【課題】保守管理を容易に行うことができる蒸発装置を提供する。
【解決手段】蒸発材料１を貯蔵するホッパ１１４と、内径を上方側ほど拡げるように円錐状に開口させた接続口部１１２ａを上端側に有する第一の接続管１１２と、第一の接続管１１２の下方側とホッパ１１４とを接続する連絡管１１３と、外径を下方側ほど狭めるように円錐状に形成されて第一の接続管１１２の接続口部１１２ａに着脱可能に嵌合する接続口部１１５ａを下端側に有する第二の接続管１１５と、第二の接続管１１５の上端側に接続された坩堝１１６と、坩堝１１６を加熱する電熱ヒータ１１８と、坩堝１１６と共に電熱ヒータ１１８を包囲する冷却ジャケット１２０と、第一の接続管１１２の接続口部１１２ａを冷却する冷却コイル１２１と、前記接続管１１２，１１５内に回転可能に配設されたスクリュシャフト１２２とを備えて蒸発装置１００を構成した。 （もっと読む）

【課題】回転成膜が可能で膜厚分布の向上が可能で、マスク本体の複数の開口部を任意の順序で開口させて種々の条件の蒸着が可能な技術を提供する。
【解決手段】本発明の真空処理装置１は、真空槽２内において複数の開口部８を有するマスク７を介して基板５０上に蒸着を行う。マスク７には、所定の基準配列方向に沿って複数の開口部８の列が設けられたマスク本体９を有し、マスク本体９には、複数の開口部８の列と対応し基準配列方向に延びる複数のマスクシャッター１０Ａ〜１０Ｄが一体的に設けられている。真空槽２内に把持部２５、２６を挿入してマスク７の所定のマスクシャッター１０を保持して基準配列方向に移動させ所定の開口部８を開口させる。蒸着時には把持部２５、２６を真空槽２外に取り出して基板５０をマスク７と共に一体的に回転させる。 （もっと読む）

【課題】被処理基板と蒸着マスクとの重ね合わせ構造を改良して、蒸着マスクの軽量化や成膜精度の向上を図ることのできるマスク蒸着装置、蒸着マスク、およびマスク蒸着法を提供すること。
【解決手段】マスク蒸着装置においては、被処理基板２００の被成膜面２００ａとは反対側の面２００ｂが重ねて配置される基板支持面５５、および磁石５２を備えた磁石ユニット５０を用いる。磁石ユニット５０の基板支持面５５に対して被処理基板２００の被成膜面２００ａとは反対側の面２００ｂを重ねて配置した後、被処理基板２００の被成膜面２００ａに金属製の蒸着マスク４０を重ねて配置すると、磁石ユニット５０に設けた磁石５２による磁気吸引力によって、蒸着マスク４０と基板支持面５５との間に被処理基板２００を挟持するように蒸着マスク４０が磁石ユニット５０に吸着される。 （もっと読む）

【課題】搬送チャンバを小型化できる、生産性の高い、あるいは、稼働率の高い有機ＥＬデバイス製造装置または成膜装置あるいはシャドウマスク交換装置または同交換方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、真空チャンバであって、基板とシャドウマスクとのアライメントを行い、真空チャンバ内で蒸発源内の蒸着材料を基板に蒸着する真空蒸着チャンバと大気雰囲気部とに隣接し、前記２つの隣接部を介して前記真空蒸着チャンバに前記シャドウマスクを搬入出する手段を有するシャドウマスク交換室を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】スパッタ法における膜質のばらつきを改善し、結晶性の良い硼化物膜を製造する。大面積の基板上に均質な膜質（結晶性）の硼化物膜を形成する。電子放出特性（特に電子放出の安定性）に優れた電子放出素子の製造方法を提供する。遮蔽部材の設置による成膜エネルギーの低下を簡易な構成で改善する。
【解決手段】基板と硼化物のターゲットと開口部を有する遮蔽部材とを、前記基板と前記ターゲットとが対向し、且つ、前記基板と前記ターゲットとの間に前記遮蔽部材が位置するように、配置した状態で、スパッタ法により前記開口部を介して前記基板上に硼化物膜を成膜する。ここで、前記遮蔽部材は、前記ターゲットのエロージョン領域と前記基板との間を遮るように配置され、前記開口部が位置する領域のプラズマ密度が前記遮蔽部材で遮られている領域のプラズマ密度よりも高くなるように、前記基板と前記ターゲットの間の空間のプラズマ密度分布が設定される。 （もっと読む）

【課題】シャドウマスクの反りの影響を低減し、高精度に蒸着できる有機ＥＬデバイス製造装置及び成膜装置並びにそれらの製造方法及び成膜方法を提供することである。あるいは、駆動部等を大気側に配置あるいは配線を敷設することで真空内の粉塵やガスの発生を低減し、生産性の高い有機ＥＬデバイス製造装置及び成膜装置を提供することである。
【解決手段】本発明は、真空チャンバ内で基板とシャドウマスクとのアライメントを行ない、蒸発源内の蒸着材料を基板に蒸着する際に、前記基板を保持し、立てた姿勢に保持する基板ホルダーと、前記シャドウマスクを前記立てた姿勢の前記基板に対面するように保持するシャドウマスク保持手段とを有し、シャドウマスクの反りによる蒸着時の影響を低減することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】材料容器から放出口まで連なる輸送管温度の影響が、輻射あるいは伝導により材料容器に及ぶことにより、材料容器への材料補充や交換のための装置停止期間が長時間に及び、装置の稼動効率が低下するのを防ぐ。
【解決手段】材料容器１０において気化した成膜材料を放出口２０へ輸送するための輸送管１４と材料容器１０の間は、材料容器１０を輸送管１４から取り外し交換可能とする連結部１３によって接続されている。輸送管１４を加熱する加熱手段を複数に分割し、連結部１３の近傍の輸送管１４の温度を残りの部位から独立して制御するための連結部加熱手段１６を設ける。材料容器交換等のために成膜を停止するときは、材料容器加熱手段１１及び連結部加熱手段１６を輸送管加熱手段１５より先に停止する。 （もっと読む）

本発明は、対称的な鋸歯状構成材の機能表面、特に歯車（１）の歯面（３）をコーティングする方法及び装置に関し、コーティング材を荷電粒子の形で構成材の方向に放出し、また該構成材に対して回転するコーティング源（２）を有する。本発明によれば、構成材機能表面の高品質なコーティングは、照射方向に対して平坦な向きの機能表面を有する円周状エリア内で、コーティングビームから構成材を遮蔽する遮蔽物（４）が構成材（１）とコーティング源（２）との間のビームの通り道に照射方向を横切るように配置されることで、技術的には単純な方法で達成される。 （もっと読む）

【課題】膜厚を高い精度で制御できるとともに、蒸着パターンが異なる蒸着を連続して行
なう場合でも蒸着用マスクの枚数が少なく済むインライン式蒸着装置、マスク蒸着方法、
および有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】インライン式蒸着装置１００において、被処理基板２０の搬送経路に沿って
、蒸着源１２０および蒸着用マスク１３１、１３２を備えた第１蒸着エリア１１０と、蒸
着源２２０および蒸着用マスク２３１、２３２を備えた第２蒸着エリア２１０と設けてお
き、被処理基板２０を第１蒸着エリア１１０および第２蒸着エリア２１０において蒸着用
マスク１３１、１３２、２３１、２３２と重なる位置で一時停止させながら被処理基板２
０を搬送経路に沿って搬送する。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ用マスクに付着した蒸着物を除去するクリーニングを行うときに、基板に対して完全に非接触状態で蒸着物を除去しつつ、基板から飛散した遊離生成物を有機ＥＬ用マスクに再付着させないようにすることを目的とする。
【解決手段】有機ＥＬ用マスク２に付着した蒸着物質ＶＭを除去する有機ＥＬ用マスククリーニング装置であって、有機ＥＬ用マスク２を立てた状態で保持するマスク保持手段３と、有機ＥＬ用マスク２の表面に直交する方向からレーザ光を照射して蒸着物質ＶＭを破砕して生じる遊離生成物を有機ＥＬ用マスク２から飛散させるレーザ洗浄手段４と、を備えている。有機ＥＬ用マスク２は立てられた状態に保持され、遊離生成物は有機ＥＬ用マスク２から離間した方向に向けて飛散して自由落下するため、遊離生成物が有機ＥＬ用マスク２に再付着しなくなる。 （もっと読む）

【課題】簡素な構成で温度分布の均一化を図ることができ、材料の余分な充填を低減することができる真空蒸着装置及び温度調整方法を提供する。
【解決手段】外部より搬入される被蒸着体Ｂを収容可能な真空チャンバ１と、該真空チャンバ１内に設けられて蒸着材料Ｍを収容する坩堝２と、該坩堝２を加熱して前記蒸着材料Ｍを気化させる加熱源３と、坩堝２の底部２ｃに分散配置され坩堝２を支持すると共に、坩堝２と真空チャンバ１の床部１ａとの間で伝熱する複数の支持部５とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】メタルマスク全体としてのテンション値を正確に測定でき、メタルマスクに載置した状態でゼロ点を設定した後、テンション値を測定でき、定盤が不要で、取り扱いが容易なメタルマスクのテンション測定方法およびメタルマスクのテンションゲージを提供する。
【解決手段】ベースプレート４のほぼ中央部に上下方向にスライド移動可能な測定子をメタルマスクに当接させることができるように取付けられた測定子の収納ケース７と、測定子収納ケースの上部に取付けられた、測定子に取付けられたスピンドル軸８をスピンドル９に接続されたアナログあるいはデジタル表示器１０を備えるテンションゲージ１１と、測定子収納ケースに設けられた測定子をメタルマスクに当接させ、ゼロ点を設定後に測定子に測定荷重を加える手段とでメタルマスクのテンションゲージ１を構成する。 （もっと読む）

【課題】遮蔽体を利用して容易に膜厚分布の制御が可能なマグネトロンスパッタ装置及びマグネトロンスパッタ方法を提供する。
【解決手段】本発明のマグネトロンスパッタ装置は、基板保持部１１と、基板保持部１１に対向して設けられる板状のターゲット１２の被スパッタ面１２ａの反対面に対向しつつ回転可能に設けられ、その回転中心Ｃ１に対して偏心した位置に中心Ｃ２を有する電子の周回軌道２０を被スパッタ面１２ａの近傍に生じさせるマグネット１３と、ターゲット１２と基板１０との間に設けられ、基板１０側からターゲット１２を見た平面視で電子の周回軌道２０の一部を遮蔽しつつ電子の周回軌道２０との相対位置は変えずに、マグネット１３と同期して回転する遮蔽体１４と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着法を採用し、安定した膜厚分布が得られるインライン蒸着装置、有機ＥＬ装置の製造装置、有機ＥＬ装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本適用例のインライン蒸着装置としての有機蒸着部は、減圧可能なチャンバーとしての有機蒸着室１２５と、有機蒸着室１２５内において基板Ｗを所定の搬送方向に搬送する基板搬送経路１２５ａ，１２５ｂ，１２５ｃと、基板Ｗの搬送方向に複数の蒸着室１２５ｅとを有し、それぞれの蒸着室１２５ｅにおいて、基板搬送経路１２５ａ，１２５ｂ，１２５ｃの数を３本とするとき、３＋１個の蒸着源１１０を搬送方向に直交する方向において、基板搬送経路１２５ａ，１２５ｂ，１２５ｃの直下を避けた位置に等間隔に設けた。 （もっと読む）

【課題】 有機発光装置などの薄膜をマスク蒸着で形成するにあたって、大判の膜厚を均一に保ちながら、画素のパターニングが精度良くできる蒸着装置を提供する。
【解決手段】 大判の膜厚を均一にするために、材料の蒸気を放出する放出口を複数備えた蒸着装置を用いる。この際、蒸着源からの輻射熱を受けて、基板およびマスクが熱膨張により伸びてアライメント位置からずれることを防ぐため、遮熱部材を配置する。このとき、遮熱部材が材料の流れを阻害しないよう、遮熱部材の開口が対応する放出口が熱膨張により水平方向に変動する範囲を含むよう設定する。 （もっと読む）

【課題】 グラデーション濃度分布を有する吸収型多層膜ＮＤフィルターについて、光が透過する位置により平均透過率が変化しても分光透過特性の形状変化を最小限に抑えることができる吸収型多層膜ＮＤフィルターを提供する。
【解決手段】 樹脂フィルム基板の少なくとも片面に酸化物誘電体膜層と金属吸収膜層が交互に積層されてなる吸収型多層膜を具備し、光軸中心から離れるにつれて透過率が徐々に低くなるグラデーション濃度分布を有しており、金属吸収膜層が膜厚分布を有すると同時に、酸化物誘電体膜層は該金属吸収膜層の膜厚分布に対し反対の膜厚分布を有している。 （もっと読む）

【課題】基板に対して正確にマスクの位置合わせを行え、基板ホルダや周辺部への膜の付着を確実に防止することが可能なマスク位置合わせ装置を提供する。
【解決手段】支柱軸方向の各回転軸を中心に回転する複数の支柱１０３と、複数の支柱１０３を同一方向、同一角度、同期して回転させる手段と、マスク７０１と基板Ｗの位置ずれ量を検出する手段とを具備する。また、複数の支柱１０３の上面部にそれぞれの支柱の回転軸から所定距離だけずらしてマスク７０１を支持する支持ピン１０１を配置する。そして、マスク７０１と基板Ｗとの位置ずれ量に基づき複数の支柱１０３を同一方向、同一角度、同期して回転させることによりマスク７０１を基板Ｗに対して位置合わせを行う。 （もっと読む）

【課題】ノズルでの蒸着物質の凝縮を防止することができる蒸発源を提供する。
【解決手段】蒸着物質が位置し、一部分が開口された蒸着物質貯蔵部と、開口された部分に連結され、蒸着物質を噴射するための開口部を有するノズル部３０と、ノズル部３０の少なくとも一部の角部を取り囲む反射板５０と、蒸着物質貯蔵部を取り囲むハウジング６０と、ハウジング６０と蒸着物質貯蔵部との間に介在される加熱部と、を含む蒸発源１００と、基板を支持するチャンバーとを含む。 （もっと読む）

【課題】ＮＤフィルタの切断部の反射によるゴースト、フレアの発生を防止する。
【解決手段】透明樹脂フィルム３５上にＮＤ膜を形成したＮＤフィルタ２１の外周切断部のうち、撮像機器の開口内に露出する切断面２１ａの切断方向が透明樹脂フィルム３５の主延伸方向と略直交方向になるように、ＮＤフィルタ２１を切断加工する。 （もっと読む）

【課題】レンズ等の曲率を有する基体に、均質なフッ化物薄膜を無加熱で成膜する。
【解決手段】レンズ４を、揺動機構５によって揺動及び回転させながら、遮蔽板３の開口３ａを通して抵抗加熱蒸発源２からの蒸着粒子を被着させ、フッ化物薄膜を成膜する。遮蔽板３の開口３ａは、クラスターイオン源１から照射されるクラスターイオンが３０度以下の入射角でレンズ４に入射する領域にのみ開口する。入射角３０度以下のクラスターイオンアシストを用いた蒸着領域がレンズ４の有効面全体に及ぶように、揺動機構５によってレンズ４を揺動させる。 （もっと読む）