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Fターム[4K031EA10]の内容

溶射又は鋳込みによる被覆 (8,522) | 溶射に係る操作、制御 (844) | 雰囲気、圧力、温度 (153)

Fターム[4K031EA10]に分類される特許

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【課題】耐摩耗性や靭性に優れる他、皮膜の長寿命化に優れる製鉄設備用ロールを提供する。
【解決手段】ロール表面に、4〜10質量%のCoと残部WCからなるWC−Coサーメット溶射材料を溶射して製鉄設備用ロールを製造する際に、η相の含有率が10質量%以下であるWC−Co溶射材料を、フレーム温度を3000℃以下としかつ、粒子速度を300m/s以上とする高速フレーム溶射法によってWC−Co溶射皮膜を被覆成形するロールの製造方法。 (もっと読む)


【課題】耐焼付性に優れた転動体、その製造方法及び耐焼付性に優れた転動体を備えた動力伝達装置を提供する。
【解決手段】転動体は、基材と、該基材の表面に形成される皮膜とを備える。この転動体における皮膜は、上記基材の硬度より高い硬度及び上記基材の融点より高い融点を有する少なくとも1種の硬質粒子と金属単体及び合金の少なくとも一方からなる金属材とを少なくとも表面構成要素として含む。
転動体の製造方法は、上記転動体を製造する方法であって、基材の表面への皮膜の形成を、溶射材を用いた溶射法によって行う方法である。この転動体の製造方法における溶射材は、上記基材の硬度より高い硬度及び上記基材の融点より高い融点を有する少なくとも1種の硬質粒子と金属単体及び合金の少なくとも一方からなる金属材とを含む。 (もっと読む)


【課題】耐環境保護性を損なわずに耐エロージョン性をもたらす酸化物分散強化皮膜を形成する方法を提供すること。
【解決手段】金属基材(304)上に酸化物分散強化皮膜を形成する方法(100)が開示される。本方法は一般に、MCrAlY合金粒子を粉砕して、酸素富化粉体にして該粉体に含まれるMCrAlY合金粒子の約25体積%以上が約5μm未満の粒径を有する酸素富化粉体を形成するステップを含む。さらに、本方法は、酸素富化粉体を金属基材(304)に施工して皮膜を形成するステップと、酸素富化粉体を加熱して皮膜内に酸化物分散質を析出させるステップとを含む。 (もっと読む)


【課題】コールドスプレー法を用いてステンレス基材に金属皮膜を形成させた積層体を製造する場合に、ステンレス基材と金属皮膜との間の密着強度が高い積層体の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の積層体10の製造方法は、ステンレス基材1を、金属皮膜2の材料の融点に対する比率が.40以上0.65以下の温度であって、かつステンレス基材1の融点に対する比率が0.5以下の温度に加熱し、加熱したステンレス基材1の表面に、金属皮膜2の材料である材料粉体を該材料粉体の融点より低い温度に加熱されたガスとともに固相状態のままで吹き付けて堆積させることによって金属皮膜2を形成する。 (もっと読む)


【課題】脱ガス量の低減を図りうる耐食性部材およびこれを製造する方法を提供する。
【解決手段】基材に対して原料粉末が溶射される際、セラミックス原料粉末の加速エネルギーx[g/min/mm]および熱エネルギーy[kJ/kg]の組み合わせが、x−y平面において所定領域に収まるように調節される。これにより、同素材の焼結体に対するビッカース硬度の比が0.52以上であり、相対密度が90〜97[%]であり、表面粗さRaが3.0〜7.0[μm]であり、かつ、脱ガス量が1000[ppb/cm]以下であるセラミックス膜を有する耐食性部材が得られる。 (もっと読む)


【課題】熱遮蔽コーティング構造を形成するための時間及び費用を低減することを可能にし、それによって全体的熱遮蔽コーティングシステムの熱サイクル耐性を損なうことなしに基材表面上に熱遮蔽コーティング構造を形成する方法を利用可能にする。
【解決手段】該熱遮蔽コーティング構造は、異なる方法で作り出される少なくとも2つの熱遮蔽コーティング2.1、2.2を含む。一方の熱遮蔽コーティング2.1を形成するには、コーティング材料を、大気圧でのプラズマ溶射(大気プラズマ溶射又は略してAPS)によって粉末ジェットの形態で基材表面上に溶射し、もう一方の熱遮蔽コーティング2.2を形成するには、コーティング材料を、異方性ミクロ構造を形成し且つ基材表面に対して本質的に垂直に整列される長く伸びた微粒子を有する層が基材表面上に発現するようにプラズマ溶射−物理蒸着又は略してPS−PVDによって基材表面に塗布する。 (もっと読む)


【課題】被加工物の品質向上を図るべく、エアノズルの噴出し口近傍に付着する溶射粒子を低減しつつ、溶融直後の溶射粒子の熱による、被加工物の熱変形の発生を防止することができる溶射方法を提供することを課題とする。
【解決手段】溶射ガン2は、ワイヤー粗材50の先端部を中心として回転可能に構成されつつ、被加工物100の筒状部100A内を同軸上に往復移動可能に構成され、回転しつつ「溶射噴霧化用圧縮空気52」が噴出される状態の溶射ガン2がアーク放電を開始し、その後溶射ガン2が筒状部100A内を往復移動することで、筒状部100Aの内周面100aに溶射を行う被膜形成工程201と、被膜形成工程201の完了後、アーク放電を開始することなく、回転しつつ「溶射噴霧化用圧縮空気52」が噴出される状態の溶射ガン2が筒状部100A内を往復移動する冷却・清掃工程202と、を備える。 (もっと読む)


【課題】摩擦抵抗を確実に高めるために必要な、スプライスプレートの摩擦接合面に施す溶射層の構成要件を明確にし、高力ボルト摩擦接合の接合強度及び寿命を高いレベルで安定させることができるようにすること。
【解決手段】摩擦接合面に金属溶射による溶射層2を形成した高力ボルト摩擦接合用スプライスプレート1において、溶射層2の表面から溶射層2の内部に向かって150±25μmの位置までの部分(表面側溶射層2a)の気孔率を10%以上30%以下とし、かつ、溶射層2の表面から溶射層の内部に向かって150±25μmの位置からスプライスプレート母材3と溶射層2との界面までの部分(界面側溶射層2b)の気孔率を5%以上10%未満とした。 (もっと読む)


【課題】溶滴となった粒子表面の酸化を低減することで、酸化物が少ない溶射皮膜を形成することが可能なプラズマ溶射装置の提供。
【解決手段】陰極40の外周に一次ガス通路11を形成して陰極40の先端部を覆う一次ガスノズル10と、一次ガスノズル10の外側に配置されて二次ガス通路21を形成する二次ガスノズル20と、一次ガスノズル10と二次ガスノズル20との間に、プラズマフレームFの外周部にプラズマフレームFの熱を受けて高温のガス噴射とするための三次ガスを噴射する三次ガス通路31を形成する三次ガスノズル30とを備える。 (もっと読む)


【課題】
本発明の目的は、少ないエネルギー消費・熱負荷で、緻密でバッキングチューブへの密着性が良好な長尺のセラミック溶射円筒ターゲットを製造する方法を提供することにある。
【解決手段】
長尺バッキングチューブを複数の溶射領域に分割して溶射する。 (もっと読む)


【課題】非常に薄い樹脂基材を破壊することなく、その表面に金属ガラスの溶射被膜層を貫通孔なしで強固に密着形成する溶射方法を提供すること。
【解決手段】厚みが30μm〜1mmである樹脂基材の表面へ金属ガラスを貫通孔なしに溶射する方法であって、フレーム溶射またはプラズマ溶射によって、金属ガラス粉体の少なくとも一部を過冷却液体状態まで加熱して、該金属ガラス粉体を300m/s以上の粒子速度で樹脂基材表面に衝突させて、扁平した金属ガラス粉体を厚みが10μm〜500μmとなるまで積層することにより、アモルファス相の溶射被膜を形成する溶射工程を備え、前記溶射被膜は樹脂基材に対する高い密着性を有し、かつ、その表面粗さRaが10μm以下であることを特徴とする薄い樹脂へ金属ガラスを溶射する方法。 (もっと読む)


【課題】冷却空気孔の目詰まりを防ぐ溶射法を提供する。
【解決手段】入口51及び出口52を有する少なくとも1つの貫通孔5を有する本体1の表面10を被覆する方法であって、出口52が被覆すべき表面10に設けられ、被覆を溶射によって行なう方法において、溶射の際に、貫通孔5に流体を流し、この流体を、貫通孔5の出口52を通じて流出させ、被覆によって生じる貫通孔5の狭搾を実質的に防止する方法が提案される。 (もっと読む)


【課題】基板表面に熱遮蔽被覆構造体10を製造する。
【解決手段】プラズマ・トーチ4を有する作業室2を準備し、プラズマ・ガスをプラズマ・トーチ4を介して導入し加熱によりプラズマ・ジェット5を形成し、プラズマ・ジェット5を作業室内に導入された基板3の表面に方向付ける。熱遮蔽被覆を製造するために、プラズマ・トーチ4と基板3との間に電圧を印加してアークを発生させ、基板表面をアークによって清浄化し、アークによる清浄化の後で基板3を作業室内に留め、0.02μm〜2μmの厚さを有する酸化物層11を清浄化された基板表面上に形成し、熱遮蔽被覆12をプラズマ溶射プロセスによって付着させる。 (もっと読む)


【課題】熱溶射方式と運動溶射方式を同時に適用可能にした二重ノズルキャップを提供すること。
【解決手段】
ノズルの中央に形成され、前記溶射ガンの先端が挿入されるガン挿入孔と、前記ノズルの一面に、高圧の気体を供給する気体連結具が連結される連結孔と、を含み、内、外側ノズル間の空間に、前記連結孔を通じて流入した高圧の気体を均一に分布させる気体収集部と、前記気体収集部に収容された高圧の気体を加圧、加速させるネック部と、前記ネック部で加圧、加速した気体が、前記溶射ガンの噴射体と一緒に噴射される気体噴射口と、を有する、溶射ガンの先端に装着されるノズルキャップが提供される。 (もっと読む)


【課題】コンパクトで、耐久性があり作業効率の高いパルスデトネーション溶射装置及び溶射方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るパルスデトネーション溶射装置10は、一端が閉塞され他端が開口された燃焼筒11と、その燃焼筒の閉塞端部に燃料ガス供給手段13、酸素ガス供給手段14及び不活性ガス供給手段15と、供給された燃料ガスと酸素ガスの混合気に所定の運転周波数で点火を行う点火手段16と、その点火手段16の下流に溶射用の粉体を供給する粉体供給手段18とを有し、燃料ガスと酸素ガスは対向噴射され、不活性ガスは前記燃焼筒の閉塞端部に向けて噴射されるようになっている。 (もっと読む)


【課題】セラミックス粉末を使用して衝撃焼結被覆によりセラミックス皮膜を製造する場合、プラズマ溶射は、フレーム温度が15000℃から30000℃にもなる。また従来のフレーム溶射はフレーム温度が2200℃から3400℃になり粉末が容易に溶融し、また昇華、分解することにより、溶射粉末と異なる変態した皮膜、組成が変わる皮膜となる。低温で衝撃焼結被覆をすることにより要求を満足する機能性を有する優れた皮膜を得る安価な方法を提供する。
【解決手段】従来のフレーム溶射と異なり、ガンの燃焼室の後に、粉末と燃焼ガスを供給ノズルからフレームの軸に向けて燃焼ガスとスラリー状微粉末を噴射し、燃焼室に導入の酸素量と供給ノズルから導入する燃焼ガスとの容量を調整してフレーム中に存在するセラミックス微粉末の温度を制御し、また燃焼生成ガスにより加速して、衝撃焼結被覆をし、要求機能特性と密着性を有する皮膜を形成したことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】溶射量を増量しても、なお安定した低温度溶射被膜を形成可能とし、作業効率を格段に向上させるアーク溶射装置を提供する。
【解決手段】並行スリッター型のアーク溶射装置において、左右に設けた各ノズルユニットのスリッターノズル口19に通じる円筒状のエアータンク3aを設け、当該エアータンク3aの長手方向の一端から圧縮エアーを送り、その側面に設けたエアー出口通路先端の前記スリッターノズル口か19らエアーを噴出させる構成とし、当該エアータンク3aの側面の前記エアー出口通路3bの横断面を角部を形成しないようテーパー形状にし、かつ、アーク交点Oがその外周のジェットエアーカーテン21に触れないようにして、前記ジェットエアーカーテン21に溶融滴が引っ張られるように、前記一対のノズルユニットの幅を狭くし、溶射中心軸Pに向かう二つのジェットエアーのなす角度を鋭角とした。 (もっと読む)


【課題】高速フレーム溶射により基板をコーティングする装置を提供する。
【解決手段】燃焼室4と、液体燃料又はガス燃料を供給するための第1の燃料フィーダL1と、酸化性ガスを供給するための少なくとも1つのガスフィーダとを備える。本装置は、液体燃料又はガス燃料を供給するための第2の燃料フィーダL5と、ガスを供給するための少なくとも1つの他のガスフィーダとをさらに備える。第1のガスフィーダ及び2つの燃料フィーダL1,L5はいずれも、共通の燃焼室に通じる。さらに、2つの燃料フィーダL1,L5への独立した燃料供給制御を行う制御手段24,28を設ける。 (もっと読む)


【課題】遮熱性を維持しつつ遮熱コーティングの耐剥離性を向上させることができる。
【解決手段】基材の表面に溶射ガンを低速の第1溶射速度V1で移動させて、トップコート3における基材側の1層〜3層目までの下部コート層31を形成し、下部コート層31の表面31aに溶射ガンを第1溶射速度V1より大きい高速の第2溶射速度V2で移動させて4層目以降の上部コート層32を形成することで、上部コート層32には遮熱効果をもたせ、下部コート層31には耐剥離性をもたせた遮熱コーティングを行うようにした。 (もっと読む)


【課題】原子炉圧力容器の内部に水が残っている状態でも施工することができて、しかも短時間で作業を完了することができるようにすること。
【解決手段】粉末材料を燃焼炎または不活性ガスとともに高速で吹き出させて、施工面18に皮膜を形成させるガンと、このガンの周囲を取り囲むようにして配置された隔壁12とを備えた原子炉圧力容器の残留応力改善装置であって、第1の空間24に、皮膜19の形成に寄与しなかった粉末材料の大部分が流れ込み、第2の空間26に、第2の隔壁22の先端22cから第3の隔壁23の側に漏れ出した、皮膜19の形成に寄与しなかった粉末材料が流れ込むように、第3の隔壁23の先端23cにシール部材28が設けられているとともに、第2の排気排水回収系統27の吸引力が設定されている。 (もっと読む)


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