説明

Fターム[4M118BA10]の内容

固体撮像素子 (108,909) | 基本構造 (11,702) | 受光部(光電変換部)を複数持つもの (11,448) | 半導体結晶型 (10,136) | 受光・転送同一平面型 (8,954) | CCD型(非薄膜型) (3,681)

Fターム[4M118BA10]の下位に属するFターム

Fターム[4M118BA10]に分類される特許

81 - 100 / 2,344


【課題】厚さ寸法の増大を招くことなく、保持部材に対して適切な位置に撮像素子パッケージを固定することのできる撮像素子固定構造を提供する。
【解決手段】撮像素子パッケージ51と、撮像素子パッケージ51の一対の素子外側面(54)と第1間隔C1で対向する一対の第1中間対向面56を規定しかつ第2方向への撮像素子パッケージ51の相対的な第1距離の移動を許容する中間部材52と、素子外側面と第1中間対向面56とを掛け渡して接合する第1接着層67と、中間部材52の一対の第2中間対向面61と第2間隔C2で対向する一対の保持内側面(63)を規定しかつ第1方向への中間部材52の相対的な第2距離の移動を許容する保持部材53と、第2中間対向面61と保持内側面とを掛け渡して接合する第2接着層68と、を備え、第1間隔C1は、第1距離の半分の値よりも小さく設定され、第2間隔C2は、第2距離の半分の値よりも小さく設定されている。 (もっと読む)


【課題】 小型化、薄型化を実現した半導体装置を提供する。
【解決手段】 本発明の半導体装置は、画素に表示部とセンサ部とを有し、表示部とセンサ部の各々の制御を、同一の走査線駆動回路で行う。第1の期間においては、前記走査線駆動回路は、表示部が有する第1の選択信号線の走査を行い、第2の期間においては、前記走査線駆動回路は、センサ部が有する第2の選択信号線の走査を行う。表示部にビデオ信号を入力するための第1の信号線と、センサ部から、対象物の画像情報を有する信号を出力するための第2の信号線とは、別々に設けられることで、相互の信号へのスイッチングノイズ等の影響を最小限とする。 (もっと読む)


【課題】画素部面内でのスミア比の差が抑制され、出力画像の画質が高い固体撮像素子を提供する。
【解決手段】マイクロレンズ16と、赤色、緑色、青色の波長を選択するカラーフィルター17とを有し、カラーフィルター17透過後の入射光を、屈折率が周辺部よりも大きな材料を用いて画素開口部へ伝搬させる光導波路構造(光導波路13、・・)を備える。そして、光導波路13の開口径が、画素中心部から周辺部に行くに従って小さくなっている。具体的には、画素中心部における開口径dG1が、外周における開口径dG2よりも大きくなっている。なお、R画素およびB画素においても、同様の関係を以って光導波路の開口径が設定されている。 (もっと読む)


【課題】固体撮像装置の画質の向上を図る。
【解決手段】本実施形態の固体撮像装置は、半導体基板10内に設けられ、光が照射される複数の第1の光電変換部を有する第1の領域2と、半導体基板10内に設けられ、第1の領域2に隣接する第2の領域3と、受光面に対して垂直方向において第1の領域2と重なる位置に配置され、第1の光電変換部にそれぞれ対応する複数の第1のレンズ9と、記第1の領域2と第1のレンズ9との間において2つの領域2,3との境界部の段差に隣接し、第1の領域2に対応する第2のレンズ7Aと、を含む。 (もっと読む)


【課題】透過光量が大きく、赤、緑、及び青の着色画素を含むカラーフィルタを固体撮像素子に用いたときに、ノイズが低く、色再現性が良好な固体撮像素子を実現するカラーフィルタを提供する。
【解決手段】赤色画素、緑色画素、および青色画素を含むカラーフィルタにおいて、前記赤色画素における400nmの透過率が15%以下、650nmの透過率が90%以上であり、前記緑色画素の450nmの透過率が5%以下、500〜600nmの波長範囲のいずれかの透過率が90%以上であり、且つ、前記青色画素の450nmの透過率が85%以上、500nmの透過率が10%以上50%以下、700nmの透過率が10%以下であるカラーフィルタ。 (もっと読む)


【課題】各画素の受光部に対応して設けられるレンズ同士の境界部分に遮光部を設けるに際し、遮光部をセルフアラインで形成することができ、レンズと遮光部とのパターン合わせ精度を向上することができ、微細化や画素数の増大に容易に対応することができる固体撮像素子の製造方法を提供する。
【解決手段】本開示の固体撮像素子の製造方法は、半導体基板上の撮像領域に配列される複数の画素の各画素の前記受光部に対応して設けられ、前記受光部に対して光を集光するレンズを形成する工程と、前記レンズ上に、遮光性を有する材料により成膜することで、遮光層を形成する工程と、互いに隣り合う前記レンズの境界部分に前記遮光性を有する材料を残すように前記遮光層をエッチングすることで、前記レンズの境界部分に、前記遮光性を有する材料からなる遮光部を形成する工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】パッケージ間の信号伝送路長を直線的に最短経路でかつ等長に配線することが可能となる積層構造を有する半導体装置の提供。
【解決手段】複数の第1の半導体パッケージそれぞれは、電極が配設された少なくとも一つの側面が同一面内に位置しかつ積層方向に隣接する2つの第1の半導体パッケージの一方の下面に配設された電極と他方の上面に配設された対応する電極が互いに接続するように基板上に積層され、第2の半導体パッケージの電極は、積層された複数の第1の半導体パッケージの少なくとも一つの側面に配設された電極が作る配列に対応する配列を有し、第2の半導体パッケージは、その電極が、積層された複数の第1の半導体パッケージの少なくとも一つの側面に配設された対応する電極と互いに接続するように、少なくとも一つの側面と平行に基板上に配置されている半導体装置。 (もっと読む)


【課題】暗電流の発生を抑制しながらも、転送効率の向上が図られた固体撮像装置を提供する。また、その固体撮像装置を用いた電子機器を提供する。
【解決手段】光電変換部(PD)を構成する第1暗電流抑制領域21を、転送ゲート電極26と一部重なるように形成する。また、その下層に、第1暗電流抑制領域21と同導電型で構成され、第1暗電流抑制領域21よりも低濃度の不純物領域からなる転送補助領域22を形成する。また、この第1暗電流抑制領域21と転送補助領域22との転送ゲート電極26下の端部は同一位置となるように位置あわせして形成されている。第1暗電流抑制領域21により暗電流の抑制が図られ、また、転送補助領域22により、転送効率の向上が図られる。 (もっと読む)


【課題】本発明の一つの実施形態の目的は、素子分離特性を向上可能な固体撮像装置および固体撮像装置の製造方法を提供することである。
【解決手段】実施形態によれば、固体撮像装置の製造方法が提供される。固体撮像装置の製造方法は、素子分離領域形成工程と、電荷蓄積領域形成工程とを含む。素子分離領域形成工程では、第1導電型の半導体層をエピタキシャル成長させて光電変換素子間を分離する素子分離領域を形成する。電荷蓄積領域形成工程では、第2導電型の半導体層をエピタキシャル成長させて前記光電変換素子における電荷蓄積領域を形成する。 (もっと読む)


【課題】電荷の転送効率を向上させることができる固体撮像装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】実施形態に係る固体撮像装置の製造方法は、ゲート電極20を形成する工程、第2の不純物層17を形成する工程、および第3の不純物層18を形成する工程、を具備する。ゲート電極20は、P型のウェル16を表面に有する半導体基板15上に形成される。第2の不純物層17はN+型であって、ゲート電極20の位置を基準にして、ゲート電極20の端部20aを貫通する条件で半導体基板15の表面に対して斜め方向からウェル16に不純物を注入することにより形成されるものである。第2の不純物層17は、ウェル16と接合することによってフォトダイオードを構成し、第2の不純物層17の端部17aは、ゲート電極20の端部20aの下に配置される。第3の不純物層18は、P+型であって、ゲート電極20から露出した第2の不純物層17の表面に形成される。 (もっと読む)


【課題】垂直転送部における転送効率劣化による縦線などの画像不良を低減することが可能な固体撮像装置及び撮像装置を提供する。
【解決手段】本発明の固体撮像装置は、垂直転送部2と水平転送部4と駆動制御部7とを備え、垂直転送部2は複数の垂直転送部2をグループとして有し、駆動制御部7は、出力によって、垂直転送部2、動画部22、および水平転送部4のタイミングを変更して、垂直転送部内で発生した取り残し電荷を再転送する駆動、回収する駆動および通常の駆動を選択し、低照度から高照度までの領域で常に転送効率が最大になるように制御する。 (もっと読む)


【課題】従来の素子の作製プロセスに特別なプロセスを追加することなく、端面で発生した電子が画素部に混入することによって生じるノイズを低減することができる裏面照射型固体撮像素子及びそれを備えた撮像装置を提供する。
【解決手段】裏面照射型固体撮像素子100は、画素領域20、pウエル30、nガードリング40、pガードリング50、端面103〜106を有し、画素領域20から各端面103〜106に向かって、画素領域20を囲むように、pウエル30、nガードリング40及びpガードリング50が順次形成され、pウエル30にはpウエル端子31、nガードリング40にはnガードリング端子41、pガードリング50にはpガードリング端子51が、それぞれ設けられ、各端子に印加される電圧が、nガードリング端子電圧>pウエル端子電圧≧pガードリング端子電圧≧裏面端子電圧の関係を有する。 (もっと読む)


【課題】局所的な太陽光やスポット光などの強烈光を受光したときに起こるOB画素領域の信号レベル(黒基準信号)のズレを防止する。
【解決手段】OB画素領域3,4に対応した水平転送部HCCDのみを電荷転送することにより、太陽光などの強烈光を受光した際に起こる余剰電荷の溢れ出しによる信号レベルの変動がクリーニングされて無信号化されて電荷検出部5に検出される。即ち、強烈光に影響されない真のOB画素領域信号(黒基準信号)を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】高集積化に伴う、個々の光電変換部で受光される光量の減少より、光電変換部に対して、その隣の光電変換部に入射すべき光が漏れ込んできたときの混色が大きくなる。
【解決手段】撮像領域の配線層の層数が周辺回路領域の配線層の層数より少ない配線構造と、撮像領域における配線構造の上部に配置された複数のマイクロレンズと、撮像領域における最上の配線層の上部であって、隣接する光電変換部の間に配置された反射部と、を有する固体撮像装置を提供することによって、前記問題を解決する。 (もっと読む)


【課題】検出感度を向上するとともに、低コスト化を実現することができるようにする。
【解決手段】イメージセンサにおいては、光電変換部の受光素子上に、中央部分に凹部(窪み)が形成された平凸形状の構造体が形成されている。構造体の凹部を除く表面には、光反射性の薄膜が形成されている。そして、構造体の凹部には、測定対象のゲル状、または液体状の試料が貯留されている。本開示は、例えば、試料を測定対象とする検査装置に適用することができる。 (もっと読む)


【課題】光導波路の材料とそれを取り囲む絶縁膜との間に作用する熱応力により、プロセス欠陥が生じうる。
【解決手段】光導波路の材料を堆積させる工程と、堆積された前記材料に光または放射線を照射することによって前記材料をアニールするアニール工程により、前記堆積工程および前記アニール工程を経て前記光電変換部に光を導く光導波路を形成する。 (もっと読む)


【課題】改良されたカラーマイクロレンズを用いることにより、レンズ自体の色分解性と集光性の適正化を図るとともに、周囲の画素からの光を遮断して、全体として色再現性の良好なカラー固体撮像素子を簡単な製造工程で提供すること。
【解決手段】半導体基板2上に複数の光電変換素子3を平面配置した固体撮像素子画素部の受光面側表面4に、光電変換素子の各々に対応して複数のマイクロレンズ6を設けた固体撮像素子1において、マイクロレンズが所定の分光透過率特性を有する複数色の内の1色の着色透明樹脂からなるカラーマイクロレンズを他の色の着色透明樹脂からなるカラーマイクロレンズと連ねて規則的に繰り返し配列してなり、隣接する異なる色のカラーマイクロレンズが、カラーマイクロレンズの高さより低い遮光性のブラックマトリクスのパターン7により隔てられる。 (もっと読む)


【課題】出力分解能を犠牲にすることなく、消費電力を低減することができるA/D変換装置、A/D変換方法および固体撮像装置を提供する。
【解決手段】
アナログ入力信号に応じてパルス信号を遅延させるn(n:正の整数、n≧2)個の遅延素子が円環状に接続され、第1の時刻から第2の時刻までパルス信号を伝播させるパルス遅延回路と、第1の時刻から第2の時刻よりも短い第3の時刻までの周回数をカウントするカウンタ回路と、第3の時刻までの周回数を上位ビットラッチ値として出力する上位ビットラッチ回路と、第3の時刻の位置を第1の下位ビットラッチ値として出力し、第2の時刻の位置を第2の下位ビットラッチ値として出力する下位ビットラッチ回路と、第1の時刻から第2の時刻までの周回数の上位ビット推定値と第2の下位ビットラッチ値とに基づいて、アナログ入力信号の大きさに応じたデジタル出力値を生成するデジタル演算回路と、を備える。 (もっと読む)


【課題】転送トランジスタのカットオフ特性を向上する。
【解決手段】固体撮像装置は、半導体基板11と、半導体基板11に設けられ、かつN型領域及びP型領域から構成されるフォトダイオード17と、半導体基板11に設けられ、かつフォトダイオード17から転送された電荷を保持する浮遊拡散層25と、半導体基板11に設けられ、かつフォトダイオード17に蓄積された電荷を浮遊拡散層25に転送する転送トランジスタとを含む。フォトダイオード17のN型領域は、第1の半導体領域14と、第1の半導体領域14より浅い第2の半導体領域15とから構成される。第1の半導体領域14の端部は、転送トランジスタのゲート電極20の端部よりも浮遊拡散層25側に位置し、第2の半導体領域15の端部は、転送トランジスタのゲート電極20の端部と略同じ位置である。 (もっと読む)


【課題】ボンディングパッドおよびシールド構造を有する半導体装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】半導体装置は、半導体装置の正面と背面に対応する正面と背面を有する装置基板と、装置基板の正面上に形成される金属層部と、半導体装置の背面に設置され、金属層部と電気的に接続するボンディングパッドと、装置基板の背面上に設置されるシールド構造と、を含み、シールド構造とボンディングパッドは異なる厚さを有する。 (もっと読む)


81 - 100 / 2,344