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Fターム[5E040BD01]の内容

硬質磁性材料 (8,571) | 磁性体の構造 (548) | 焼結体よりなるもの (496)

Fターム[5E040BD01]に分類される特許

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【課題】希土類焼結磁石のHcJを向上させつつBrの低下を抑制すること。
【解決手段】この希土類焼結磁石の製造方法は、希土類元素を含む粉末を調整する工程と(ステップS1〜ステップS3)、得られた粉末を混合する工程と(ステップS4)、混合粉末を磁場中において成形することにより、成形体を得る工程と(ステップS5)、この成形体を焼結して焼結体を得る工程と(ステップS6)、この焼結体に、重希土類元素の単体と、重希土類元素の化合物との少なくとも一方を付着させる工程と(ステップS7)、重希土類元素の単体と、重希土類元素の化合物との少なくとも一方が付着した焼結体を誘導加熱する工程と(ステップS8)、を含む。 (もっと読む)


【課題】優れた耐食性と接着性とを兼ね備えた磁石部材を提供する。
【解決手段】本発明に係る磁石部材30は、希土類磁石を含む磁石素体32と、Niを含み、磁石素体32を被覆するめっき膜34と、を備える磁石部材であって、磁石素体32の容易磁化方向Mを垂線にもつ磁石部材の面Sの周縁部38に位置するめっき膜34中の硫黄の含有率が、面Sの中央部36に位置するめっき膜34中の硫黄の含有率よりも低い。 (もっと読む)


【課題】過酷条件下においても優れた耐食性を有するとともに、優れた磁気特性を有する表面改質されたR−Fe−B系焼結磁石およびその製造方法を提供する。
【解決手段】表面改質されたR−Fe−B系焼結磁石は、25〜40質量%の希土類元素:R、0.6〜1.6質量%のB、0〜1.0質量%のAl、Si、Ti、V、Cr、Mn、Ni、Cu、Zn、Ga,Zr、Nb、Mo、Ag、In、Sn、Hf、Ta、W、Pb、およびBiからなる群から選択される少なくとも1種の添加元素:M、残部は、磁石全体の0.01〜2.5質量%がCoによって置換されたFe、および不可避不純物からなる組成を有するもので、表面改質された部分が少なくとも4層を有する改質層からなり、この改質層が、磁石の内側から順に、R、Fe、Co、Bおよび酸素を含む主層、Co濃化層、R濃化層、最表層を少なくとも有する。 (もっと読む)


【課題】30〜300MHzの周波数帯域において反射減衰量を高く維持しつつ、耐チッピング性に優れた電波吸収体を実現することができる。また、本発明のフェライトコアは、NiOを含有しないので、低コスト化を図ることができる。
【解決手段】主成分が、酸化鉄をFe換算で44〜48モル%、酸化亜鉛をZnO換算で23.1〜26モル%を含有し、残部が酸化マンガンで構成されており、前記主成分100重量%に対して、副成分として、酸化珪素をSiO換算で50〜300ppm、酸化カルシウムをCaO換算で110〜1120ppm、酸化コバルトをCoO換算で0.1〜0.9重量%含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 優れた耐食性を有するとともに、優れた磁気特性を有する表面改質されたR−Fe−B系焼結磁石の製造方法を提供すること。
【解決手段】 酸素分圧が1×10Pa〜1×10Paで水蒸気分圧が1000Pa未満であり、かつ、酸素分圧と水蒸気分圧の比率(酸素分圧/水蒸気分圧)が1〜20000(但し1を除く)の雰囲気を、処理室内の容積1mあたりの雰囲気ガスの導入を酸素流量として0.028m/分以上、かつ、全体流量として3m/分以下の条件で行うことで処理室内が陽圧状態になるようにして形成し、酸素含有量が0.1質量%以下のR−Fe−B系焼結磁石に対し、230℃〜260℃で熱処理を行うことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】HDDR磁粉を用い、重希土類元素の使用を抑えつつ、高い保磁力をもったR−T−B系永久磁石の製造方法を提供する。
【解決手段】HDDR法によるR−T−B系粉末(Rは、Nd及び/又はPrをR全体に対して95原子%以上含む希土類元素、TはFe又はFeの一部をCo及び/又はNiで置換した、Feを50原子%以上含む遷移金属元素)と、R’(Nd及び/又はPrをR’全体に対して90原子%以上含み、DyおよびTbを含まない希土類元素)と25原子%以上65原子%以下のAlからなるR’−Al系合金粉末とを準備する。R−T−B系粉末に対するR’−Al系粉末の質量比を1/10以下とした混合粉末を、R214B相のキュリー点以下の温度で成形した圧粉体を550℃以上R’−Al系合金粉末の液相滲み出し開始温度Tp以下で熱間圧縮成形し、不活性雰囲気または真空中において550℃以上900℃以下の温度で熱処理する。 (もっと読む)


【課題】Dy等の拡散元素を表面部から内部まで効率的に拡散させることができる希土類磁石の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の希土類磁石の製造方法は、希土類合金粒子の成形体または焼結体からなる磁石材の表面部に内部へ拡散し得る拡散元素を付着させる付着工程と、磁石材を真空中で加熱して磁石材の表面部に滞留した拡散元素の少なくとも一部を蒸発させる蒸発工程と、を備えることを特徴とする。付着工程は蒸着工程であり、蒸発工程は蒸着工程に続けて磁石材だけを真空中で加熱する加熱工程であると好ましい。この製造方法によれば、稀少なDy等の使用量を抑制しつつ、希土類磁石の保磁力の向上を図ることができる。換言すると、本発明により保磁力効率が著しく大きい希土類磁石が得られる。 (もっと読む)


【課題】より経済的な希土類永久磁石を提供する。
【解決手段】複数の主磁石層(10、10’)と、複数の下位磁石層(11、12、13、11’、12’、13’、14)とを有する、電気機械(2)の磁石装置用の積層磁石(1、1’)が提供され、各磁石層(10、10’、11、12、13、11’、12’、13’、14)はランタニドの層濃度を有する強磁性体を含み、該ランタニドの層濃度が主磁石層(10、10’)において最大である。 (もっと読む)


【課題】Dy等を内部まで短時間で効率的に拡散させることができる希土類磁石の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の希土類磁石の製造方法は、希土類磁石合金からなる粉末粒子の成形体または焼結体である磁石材と保磁力を向上させる拡散元素を含む拡散材とを近接して配置させる配置工程と、加熱した拡散材から蒸発した拡散元素の蒸気に加熱した磁石材を曝して磁石材内へ拡散元素を拡散させる拡散工程とを備える希土類磁石の製造方法であって、拡散工程は、磁石材と独立して拡散材を、磁石材の加熱温度である磁石材温度(Tm)とは異なる拡散材温度(Td)に加熱する工程であることを特徴とする。本発明によれば、磁石材温度(Tm)と拡散材温度(Td)を別個に設定して拡散処理を行うことにより、ごく短時間の加熱であっても、拡散元素を効率的に磁石内部まで拡散させ得る。 (もっと読む)


【課題】R−T−B系焼結磁石体へのRH拡散の条件が変わっても拡散量が変動することなく安定してR−T−B系焼結磁石を製造する。
【解決手段】焼結磁石の製造方法は、R−T−B系焼結磁石体を準備する工程と、ジルコニア、アルミナ、イットリア、窒化ケイ素、炭化ケイ素、窒化硼素若しくはこれらの混合物のセラミックスまたはMo、Nb、W、Taのいずれかの1種の金属若しくはこれらの合金のいずれかからなる基材に重希土類元素RH(DyおよびTbの少なくとも一方)を含む金属または合金を被覆したRH拡散源を準備する工程と、前記R−T−B系焼結磁石体および前記RH拡散源を処理室内に装入・配置する工程と、前記R−T−B系焼結磁石体および前記RH拡散源を700℃から1000℃に加熱するRH拡散工程とを包含する。 (もっと読む)


【課題】磁石の中心部まで重希土類元素RHを導入するR−T−B系焼結磁石の製造方法を提供する。
【解決手段】R−T−B系焼結磁石の製造方法において、磁石素材と重希土類元素RH(DyおよびTbの少なくとも1種)の金属または合金からなるRH拡散源とを相対的に移動可能かつ近接または接触可能に処理室内に投入する工程、磁石素材とRH拡散源とを処理室内で連続的または断続的に移動させながら800℃以上1000℃以下の熱処理を10分以上行うRH拡散工程をした後、作製した磁石中間体に表面加工を行ってから再度RH拡散工程を行う。 (もっと読む)


【課題】量産性に優れた重希土類元素RHの拡散処理を提供する。
【解決手段】R−T−B系焼結磁石の製造方法はR−T−B系焼結磁石体を準備する工程と、重希土類元素RH(Dy、Tbの少なくともいずれか1種)の含有量が前記R−T−B系焼結磁石体の含有量より少なくとも0.5質量%多いR−T−B系合金からなるRH拡散源を準備する工程と、前記R−T−B系焼結磁石体と前記RH拡散源とを相対的に移動可能かつ近接または接触可能に処理容器内に装入する工程と、前記R−T−B系焼結磁石体と前記RH拡散源とを前記処理室内にて連続的または断続的に移動させながら、800℃以上1000℃以下の熱処理を行うRH拡散工程と、を包含する。 (もっと読む)


【課題】DYまたはTBを用いてND−FE−B焼結永久磁石を作製する方法および永久磁石を提供すること。
【解決手段】永久磁石を作製する方法が記載されている。一実施形態では、本方法は、所望の組成を有する第1の合金粉末を準備するステップであり、合金粉末はネオジム、鉄およびホウ素を含有する、準備するステップと、第1の合金粉末が、ジスプロシウム、テルビウムまたは両方の容積濃度を超過しているジスプロシウム、テルビウムまたは両方の表面濃度を有するように、ジスプロシウム、ジスプロシウム合金、テルビウムまたはテルビウム合金で第1の合金粉末を被覆するステップと、粉末冶金法を用いて、被覆された合金粉末から永久磁石を形成するステップであり、永久磁石はジスプロシウム、テルビウムまたは両方の非均一分布をその中に有する、形成するステップとを含む。また、永久磁石が記載されている。 (もっと読む)


【課題】 RH含有量が少ないか、またはRHを含まない、耐食性に優れるR−Fe−B系焼結磁石の製造方法を提供すること。
【解決手段】 重希土類元素(RH:DyおよびTbから選択される少なくとも1種)含有量が4.5mass%以下のR−Fe−B系焼結磁石に対し、酸素分圧が1×10Pa〜1×10Paで水蒸気分圧が1000Pa未満であり、かつ、酸素分圧と水蒸気分圧の比率(酸素分圧/水蒸気分圧)が1〜20000の雰囲気下、200℃〜450℃で熱処理を行う工程を含み、かつ、熱処理を行った温度からの磁石の降温を、少なくとも100℃に至るまで650℃/時間以上の平均冷却速度で行うことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】希土類磁石を結晶配向させるための熱間塑性加工を積極的に利用して、磁束密度を高めながら、同時に、保磁力も高めることができる、希土類磁石の製造方法を提供する。
【解決手段】R−T−B(R:希土類元素、T:FeまたはFe+Co)の組成を有する希土類磁石材料の粉末に、金属または合金のフッ化物を添加混合し、得られた混合粉末を成形加工してバルク体とした後、熱間塑性加工を行なう方法であって、
Rの含有量を28〜33質量%とし、熱間塑性加工を550〜800℃で行なうことを特徴とする希土類磁石の製造方法。 (もっと読む)


【課題】焼結磁石体への希土類化合物含有液の付着量を制御し、希土類焼結磁石の製造コストの増加を抑制すること。
【解決手段】希土類化合物を含有する希土類化合物含有液3に、焼結磁石体2を所定の深さで浸漬して、希土類化合物含有液3を焼結磁石体2の端面に付着させるとともに端面側の焼結磁石体2の側面に付着させる付着工程と、焼結磁石体2の側面に付着させた希土類化合物含有液3の一部を第1ブレード6、6により掻き取る側面掻き取り工程と、焼結磁石体2の端面に付着させた希土類化合物含有液3の一部を第2ブレード9により掻き取る端面掻き取り工程と、を含む希土類化合物付着方法により解決できる。 (もっと読む)


【課題】磁気特性向上を図るため、磁性体表面にフッ素を含む層を低温かつ連続的に適切な膜厚で形成することができるフッ化物コート膜形成処理液、およびフッ化物コート膜形成方法を提供する。
【解決手段】フッ化物コート膜を形成する処理液は、アルコールを主成分とする溶媒と、前記溶媒中に分散した希土類又はアルカリ土類金属のフッ化物と、で構成され、X線回折で検出されるピークの少なくとも1つは、1度よりも大きい半値幅を形成する処理液である。また、絶縁膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】湿式粉砕を用いた場合であっても、焼結前に磁石粒子の含有する炭素量を予め低減させることを可能とした永久磁石及び永久磁石の製造方法を提供する。
【解決手段】粗粉砕された磁石粉末を、M−(OR)(式中、MはV、Mo、Zr、Ta、Ti、W又はNbである。Rは炭化水素からなる置換基であり、直鎖でも分枝でも良い。xは任意の整数である。)に該当する有機金属化合物とともに溶媒中でビーズミルにより粉砕し、磁石粒子表面に対して均一に有機金属化合物を付着させる。その後、圧粉成形した成形体を水素雰囲気において200℃〜900℃で数時間保持することにより水素中仮焼処理を行う。続いて、焼成を行うことによって永久磁石1を製造する。 (もっと読む)


【課題】希少資源である重希土類元素を使用せずに磁性材料の特性を改善することが課題である。
【解決手段】希土類鉄系結晶粒と鉄コバルト合金結晶粒の間にフッ素含有粒界相を形成し、希土類元素が偏在化した希土類鉄系結晶粒と鉄コバルト合金結晶粒には磁気的な結合を発現させることにより高エネルギー積を実現させた。高い飽和磁束密度を有し、保磁力が10kOe以上かつキュリー点が600K以上の焼結磁石は、鉄コバルト合金結晶粒を焼結磁石全体に対して0.1重量%から90重量%の範囲の重量にした場合に達成可能である。 (もっと読む)


【課題】 優れた耐食性を有するとともに、優れた密着性をもって金属被膜や樹脂被膜などの耐食性被膜を表面に形成することができる、RLの一部がRHによって置換されてなるR−Fe−B系焼結磁石の製造方法を提供すること。
【解決手段】 処理対象とするR−Fe−B系焼結磁石に対してRHを外部から拡散導入する工程Aを行った後、酸素分圧が1×10Pa〜1×10Paで水蒸気分圧が1000Pa未満であり、かつ、酸素分圧と水蒸気分圧の比率(酸素分圧/水蒸気分圧)が1〜20000の雰囲気下、200℃〜500℃で熱処理を行う工程Bを行うことを特徴とする。 (もっと読む)


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