【課題】低毒性であり、硬化性樹脂又はその硬化物が付着した被洗浄物の洗浄に対して、優れた洗浄効果を発揮する溶剤組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）ノルマルプロピルブロマイド１００重量部、及び（ｂ）γ−ブチロラクトン６０重量部〜４５０重量部を含むことを特徴とする、硬化性樹脂又はその硬化物が付着した被洗浄物を洗浄するための溶剤組成物。 （もっと読む）

【課題】洗浄後の金型表面の発錆を抑える洗浄液を提供する。
【解決手段】脂肪酸グリセリルのモノエステル、ジエステル、および、トリエステルの３種混合物とジメチルスルホキシドを含む洗浄液である。脂肪酸グリセリルのモノエステル、ジエステル、およびトリエステルの混合比としては、好ましくは、モノエステル：ジエステル：トリエステル＝３０〜７０：２０〜６０：１〜３０、より好ましくは、モノエステル：ジエステル：トリエステル＝４０〜６０：３０〜５０：２〜２０である。 （もっと読む）

【課題】フッ素酸を使用せずに、高いスケール除去効果が得られる、新規のステンレス鋼溶接部のスケール除去剤とスケールの除去方法を提供する。
【解決手段】３．５〜１０質量％の硝酸、１０〜２０質量％のクエン酸、０．６〜１．７質量％のキトサン、及び３．０〜１０質量％の両性界面活性剤を含む水溶液をスケール除去剤とした。スケール除去剤にステンレス鋼溶接部を浸漬し、４０〜８０℃に加温し、浸漬時間を１０〜２００分とした。 （もっと読む）

【課題】洗浄性及び消泡性が高いために長寿命の洗浄剤となり得る鋼板用洗浄剤組成物と、これを用いた冷間圧延鋼板の製造方法を提供する。
【解決手段】アルカリ剤（ａ）、非イオン性界面活性剤（ｂ）、脂肪酸アミド（ｃ）、炭素数８〜２４の分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基を有し、オキシアルキレン基が付加されていないアルコール（ｄ）、及び、水を含有する鋼板用洗浄剤組成物であって、前記非イオン性界面活性剤（ｂ）の含有量と、前記アルコール（ｄ）の含有量の比｛（ｂ）／（ｄ）｝が、０．１０〜０．９０である、鋼板用洗浄剤組成物とする。 （もっと読む）

【課題】硫酸又は硫酸主体の酸を用いる鋼材の酸洗において、短時間での脱スケールを可能にし、管理幅を広く、酸洗液寿命の長い酸洗剤及びこれを用いた脱スケール方法を提供する。
【解決手段】脱スケール促進剤としてチオ尿素と、チオ尿素ならびにチオ尿素誘導体以外の有機硫黄化合物及び／又はノニオン系界面活性剤を含有する硫酸又は硫酸主体の酸からなる鋼材の脱スケール酸洗剤。 （もっと読む）

【課題】 アルミニウム合金に施すメッキ前処理の工程数を少なくすることが可能なメッキ前処理方法を提供する。
【解決手段】 変質層の除去とアルミニウム合金成分の除去の処理液として、濃度が５０ｇ/ｌ(リットル)以上１００ｇ／ｌ以下の酸性フッ化アンモニウム（ＮＨ_４Ｆ・ＨＦ）と、濃度が１０ｇ/ｌ以上３００ｇ／ｌ以下の塩化第２鉄（ＦｅＣｌ_３）との混合液を用いることで、１工程で前記変質層の除去とアルミニウム合金の除去を行う。 （もっと読む）

【課題】実質的に中性に調整されたヒドロキシルアミン化合物を含有する洗浄組成物に特有の課題を解決し、半導体基板の金属層、特に窒化チタンの腐食を防止し、しかもその製造工程で生じるプラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去することができる洗浄組成物、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】水と、洗浄剤と、塩基性有機化合物と、酸性有機化合物と、特定の含窒素非芳香族環状化合物とを含有し、実質的に中性に調整された半導体基板用洗浄組成物。 （もっと読む）

【課題】金属表面を酸洗する際、腐食抑制効果が強く、しかも抑制剤濃度が変化しても腐食抑制率の変化が小さい金属の酸洗浄用腐食抑制剤、および洗浄方法を提供する。
【解決手段】第一アミノ基及び／又は第二アミノ基を有するポリアルキレンポリアミン（Ａ）のＣ_３−Ｃ_１５アシル化誘導体（α）を含み、該アシル化誘導体（α）の含有量が、酸液１Ｌに対して０．１〜５００００ｍｇである金属の酸洗浄用腐食抑制剤。および該洗浄液組成物を金属表面に吹付けあるいは金属表面を該洗浄液組成物で浸漬することにより洗浄する。 （もっと読む）

【解決手段】アルミニウム又はアルミニウム合金表面の酸化皮膜を除去するための除去液であって、銀イオン及び／又は銅イオンと、該銀イオン及び／又は銅イオンの可溶化剤と、水酸化第４級アンモニウム化合物とを含有し、ｐＨが１０〜１３．５であることを特徴とするアルミニウム酸化皮膜用除去液。
【効果】本発明の除去液は、アルミニウム又はアルミニウム合金の表面に、その侵食を可及的に抑制しつつ、除去液に含まれる銀及び／又は銅化合物に由来する銀及び／又は銅を置換析出することができ、しかも、この銀や銅の置換析出物はアルミニウム又はアルミニウム合金の表面を殆ど侵食することなく低温で、迅速に溶解除去することが可能であるため、アルミニウム又はアルミニウム合金の厚みが非常に薄い場合であっても、アルミニウム又はアルミニウム合金を確実に残存させつつその表面を活性化することができる。 （もっと読む）

【課題】セリア、シリカ微粒子を容易に洗浄除去できる洗浄剤及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】一般式(I)及び(II)
【化１】


（式中、R^１は炭素数６〜１６のアルキル基であり、R^２、R^３は同一又は異なって炭素数１〜４のアルキル基もしくは、炭素数1〜４のヒドロキシアルキル基である。R^４は炭素数１〜６のアルキル基、R^５はエチレン基またはプロピレン基、nは１〜３の整数である。）で表される化合物群から選択される少なくとも１種の化合物、有機酸および水を含む洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】金属素地の腐食を抑制するとともに、酸洗後の金属材表面の品質を低下させることなく、金属材表面に付着している酸化物皮膜およびスケールの除去速度を速い状態で維持する金属材用酸洗浄液、およびこれを用いる金属材の酸洗浄方法を提供する。
【解決手段】金属材用酸洗浄液は、塩酸（ＨＣｌ）水溶液に、（Ａ）平均分子量が１５０〜１５００の低分子ポリアミンと、（Ｂ）低分子カルボン酸（またはその塩）を含み、更に（Ｃ）アセチレンアルコール、（Ｄ）ヘキサメチレンテトラミン、（Ｅ）ポリエチレングリコールを含むことが出来る。 （もっと読む）

【課題】ＬＳＩ用半導体ウエハやＭＥＭＳ用基板のような微細構造を有する被洗浄物を、洗浄によるダメージを与えることなく、ガス溶解水により効果的に洗浄してこれらの被洗浄物を高度に清浄化する。
【解決手段】洗浄容器内１０で、被洗浄物を、当該洗浄液の液温における飽和溶解度以上の溶存ガスを含む洗浄液（過飽和ガス溶解液）と接触させて洗浄する。洗浄容器に、過飽和ガス溶解液を導入するか、或いは、洗浄容器内に洗浄液を導入した後加圧ガスを導入して洗浄容器内で過飽和ガス溶解液を調製した後、洗浄容器内で被洗浄物を過飽和ガス溶解液に接触させた状態で洗浄容器内を減圧し、過飽和ガス溶解液から発生した過飽和の溶存ガスの気泡で被洗浄物を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】エレクトロニクス材料、金属、ガラス、サファイア、樹脂等の洗浄工程で要求される製品表面の高清浄度を実現することができる、水溶性洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アニオン性ポリマー0.01〜20質量％、（Ｂ）キレート剤：0.01〜30質量％、（Ｃ）水：40〜99.9質量％を含む水溶性洗浄剤組成物であって、前記アニオン性ポリマー（Ａ）は、（Ａ−１）炭素数２〜８のエチレン系不飽和モノマーの少なくとも１種と、（Ａ−２）スルホ基（ＳＯ_３Ｈ）を含むエチレン系不飽和モノマー及びカルボキシル基（ＣＯＯＨ）を含むエチレン系不飽和モノマーからなる群から選ばれる少なくとも１種のアニオン性不飽和モノマーとの共重合体である、水溶性洗浄剤組成物。 （もっと読む）

本発明は、一又は複数の構成部品内に形成又はそれ以外の方法で堆積する固形堆積物を構造改変し除去するために有用な方法及び組成物を提供する。この固形堆積物には、例えば蒸気発生系内に形成されるスケールが含まれる。水系洗浄組成物は、約１３．５ｉ以上のｐＫａ値によって特徴づけられる一又は複数の水酸化第４級アンモニウムを含む。この水酸化第４級アンモニウムは、単独で又は一もしくは複数の炭化物とともに用いられ得る。この添加物には、例えば、キレート化剤、還元剤、酸化剤、ｐＨ調節剤、界面活性剤、腐食防止剤、錯化剤、分散剤及びこれらの組み合わせを含む。 （もっと読む）

【課題】金属に対する高い洗浄性、防食性、変色防止性を有し、抑泡性に優れる上に、高濃度液体とした際の液状安定性に優れる金属用洗浄剤を提供する。
【解決手段】本発明の金属用洗浄剤は、（Ａ）成分：特定のノニオン界面活性剤と、（Ｂ）成分：特定のアミン化合物と、（Ｃ）成分：全炭素数が４〜１０のカルボン酸の塩と、（Ｄ）成分：珪酸塩と、（Ｅ）成分：アルカリ金属の水酸化物とを含有し、（Ａ）成分の含有量が５〜３０質量％、（Ｂ）成分の含有量が１〜１０質量％、（Ｃ）成分の含有量が５〜２０質量％、（Ｄ）成分の含有量が１〜３質量％、（Ｅ）成分の含有量が２〜６質量％である。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、研磨工程由来の有機残渣除去性能、銅配線の腐食抑制効果（銅腐食抑制効果）に優れ、かつ腐食防止剤が残留しない銅配線半導体用洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 有機アミン、４級アンモニウム化合物、ウレア基またはチオウレア基を含有する化合物、および水を必須成分とし、ｐＨが７〜１２であることを特徴とする銅配線半導体用洗浄剤である。 （もっと読む）

【課題】 洗浄力、乾燥性、安全性、経済性、有害性等の要求項目を満たす洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】 ジエチレングリコールジエチルエーテル及び３−メチル−３−メトキシ−１−ブタノールからなる洗浄剤組成物、特にジエチレングリコールジエチルエーテルの含有量が１０〜９０容量％、３−メチル−３−メトキシ−１−ブタノールの含有量が９０〜１０容量％からなる洗浄剤組成物は、自動車、機械、精密機器、電気、電子等の各種工業分野において扱われる部品等に付着する加工油類に対する洗浄力に優れ、特に水溶性加工油等の水及び油分が複合した汚れの洗浄に適しており、沸点が１７０℃以上であるため揮発性が低く、ＶＯＣ排出抑制に効果があり、且つ良好な乾燥性を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、脂肪族低級メルカプタンを含有する水性錆除去剤の新規な再生方法を提供する。
【解決手段】脂肪族低級メルカプタンを含有する水性錆除去剤の再生方法であって、
（ａ）銅錆除去に用いた後の水性錆除去剤に酸を添加することにより、銅を含む沈殿を生じさせる工程１、
（ｂ）前記沈殿を固液分離により除去する工程２、
（ｃ）前記沈殿を除去することにより得られる液体のｐＨを６〜９に調整する工程３、
を含むことを特徴とする再生方法、並びに、
（Ａ）鉄錆除去に用いた後の水性錆除去剤に、酸性リン酸エステルを含有する有機溶剤を添加・撹拌することにより有機相と水相に分画するとともに、前記有機相に鉄成分を抽出する工程１、
（Ｂ）前記有機相を除去する工程２、
を含むことを特徴とする再生方法。 （もっと読む）

本発明は、（ａ）加工物表面の少なくとも一部を、金属塩不含イオン液体及び／又は有機溶剤を含有する処理剤で処理する工程を有し、その際に有機溶剤が、場合によりハロゲン化された炭化水素又は２種又はそれ以上のそのような炭化水素の混合物である、加工物から金属塩含有イオン液体の残留物を除去する方法に関する。加工物上の金属塩含有イオン液体の残留物は、電解浴に由来し、かつ例えばＥＭＩＭＣｌ×１．５ＡｌＣｌ₃（アルミニウムでの金属加工物の電解コーティング用の塩化アルミニウム含有１−エチル−３−メチルイミダゾリウムクロリド）である。有機溶剤（ヘプタン、トルエン、デカリン等）での加工物表面の処理後に、洗浴中に存在するＥＭＩＭＣｌ×１．５ＡｌＣｌ₃の下層は、相分離により電解浴へ返送される。 （もっと読む）

【課題】切削油および金属粉の洗浄性、洗浄廃液の油水分離性および洗浄時の抑泡性のいずれもが優れる金属用液体洗浄剤を提供する。
【解決手段】本発明の金属用液体洗浄剤は、（Ａ）下記一般式（１）で表される非イオン性界面活性剤１〜１０質量％と、（Ｂ）有機酸系キレート剤１〜２０質量％と、（Ｃ）重量平均分子量５０００以上のカチオン性高分子１〜５質量％とを含有し、ｐＨが９以上である。一般式（１）：Ｒ^１Ｏ（ＥＯ）_ｎ（ＰＯ）_ｍＨ、（式中、Ｒ^１は炭素数８〜１１のアルキル基またはアルケニル基、ＥＯはエチレンオキシド、ＰＯはプロピレンオキシドである。ｎはＥＯの平均付加モル数で、１〜１０であり、ｍはＰＯの平均付加モル数で、０〜５である。） （もっと読む）