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Fターム[5E339BD03]の内容

プリント配線の製造 (8,867) | 導体層の形成、パターン化 (920) | 全面導体層の形成 (147)

Fターム[5E339BD03]に分類される特許

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【課題】極細線回路が容易に形成でき、且つ銅メッキ層の接着力や耐熱性に優れるプリント配線板の製造方法の提供。
【解決手段】銅箔の片面にブロック共重合ポリイミド樹脂とポリマレイミド化合物を含有する樹脂層を形成した樹脂複合銅箔の樹脂層面にBステージ樹脂組成物層を積層成形した後、該銅箔をすべてエッチング除去し、樹脂層表面を露出させ、樹脂層表面を凹凸処理することなく全面に無電解銅メッキ層5を形成し、次いで電解銅メッキ層を形成後、無電解銅メッキ層と電解銅メッキ層を選択的にエッチング除去して銅回路を形成する、または無電解銅メッキ層5を形成し、次いで該無電解銅メッキ層の上に選択的に電解銅メッキパターン層を形成し、電解銅メッキ層が形成されていない無電解銅メッキ層をエッチング除去して銅回路を形成するプリント配線板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】被加工物に高精度のマスクパターンのマスクを形成すると共に、そのマスクを用いて被加工物を高精度にパターニングする。
【解決手段】塗布剤40の融解開始温度よりも低い温度にされた銅箔60に、ノズル50から溶融した塗布剤40を噴射して塗布すると共にその塗布剤40を凝固させ、銅箔60上にマスクを形成する。そして、凝固した塗布剤40で構成されるマスクのマスクパターンに基づいて銅箔60をエッチングしてパターニングする。この後、マスクである塗布剤40を加熱して溶融させ、銅箔60からマスクである塗布剤40を除去する。 (もっと読む)


【課題】
金属蒸着層とウェットエッチング用レジストインクとの密着性を高めることにより、正確なパターン形状ならびに優れた寸法精度を得ることを可能にするウェットエッチング方法を提供する。
【解決手段】
基材上に設けた金属蒸着層上に、ウェットエッチング用レジストインクをパターン積層し、次いで、該レジストインクを熱乾燥させ、しかるのち、ウェットエッチングにより金属蒸着層からなるパターンを形成させるパターン形成方法において、該レジストインクが、バインダー樹脂と、特定の基本骨格を持つ化合物(A)を含有するパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】 ホイスカの発生がなくて信頼性が高く、ワイヤボンディング性や半田濡れ性の改善された配線基板を確実な方法で得る。
【解決手段】 セミアディティブ法により絶縁体表面にメッキ層からなる銅配線を設けた配線基板であって、該メッキ層からなる銅配線表面の表面粗さ(Rz)が0.25μm以下の配線基板とする。銅配線は絶縁体表面にメタライズ層もしくはシード層とメタライズ層とを介して設けるのが好ましい。銅配線表面の表面粗さ(Rz)が0.25μm以下にするには、組成が、硫酸濃度5〜50g/l、過酸化水素濃度10〜60g/l、塩素濃度5〜40ppmであるフラッシュエッチング液を使用して、銅メッキ層をフラッシュエッチングする。 (もっと読む)


【課題】微細なパターニングが可能であり、大量の現像液やエッチング剤等の薬液等を使用せず製造コストおよび環境負荷を抑制すること等ができ、さらにレーザ照射欠陥が生じない、回路パターンを有するガラス基板の製造方法、およびこれにより製造される回路パターンを有するガラス基板の提供。
【解決手段】ガラス基板10上に薄膜層12を形成した後、レーザ光22をして、ガラス基板上に回路パターン26を形成する工程と、ガラス基板上に、低融点ガラス28を付着させる工程と、低融点ガラスを焼結して低融点ガラス層32を形成し、さらに、ガラス基板と低融点ガラス層との間に、レーザ光の照射によってガラス基板に形成されたレーザ照射欠陥24の厚さ以上の厚さを有する相溶層を形成する工程とを具備する回路パターンを有するガラス基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】信頼性が高く、高機能化およびコンパクト化が可能で低コストの素子内蔵回路基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】素子内蔵回路基板は、熱可塑性樹脂から成る層間絶縁体層1、層間絶縁体層1の一主面の第1の配線回路2、層間絶縁体層1の他主面の第2の配線回路3を有する。第2の配線回路3の配線3aには、層間絶縁体層1を貫挿し上記一主面に露出する凸部4が設けられる。また、その配線3bには層間絶縁体層1により囲繞された凹所5が設けられ、凹所5底部にメッキ層6を介し半導体チップ8が装着される。そして、ボンディングワイヤー9が半導体チップ8の電極パッドと上記凸部4に接続し、封止樹脂10が、上記半導体チップ8を凹所5に封止し第1の配線回路2を被覆して、全面に形成される。 (もっと読む)


アルミニウム−窒素化合物または窒化シリコンセラミックでできており、かつ金属被覆がパターニングの前に活性半田付けによってそれに施着される、ベース基板を備える層状のセラミック材料の少なくとも一つの表層側面上に、エッチングによってパターン化される、少なくとも一つの金属被覆を備えた金属−セラミック基板であって、酸化物セラミックでできている中間層が、少なくとも一つの金属被覆とベース基板との間に設けられる。 (もっと読む)


【課題】立体基板の立体表面の高低差に対応して立体回路を効率よく精密に形成する方法を提供する。
【解決手段】立体基板1上に立体回路を形成する方法であって、波長帯幅が50nm以上の広帯域レーザ光11および集光レンズ12を用いて立体回路のパターンを描画することを特徴とする立体回路の形成方法。また、立体基板上に立体回路を形成する方法であって、シンクロトロン放射光を用いて立体回路のパターンを描画することを特徴とする立体回路の形成方法。 (もっと読む)


【課題】電解銅箔を用いたフレキシブル銅張積層板から得られる屈曲特性に優れたフレキシブルプリント配線板の提供を目的とする。
【解決手段】上記課題を解決するため、樹脂フィルム層の表面に電解銅箔をエッチングすることにより形成した配線を備えるフレキシブルプリント配線板において、当該配線は、電解銅箔製造時の初期析出結晶層1を除去し、定常析出結晶層2のみを含むことを特徴とした2層フレキシブルプリント配線板を採用する。また、この2層フレキシブルプリント配線板が、カバーレイフィルム層を備える場合には、当該2層フレキシブルプリント配線板の断面厚さの中立線と配線厚さの中心線とのズレが、2層フレキシブルプリント配線板のトータル厚さの5%以内とすること等が好ましい。 (もっと読む)


【課題】ペーストバンプを用いた印刷回路基板およびその製造方法を開示する。
【解決手段】(a)コア基板を穿孔してビアホールを形成する段階と、(b)ビアホールをフィルメッキで充填し、コア基板の表面に回路パターンを形成する段階と、(c)コア基板の表面にペーストバンプ基板を積層する段階と、および(d)ペーストバンプ基板の表面に外層回路を形成する段階とを含むペーストバンプを用いた印刷回路基板の製造方法は、メッキされたコア基板のBVHの強度の増加に応じて構造的に安定した全層IVH構造を具現することができ、並列的なプロセスおよび一括積層により製造時間が減少するし、最外層に積層されるペーストバンプ基板の銅箔板により微細回路の具現が容易いし、メッキおよびドリル工程が一部省略されて製造費用が低減されるし、回路パターンの層間接続面積が増加して接続信頼性が向上され、ディンプルカバレージが可能になる。 (もっと読む)


【課題】金属箔をエッチングして微細配線を形成し、配線間などの金属箔を除去した耐熱性樹脂フィルムの表面が、異方導電性フィルムやICチップをフィルムにはり合わせる接着剤との接着性に優れる金属箔積層耐熱性樹脂基板の製造方法を提供する。
【解決手段】耐熱性樹脂基板の少なくとも片面に、Ni、Cr、Co、Zn、SnおよびMoから選ばれる少なくとも1種の金属またはこれらの金属を少なくとも1種含む合金で表面処理した金属箔の表面処理された面を積層した金属箔耐熱性樹脂基板を用いて金属配線耐熱性樹脂基板を製造する方法において、耐熱性樹脂基板に積層された金属箔より金属配線を形成する工程と、表面処理金属の少なくとも1種を除去が可能なエッチング液により金属配線を有する側の表面を洗浄して基板の接着性を向上させる洗浄工程とを有する金属配線耐熱性樹脂基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】光導波路のコア層と金属製配線パターン表面との間の距離を充分に短縮し、光信号の伝搬効率を充分に向上させることができる光電気混載基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】剥離基材の表面に金属薄膜が形成された金属薄膜転写シートの金属薄膜の表面に第1クラッド層2aを形成する工程と、剥離基材を剥離する工程と、金属薄膜をエッチングにより所定の配線パターン11に形成する工程と、第1クラッド層2aの表面にコア層2bを形成する工程と、このコア層2bの表面を覆うように第2クラッド層2cを形成する工程と、コア層2bの所定位置を光路変換ミラー21に形成する工程とにより、光電気混載基板を製造する。 (もっと読む)


【課題】配線パターンの下側の絶縁フィルムが溶解されることなく、配線パターンと絶縁フィルムの間の配線密着性を維持し、ファインピッチの製品に十分な配線パターンの間のスペースを維持することができるフレキシブル配線基板とその製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁フィルム(1)の少なくとも片側の面にスパッタリング法により形成されたメタライズ層(3)と、メタライズ層(3)の上に形成された金属層(4)とを有するフレキシブル配線基板用材料を用いて、エッチング法によってメタライズ層(3)および金属層(4)を所定の配線パターンに形成し、配線パターンの間に露出した絶縁フィルム(1)の表面変質層(2)を除去した後、表面変質層(2)の上に残るメタライズ層(3)であって、金属層(4)の下から露出している部分を除去する。 (もっと読む)


【課題】単一薄膜基板で基板を厚くすることなく簡単な工程で高密度配線を実現する。
【解決手段】基板上に配線パターンが形成された配線基板であって、前記基板の少なくとも1つの面に凹凸形状が形成され、前記凹凸形状の凹部と凸部の双方にそれぞれ配線パターンが形成されたことを特徴とする配線基板を提供することにより前記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】原資材として従来の銅張積層板を使用しないプリント回路基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】銅基板21を準備する段階と、前記基板の両面にエッチングレジスト22a、22bを塗布する段階と、前記基板の一面にエッチングレジストパターンを形成する段階と、前記基板を一定の深さでエッチングして回路パターンを形成する段階と、前記エッチングレジストを除去する段階と、前記基板の回路パターンが形成された面に絶縁層23を積層する段階と、前記基板21をエッチングして前記回路パターンを露出させる段階とを含む、高密度プリント回路基板の製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】 FPC基板製造工程途中の流動時、識別票が無くとも、低コストで流動情報や製品仕様等の各種情報を容易に把握できる半導体装置の製造方法及びフレキシブル回路基板を提供する。
【解決手段】 プレス加工後、フレキシブルなテープ基材11に、製品仕様等設計処理に応じた配線パターン12、基準マーク13及び2次元コードパターン14を形成する。配線パターン12、基準マーク13及び2次元コードパターン14は、フォトリソグラフィ技術を利用して同時に形成される。2次元コードパターン14には、製品固有の情報を入力する。製品固有の情報とは、その製品仕様、例えば製品に使われている原料、製品が生産される工場名、マスク種類、配線パターンの規格、ロット数、流動管理情報等が考えられる。2次元コードパターン14は、マトリクス方式の2次元コードであり、例えばQRコードを採用する。 (もっと読む)


【課題】 膜厚を均一化することができるパターン膜形成基板及びパターン膜形成基板の製造方法、並びに電気光学装置及び電子機器を提供する。
【解決手段】 パターン膜としての正孔注入層20の材料をほぼ均一な膜厚で薄膜としての正孔注入膜20aを形成する薄膜形成工程(図3(a))と、正孔注入膜20aが形成された領域のうち、不要となる不要領域に向けて、正孔注入膜20aを溶解させる溶媒としての第1溶媒25を吐出して、不要領域以外の領域にパターン膜としての正孔注入層20を形成する溶媒吐出工程(同図(b))と、正孔注入層20を乾燥する乾燥工程(同図(c))とを有する。 (もっと読む)


【課題】配線パターンの密度の影響を受けにくく従来より均一なエッチングが行え、しかもダミーパターンの残存による問題を防止することができる配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】基板表面の導電膜層4にレジストパターン11を形成した後、エッチングを行って所定の配線パターン12を形成する工程を含む配線基板の製造方法において、レジストパターン11としてエッチング後に導電膜層4が消滅するようなダミーレジストパターン1を配線パターン12の粗な部分に追加形成しておき、前記ダミーレジストパターン1が形成された部分の導電膜層2をエッチング時に消滅させる。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、高周波信号の伝送や処理に適する回路基板や高密度な回路基板の製造に適用できるものであり、特に幅の狭い回路であっても基材からの剥離を顕著に抑制することができる回路基板の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】
本発明に係る回路基板の製造方法は、フッ素樹脂を含む接着シートを介して基材の片面または両面に金属層を形成する工程、金属層をエッチングすることにより回路パターンを形成する工程、および回路パターンを形成した後、熱圧着処理により回路パターンを再接着する工程を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 大電流に対応できると共に、軽量化及び高放熱性を実現できるプリント配線板、及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 電子部品などを実装するための回路パターン2(アルミニウムパターン11A、12A、銅パターン17A)が導体に形成されるプリント配線板10であって、導体としてのアルミニウム板11、12が、絶縁機能を含む接着剤であるプリプレグ13にて相互に接着されて積層され、このアルミニウム板の表面にアルミニウム表面処理が施されて、亜鉛置換皮膜、ニッケルメッキ皮膜及び銅メッキ皮膜の積層皮膜6が形成され、この銅メッキ皮膜上に前処理及び化学銅メッキを経て電気銅メッキ皮膜17、スルーホールメッキ20が形成され、この電気銅メッキ皮膜17、上記積層皮膜6及び上記アルミニウム板11、12に前記回路パターン2が形成されたものである。 (もっと読む)


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