【課題】高い画素開口率と、更に広いＴＦＴ製造プロセスマージン、小さな周辺回路レイアウト面積、長い寿命、のいずれかを実現するアクティブマトリクス基板を提供する。
【解決手段】基板上に、チャネル層と、ソース電極・ドレイン電極と、第１の絶縁層と、第１の電極と、を有し、第１の電極は第１の絶縁層を介してチャネル層と対向して設けられた画素薄膜トランジスタと、基板上に、チャネル層と、ソース電極・ドレイン電極と、第２の絶縁層と、第２の電極と、第３の絶縁層と、第３の電極と、を有し、第２の電極は第２の絶縁層を介してチャネル層と対向して設けられ、第３の電極は第３の絶縁層を介してチャネル層と対向して設けられた薄膜トランジスタと、を有することを特徴とするアクティブマトリクス基板。 （もっと読む）

【課題】対向電極と接続されている大電力外部スイッチに起因する周波数特性の低下を防ぎ、階調数の減少を防ぐことが可能となる電気光学装置を提供する。
【解決手段】複数のソース信号線と、複数のゲート信号線と、複数の電源供給線と、複数の電源制御線と、複数の画素とを有する電気光学装置であって、複数の画素はスイッチング用ＴＦＴと、ＥＬ駆動用ＴＦＴと、電源制御用ＴＦＴと、ＥＬ素子とをそれぞれ有しており、電源制御用ＴＦＴは、ＥＬ素子が有する陰極と陽極との間の電位差を制御することを特徴とする発光装置。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体を用いて信頼性の優れた半導体装置を提供することを課題の一とする。又は、酸化物半導体を用いて信頼性の優れた発光装置を提供することを課題の一とする。
【解決手段】酸化物半導体を用いたトランジスタのソース電極層又はドレイン電極層に接続された第１の電極と、第１の電極に重畳する第２の電極の間に発光物質を含む有機層を備えた半導体装置において、第２の電極から、水素原子を含む不純物（例えば水分）を還元して水素イオン、又は水素分子を発する活性な導電材料を排除すればよい。特に、水と反応して水素イオン、又は水素分子を発生し難い不活性な導電材料を用いて、酸化物半導体を有する半導体装置を構成すればよい。具体的には、酸化還元電位が標準水素電極に比べて大きい金属、酸化還元電位が標準水素電極に比べて大きい金属同士の合金、乃至酸化還元電位が標準水素電極に比べて大きい導電性の金属酸化物を用いて半導体装置を構成すればよい。 （もっと読む）

【課題】外部からの歪に耐性を有するディスプレイ装置を提供すること。
【解決手段】本発明のディスプレイ装置は、第１の方向の辺と、第１の方向の辺より長い第２の方向の辺からなる平面を有する基材と、基材上の表示部と、基材上の表示部を駆動するディスプレイドライバ回路であって、薄膜トランジスタを用いて構成したゲートドライバ回路と、半導体基板に形成した集積回路で構成したデータドライバ回路と、を有するディスプレイドライバ回路と、を有する。データドライバ回路は、基材の第１の方向の辺に沿って配置され、且つ、ゲートドライバ回路は、基材の第２の方向の辺に沿って配置されている。 （もっと読む）

【課題】透明導電膜にピンホール等の欠陥が生じたとしても金属導電膜の腐食を抑制し、透明導電膜と金属導電膜との間の導通を確実にとることが可能な薄膜トランジスタ基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】金属導電膜としてのゲート端子１２１、ドレイン端子１２２上にＯＣ−ＳｉＮ膜１０９を形成し、ゲート端子１２１及びドレイン端子１２２が露出するようにコンタクトホールを形成し、コンタクトホールを介してゲート端子１２１及びドレイン端子１２２に接触するようにＩＴＯ膜を成膜してパターニングし、ＩＴＯ膜に対して酸化膜形成処理を行う。これにより、ＩＴＯ膜にピンホール等の欠陥が発生していた場合には、欠陥を介してＩＴＯ膜下のゲート端子１２１ドレイン端子１２２の一部が酸化されて酸化膜が形成される。 （もっと読む）

【課題】複数の有機ＥＬ素子への供給電流ばらつきを低減する。
【解決手段】有機ＥＬ素子５０と電源ラインＶＬとの間に、電源ラインＶＬから供給する電流量を制御する素子駆動用ＴＦＴ２０を備え、ＴＦＴ２０のチャネル長方向を、画素の長手方向、又はＴＦＴ２０を制御するスイッチング用ＴＦＴ１０にデータ信号を供給するデータラインＤＬの延在方向、又はＴＦＴ２０の能動層１６を多結晶化するためのレーザアニールの走査方向に平行な方向に配置する。さらに電源ラインＶＬとＴＦＴ２０の間にＴＦＴ２０と逆特性の補償用ＴＦＴ３０を備えていても良い。 （もっと読む）

【課題】薄膜トランジスタのオン電流の安定を図ること。
【解決手段】ＥＬパネル１の駆動トランジスタ６において、ソース電極６ｉとゲート電極６ａおよびドレイン電極６ｈとゲート電極６ａの間にバックゲート効果を発現させないように、ソース電極６ｉとドレイン電極６ｈをゲート電極６ａから離間させることに十分な膜厚（例えば、２０００Å以上４０００Å以下の膜厚）を有する保護絶縁膜６ｄを形成することによって、駆動トランジスタ６のチャネルが乱されることを低減して、オン電流を安定させるようにした。 （もっと読む）

【課題】パネルの製造中において配線の腐食・劣化・電蝕等を抑えるとともに、パネルの製造後でもパネルの各素子を静電気から保護する。
【解決手段】ディスプレイパネル１は、基板１０と、基板１０の表側に発光素子８とトランジスタ５，６とを有する画素Ｐｉｘが配列されている表示領域３０と、表示領域３０内に設けられているとともに、表示領域３０の外側に引き回された複数の配線５２，５３，５４，５５と、表示領域３０の外側で基板１０の表側に設けられ、配線５２，５３，５４，５５にそれぞれ接続された保護素子７２，７３，７４，７５と、表示領域３０の外側で基板１０の表側に設けられ、保護素子７２，７３，７４，７５に接続され、基板１０の縁まで至る引出し配線８０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】均一な輝度の映像を表示できるようにする。
【解決手段】有機発光ダイオードＯＬＥＤと、第１電源ＥＬＶＤＤから有機発光ダイオードＯＬＥＤを経由して第２電源ＥＬＶＳＳに流れる電流量を制御する第２トランジスタＭ２と、第２トランジスタＭ２のゲート電極とバイアス電源との間に接続され、リセット線Ｒｎにリセット信号が供給されたときターンオンされる第３トランジスタＭ３とを備え、第３トランジスタＭ３は、第２トランジスタＭ２のゲート電極にバイアス電源Ｖｂｉａｓの電圧が５６０μｓ以上の時間印加されるように、ターンオン時点が設定される。 （もっと読む）

【課題】従来のＣＭＰを伴うダマシン法を用いた配線や電極の形成は、製造工程が煩雑であり高コスト化している。表示装置等の大型基板に配線形成を行うには平坦性等の高精度が要求されて好適せず、また研磨による配線材料の除去・廃棄量が多いという課題がある。
【解決手段】配線の形成方法及び配線を有する表示装置の形成方法は、基板上若しくは回路素子上に設けられた第１の金属拡散防止膜上に、金属シード層をＣＶＤ法により形成し、フォトレジストマスクを用いて選択的に無電解メッキ法、又は電解メッキ法により、金属配線層を形成し、金属シード層及び第１の金属拡散防止膜の不要領域除去と、金属シード層及び金属配線層及び第１の金属拡散防止膜の側面を含む表面を覆うように無電解メッキ法による第２の金属拡散防止膜の選択的な形成とにより配線及び電極を形成する。 （もっと読む）

【課題】低電流、低電圧駆動が可能で発光寿命を飛躍的に延ばすことができる有機ＥＬ素子及び有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板２の上部に形成された画素トランジスタ１１〜１３と、画素トランジスタ１１〜１３を被覆するとともに、画素トランジスタ１１〜１３の電極１２Ｓ、１３Ｓの一部を露出させるコンタクトホール３２ｂ、３２ｃが設けられた絶縁膜３２と、絶縁膜３２の上部に設けられるとともにコンタクトホール３２ｂ、３２ｃを介して画素トランジスタ１１〜１３の電極１２Ｓ、１３Ｓと接続される第一電極４１と、第一電極４１が露出するような開口８を有する隔壁６と、第一電極４１上に形成された少なくとも一層からなる有機ＥＬ層４３、４４と、隔壁６及び有機ＥＬ層４３、４４上に形成された第二電極４５、４６と、を備える発光パネル１０である。 （もっと読む）

【課題】互いに異なる電源電位を供給する２つの電源線のうち一方に生じる電源供給能力不足を抑制すること。
【解決手段】画像表示装置は、複数のデータ線と、それぞれ前記各データ線と交差する複数のスイッチ制御線と、２本の電源線およびそれぞれが前記複数のスイッチ制御線のうち１つに電位を出力する複数のスイッチ制御信号供給回路を含む垂直走査回路と、を含む。２本の電源線は互いに異なる２種類の電源電位を供給する。前記各スイッチ制御信号供給回路は、データ信号が前記複数のデータ線に供給されるタイミングにおいて、前記２種類の電源電位のどちらか一方に対応する電位を選択的に出力する。前記２種類の電源電位のうち、前記タイミングでより多くの前記スイッチ制御信号供給回路が出力する電位に対応する電源電位を供給する電源線の幅が、他方の電源電位を供給する電源線の幅より太い。 （もっと読む）

【課題】ＥＬ素子の色のバランスが良く、なおかつ発光輝度のバランスが良い、色鮮やかな画像を表示することが可能な表示装置を提供する。
【解決手段】ＥＬ素子に流す電流を大きくしたい画素ほど、該画素のＥＬ素子に電圧または電流を供給する引き回し配線の幅を大きくした。これによって、ＥＬ素子に流す電流を大きくしたい画素ほど、該画素のＥＬ素子に電圧または電流を供給する引き回し配線の配線抵抗が小さくなる。配線抵抗が小さくなると、引き回し配線における電位降下が小さくなり、ＥＬ素子に流す電流を大きくすることが可能になる。なお実際のパネルでは、引き回し配線を配置するスペースは限られているので、各色における引き回し配線の幅の比を変えることで、各色のＥＬ素子に流れる電流の大きさのバランスを取ることが可能である。 （もっと読む）

【課題】
支持基板上に形成された第１導電層と、層間絶縁層上に形成された第２導電層とをコンタクトホールによって電気的に接続した半導体装置において、安価に、前記第１導電層と第２導電層とのコンタクト不良を抑制した半導体装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】
開口部内における第１導電層１０２の状態は、開口部端部付近１０２ｂよりも中心部付近１０２ｃにおいて表面粗さがより大きい、もしくは導電性は薄膜の粒径がより大きくなるように形成されている。従って、コンタクトホール１０４における第１導電層１０２と第２導電層１０５との電気的接続が良好となってコンタクト不良の発生を抑制可能としている。 （もっと読む）

【課題】有機発光ディスプレイ装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に形成された薄膜トランジスタの活性層と、活性層及び第１絶縁層上に形成され、第１透明導電層及び第１金属層を備えるゲート電極と、ゲート電極及び第２絶縁層上に形成され、第２絶縁層に形成されたコンタクトホールを通じて前記活性層に連結された第２金属層、第２金属層上に形成された第３金属層、及び第３金属層上に形成された第２透明導電層を備えるソース及びドレイン電極と、第１絶縁層上に形成され、第１透明導電層、第３金属層、及び第２透明導電層を備える画素電極と、画素電極上に配置され、有機発光層を備える中間層と、中間層を挟んで画素電極に対向して配置される対向電極と、を備える有機発光ディスプレイ装置である。 （もっと読む）

【課題】複数の駆動電極を用いつつ、回路規模や配線数を抑え、かつ、表示品位の劣化を抑えることができるタッチ検出機能付き表示装置を提供する。
【解決手段】第１の方向（例えば水平方向）に延在すると共に第２の方向（例えば垂直方向）に並列配置され、それぞれに駆動信号が印加される複数の駆動電極３３を備える。第２の方向において、駆動電極３３の幅Ｗ１は、２つ以上の画素電極に対応する大きさを有する。複数の駆動電極３３はそれぞれが、第１の方向に設けられた電極内スリット３３Ａを有する。隣接する２つの駆動電極３３の間には、電極内スリット３３Ａに対応する電極間スリット３３Ｂを形成する。 （もっと読む）

【課題】共通電極に起因する画質の劣化を抑えることができる表示装置を得る。
【解決手段】一方向に延在するように並設された複数の信号線（画素信号線ＳＧＬ）と、信号線に沿って延在するように並設された複数の共通駆動電極（駆動電極ＣＯＭＬ）と、複数の信号線のそれぞれに接続されるとともに、その接続された信号線と互いに対をなす共通駆動電極にも接続され、信号線の方向に走査駆動が行われる複数の表示素子（サブ画素ＳＰix）とを備える。 （もっと読む）

【課題】各画素内の正極性信号側画素回路部と負極性信号側画素回路部で互いに対になっている回路構成要素及び配線同士を、仮想の画素中心線に対して線対称で配置構成することにより、画素ピッチを増大させることなく液晶素子に正常な駆動電圧を印加する。
【解決手段】Ｖdd配線１０２、Ｃs1接続配線１０４、データ線Ｄi+用配線１０６などの正極性信号側画素回路部の配線と、Ｖdd配線１０３、Ｃs2接続配線１０５、データ線Ｄi-用配線１０７などの負極性信号側画素回路部の配線とは、画素中心線II−II’に対して対応する配線同士が線対称位置に配置されている。Ｖdd配線１０２とＶdd配線１０３とは、１画素内の左右両端に配置されているため、左右両隣の画素のＣs1接続配線、又はＣs2接続配線からのクロストークを抑制するガードパターンの役割を果たしている。データ線Ｄi+用配線１０６及びデータ線Ｄi-用配線１０７は、画素の中心部付近に配置されている。 （もっと読む）

【課題】薄膜トランジスタを用いた表示装置において、光を用いて封止を行う際、配線で遮光されるため、十分に封止できなかった。
【解決手段】第１の基板と、第１の基板上に形成された薄膜トランジスタと、薄膜トランジスタ上に形成された有機樹脂からなる層間絶縁膜と、層間絶縁膜上に形成された発光素子と、第１の基板に対向して設けられた第２の基板と、を有する発光装置であって、第１の基板と第２の基板は、光を用いてシール材で接着され、シール材と開口を有する配線が重ねて設けられ、シール材と薄膜トランジスタのゲート絶縁膜は重ねて設けられ、シール材と有機樹脂からなる層間絶縁膜の少なくとも一部は重ねられていない発光装置。 （もっと読む）

【課題】画素構造を最適化することにより、開口率を向上させたＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】スイッチング用ＴＦＴのゲート電極に近接して設けられた半導体層と、電流制御用ＴＦＴのゲート電極に近接して設けられた半導体層と、スイッチング用ＴＦＴのゲート電極および電流制御用ＴＦＴのゲート電極と同一面上に設けられたソース配線と、スイッチング用ＴＦＴのゲート電極、電流制御用ＴＦＴのゲート電極、およびソース配線を覆う絶縁膜と、ソース配線および前記スイッチング用ＴＦＴの半導体層に電気的に接続された第１の接続配線と、電流制御用ＴＦＴのゲート電極および前記スイッチング用ＴＦＴの半導体層に電気的に接続された第２の接続配線と、電流制御用ＴＦＴの半導体層と電気的に接続された画素電極と、発光層と、画素電極と対向する電極とを有するＥＬ素子とを有するＥＬ表示装置。 （もっと読む）