノズル16cに対して相対的に基板SがY方向と交差するX方向に沿って移動するように、蒸着ヘッド18c及びステージ14の少なくとも一方を駆動する駆動装置22と、Y方向に沿った基板Sの側面SaとX方向に沿った基板Sの側面Sbとを覆う枠Fとを備える。 (もっと読む)


【課題】基板に蒸着材料を付着して光学薄膜を形成するハースライナーにおいて、電子銃からの電子ビームを蒸着材料に照射して溶融・気化する際に生じる突沸(スプラッシュ)を防止する。
【解決手段】電子銃から電子ビームを蒸着材料に照射して基板に光学薄膜を形成する真空蒸着装置のハースライナー1において、該ハースライナー1の蒸着材料収納部2の断面形状が、浅い半円形(球)状(おわん状)であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】蒸着膜を均一な厚みで成膜しつつ、蒸着材料の使用効率および処理効率を向上させることができる電子ビーム蒸着装置を提供する。
【解決手段】上記電子ビーム蒸着装置10は、チャンバ11と、搬送機構12と、容器17と、マスク19と、電子ビーム形成機構15とを具備する。搬送機構12は、チャンバの内部で基板Sを支持する支持部材13と、支持部材を第1の方向に搬送する駆動源14とを有する。容器17は、蒸着材料Mを収容する。マスク19は、支持部材13と容器17との間に配置され、支持部材13に支持された基板Sに対する蒸着材料Mの成膜領域を規制する。電子ビーム形成機構15は、電子銃16を含み、マスク19側から容器17側へ向かう第2の方向より、電子ビームeが容器17へ入射するビームラインを形成する。 (もっと読む)


【課題】坩堝同士の汚染を防止する。
【解決手段】
蒸発材料3が収められた複数の坩堝を備え回転軸を中心に回転する回転テーブル2と、電子ビーム照射位置に位置する一つの坩堝7に対して電子ビームを照射して坩堝7の蒸発材料3を蒸発させる電子銃1と、回転テーブル2の上側に複数の坩堝7を覆い、かつ電子銃1に対向する電子ビームの照射領域の全てが開口したカバー6とを備えた多点蒸発源装置において、回転テーブル2の上面に坩堝7を仕切るように形成された溝24と、この溝24に嵌り込みこんで各坩堝を仕切り、回転テーブル2の回転と共に回転する遮蔽体20と、各坩堝が電子ビームの照射位置に来たとき、遮蔽体20を上昇させ、遮蔽体20とカバー6との間隔を狭める遮蔽体昇降手段とを備えた。 (もっと読む)


【課題】蒸着材料を溶媒に溶かしてなる液体材料から溶媒を確実に除去して蒸着を行うことで、この溶媒による基板の汚染を防止し、高品質の蒸着膜を得ることができる真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】有機液体材料Lを、蒸発装置2で有機溶媒を除去した上で蒸発させて蒸発材料とし、これを真空容器4内の基板Kに導き蒸着させる真空蒸着装置1であって、蒸発装置2が、有機液体材料Lが充填されて蒸発溶媒の排出口22が形成された蒸発容器20と、有機溶媒のみが蒸発して蒸着材料が蒸発しない温度に設定し得る蒸発用ヒータ18と、排出口22に第2開閉弁12を介して接続された蒸発室用真空ポンプ15と、流量調整弁16とを有し、蒸発装置2が、流量調整弁16を閉にすると共に、蒸発容器20内の有機溶媒のみを蒸発用ヒータ18で蒸発させた後、第2開閉弁12を開にして上記ポンプ15で蒸発容器20内の蒸発溶媒を吸引し、有機溶媒を除去し得るもの。 (もっと読む)


【課題】薄膜を蒸着するための装置の稼動停止周期を延ばし、装置の使用効率を高めることができる大容量薄膜形成用蒸着装置を提供する。
【解決手段】複数の原料容器110およびセンサー150を設け、原料容器110に収容される原料物質1の量を分散することによって、単一の大容量の原料容器を用いる場合に比べて原料物質1の加熱に必要な熱量を減少させ、第2のヒーター190で噴射口130の周囲の温度を上昇させることによって、噴射口130の周囲では常に原料物質が気化された状態を維持する。 (もっと読む)


【課題】筒状体の内周面に均一な膜厚で、かつ均一なドープ濃度で共蒸着膜を形成可能な成膜装置および成膜方法。
【解決手段】成膜装置30は、筒状体1の内周面に共蒸着膜を形成するための成膜装置であって、筒状体1を保持するための筒状体ホルダ2と、第1の蒸着材料11を充填するための内部空間を有する第1の蒸着容器12と、第2の蒸着材料12を充填するための内部空間を有する第2の蒸着容器22とを備えている。筒状体ホルダ2と第1および第2の蒸着容器12、22とは、筒状体1の延在する方向に互いに相対的に移動可能であり、筒状体1の延在する方向に延びる仮想の軸線A−Aを中心として互いに相対的に回転可能である。 (もっと読む)


【課題】有機半導体真空蒸着膜の形成に当たり、蒸着膜を高結晶化させるための新規かつ有効な手段を提供する。
【解決手段】有機半導体の蒸着膜を構成すべき有機半導体分子を基板に真空蒸着させるに当たり、室温における蒸気圧が1Pa以下であるが有機半導体分子よりも高い蒸気圧を示し、真空蒸着条件下において蒸発又は昇華すると共に加熱された基板上において揮発性を示す不活性分子を共蒸発物として用いる真空蒸着成膜方法。 (もっと読む)


【課題】複数の機能領域を有する有機化合物膜を作製する成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜室内に複数の蒸発源を備え、それぞれの有機化合物からなる機能領域を
連続的に形成し、さらに機能領域間の界面には混合領域を形成することができる。さらに
、成膜室の内壁の表面は電解研磨されている。成膜部内を連続的に移動できる基板搬送手
段を有し、基板搬送手段は、成膜部の上方に設けられ、成膜部と同一空間を有しており、
成膜室内にある基板を平面方向に搬送する手段を有している。成膜部は、基板搬送手段に
よる基板の搬送空間を含んで設けられ、基板搬送手段に基板が保持された状態で蒸着が行
われる。 (もっと読む)


【課題】誘電体フィルム上の金属蒸着電極中の各金属成分の比率を制御し、優れた特性を有する金属化フィルムを提供する。
【解決手段】真空蒸着装置は、上部が開口した蒸着室8と、蒸着室内に設けられ、金属材料を加熱して金属蒸気を発生させる複数の蒸発源16と、蒸着室内において、複数の蒸発源どうしを仕切る隔壁18を備え、隔壁は、水平方向に可動な板状の基部24と、基部の上部に設けられ、鉛直方向に可動な仕切り板25を有する構成とした。この構成により、各金属蒸気が放出される開口部の面積を自由に変更できるようになり、さらに夫々の蒸発源からの金属蒸気どうしが重なり合う量を制御することができる。この結果、金属蒸気の蒸着量やその状態の制御が可能となり、金属蒸着電極中の各金属成分の比率や分布状態を制御できる。そして、優れた特性を有する金属化フィルムを作製できる。 (もっと読む)


【課題】大型基板上に膜厚が均一で有機EL上部電極用のアルミ金属薄膜を高速に成膜させ、長時間連続運転可能な真空蒸着装置及び成膜装置を提供する。
【解決手段】セラミック製の坩堝を用いてアルミの這い上がりを防止し、同一方向に所定の角度で傾いた蒸発源3−1を少なくとも2つ以上、縦方向に並べた蒸発源列3−2を横方向に操作して蒸着する機構を用いることにより、大型化した縦置き基板1−1に対して、有機EL上部電極用金属薄膜を高速成膜し、長時間の連続成膜をすることを可能にする。 (もっと読む)


【課題】蒸発源のノズル付近に蒸着物が堆積し、蒸着精度が低下することを防止することが出来る真空蒸着装置を実現する。
【解決手段】蒸発源3から蒸着物質を蒸発させ、メタルマスク4を介して有機EL表示装置用基板1の上に有機薄膜2を蒸着する。蒸発源3には、ノズルが線状に配置され、線状のノズルから蒸気15が噴射される。蒸発源を上下させることによって、基板1全面に蒸着を行うことが出来る。蒸着室内において、蒸気が当たらない箇所に赤外線ランプユニット11を配置し、赤外線を蒸発源のノズル付近に照射して、ノズル付近に堆積した蒸着物質を除去する。これによってノズルの径が小さくなったり、目づまりが生じたりすることを防止する。 (もっと読む)


【課題】物理蒸着中に、凝縮した蒸気を収集するための装置および真空システムを提供する。
【解決手段】物理蒸着中に、凝縮した蒸気を収集するための装置は、真空チャンバ内の1つ以上の蒸気源に隣接して配置されるように構成された筐体を備える。この筐体は、対象物を収容するように構成された空間の体積を部分的に囲む筐体の内面を含み、この筐体は、上記1つ以上の蒸気源よりも低い温度に保たれる。上記筐体の内面は1つ以上の排水溝に結合される。 (もっと読む)


【課題】複数の蒸発源ユニットを用いた真空蒸着装置において、蒸発源ユニットの個数を増加させることなく蒸着膜厚の均一性を向上し、かつ、高速に成膜する真空蒸着装置を提供すること。
【解決手段】長手方向(X方向)を有する蒸発源を、前記X方向および基板面に沿って垂直な方向(Z方向)に基板と蒸発源を相対的に移動させる機構を有する真空蒸着装置において、
前記蒸発源には蒸着材料が封入された複数の蒸発源ユニット3がX方向に所定の間隔をもって配置され、Z方向へ複数回の走査を繰り返す際、往路と復路で前記蒸発源ユニット3をX方向に所定のピッチで移動させて成膜する。Z方向への往路と復路の間のX方向への小さな移動により、蒸発源ユニット3の個数を増加することなく、膜厚均一性を向上することができる。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、材料の損出の少なくできる、あるいは安定した蒸着の妨げとなる内圧の変化を防ぐ蒸発源を提供することである。また、前記蒸発源に適した有機ELデバイス製造装置及び有機ELデバイス製造方法を提供することである。
【解決手段】
本発明は、内部に蒸着材料を内在する坩堝と、前記蒸着材料を加熱し蒸発・昇華させる加熱手段と、前記蒸発・昇華した前記蒸着材料を噴射する蒸着物噴射口をライン状に複数並ぶ蒸着物噴射口部を有する蒸発源において、前記蒸着物噴射口部を複数設け、各前記蒸着物噴射口部毎に開閉する開閉手段を有することを第1の特徴とする。また、本発明は、複数ある前記蒸着物噴射口部のうち少なくとも一つの前記蒸着物噴射口部を開き、そのときに他の前記蒸着物噴射口部の全ての前記蒸着物噴射口部を閉じるように前記開閉手段を制御する制御手段を有することを第2の特徴とする。 (もっと読む)


【課題】成膜材料であるDy、Tbを有効に利用しつつ、所定形状鉄−ホウ素−希土類系の磁石の表面に高速で成膜させて生産性が向上し、低コストで永久磁石を製造できる成膜装置を提供する。
【解決手段】真空排気可能な処理室2と、前記処理室内を加熱する加熱手段23と、前記処理室内でバルク体たる金属蒸発材料と被処理物とをそれぞれ保持する保持手段6とを備え、前記処理室の減圧下で前記加熱手段を作動させ、少なくとも金属蒸発材料が蒸発する温度まで処理室を加熱して処理室内に金属蒸気雰囲気を形成し、前記金属蒸気雰囲気中の金属原子が、加熱されている被処理物表面に付着するように構成した。 (もっと読む)


【課題】高速成膜で発光層を成膜しても発光素子の発光効率の低下を抑制することができる連続成膜装置を提供する。
【解決手段】連続成膜装置は、第2の蒸着室214と、それに繋げられた第3の蒸着室215と、第2の蒸着室内から第3の蒸着室内へ基板10を搬送する搬送機構と、第2の蒸着室内に配置され、前記基板の搬送方向に並べて配置された複数の第3の蒸着源14と、第3の蒸着室内に配置され、前記搬送方向に交互に並べて配置された第4の蒸着源15a〜15c及び第5の蒸着源16a,16bと、を具備し、第3の蒸着室において最も第2の蒸着室側に配置される蒸着源は第4の蒸着源15aであり、第4の蒸着源は、ホスト材料を有し、第5の蒸着源は、ドーパント材料を有し、第3の蒸着源の蒸着材料のHOMO準位は、前記ホスト材料のHOMO準位に揃えられている。 (もっと読む)


【課題】金属酸化物を蒸発材料とする金属酸化膜の蒸着方法に関するものであり、特にプラズマディスプレイパネル(以下、PDPという)の保護膜の形成に関するもので、保護膜としての<111>配向したMgO膜の成膜速度を早くして、生産性の向上とパネル特性の向上を図る。
【解決手段】金属酸化物を蒸発材料とする蒸着方法において、前記蒸発材料の加熱手段として電子銃を使用し、該電子銃からの電子ビームを絞り、該電子ビームの直径をもとに蒸発材料への電子ビームの照射面積に合わせて、電子ビームの揺動波形を制御することを特徴とする金属酸化膜の蒸着方法であり、走査電極、維持電極、誘電体層及び保護膜から成る前面基板とアドレス電極、バリアリブ及び蛍光体からなる背面基板から構成されているプラズマディスプレイの保護膜であるMgO膜の成膜速度が速くなり、かつ良好なパネル特性が得られた。 (もっと読む)


【課題】蒸発源の冷却時間を短縮する。
【解決手段】蒸着準備工程では、蒸着材料30を収納する坩堝13、坩堝13を加熱する加熱部14、および坩堝13内で気体化した蒸着材料30を被処理物に向かって放出するノズル12、を備える蒸発源10、および被処理物を真空チャンバ内に配置する。次に、坩堝13に収納された蒸着材料30を加熱部14により加熱して、気体化した蒸着材料ガスを発生させ、被処理物に蒸着膜を形成する。次に、蒸発源10の外側からノズル12を介して坩堝13内にガス26を供給し、かつ、加熱部14を停止させて坩堝13を冷却する。 (もっと読む)


【課題】一定の組成及び膜厚を有する蒸着重合膜が膜状基材上に積層形成された積層構造体を安定的に製造することができる装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバ24内に設置された回転ドラム35の外周面上に膜状基材15を供給する膜状基材供給手段46を設ける一方、真空チャンバ24内で回転ドラム35の外周面に向かって開口する吹出口66を有すると共に、成膜室を内部に備えた複数の吹出口部材64を、真空チャンバ24内の回転ドラム35の周囲に、その周方向に並べて配置し、更に、それら複数の吹出口部材64の成膜室内に、複数種類のモノマー蒸気を供給して、それら複数種類のモノマー蒸気を各吹出口部材64の吹出口66から吹き出させるモノマー蒸気供給手段84a,84bを少なくとも一つ設けて、構成した。 (もっと読む)


41 - 60 / 610