【課題】既存の設備を利用してフープ内を清浄化し、ウエハの汚染を防止して歩留まり率を向上させることができる基板収納方法を提供する。
【解決手段】基板処理システム１０は、ウエハＷにＲＩＥ処理を施すプロセスシップ１１と、ウエハＷを収納するフープ１４ａ〜１４ｃと、プロセスシップ１１とフープ１４ａ〜１４ｃとを連結するローダーモジュール１３及びローダーモジュール１３内に設けられた搬送アーム機構１９と、ローダーモジュール１３内にダウンフローを形成して異物を底部から排出するＦＦＵ３４と、ローダーモジュール１３とフープ１４ａ〜１４ｃとの連結部に設けられた開閉扉とを有する。基板処理システム１０のフープ１４ｂにウエハＷを収納する際、搬送アーム機構１９によってウエハＷをフープ１４ｂ内に搬入し、その後、所定の遅延時間が経過するまで開閉扉を開放状態のまま保持する。 （もっと読む）

【課題】容器本体の開口部を蓋体により閉じる際の押し付け力を低減したり、蓋体の変形を抑制することができ、しかも、基板の位置ずれやガタツキを防ぐことのできる基板収納容器及びその蓋体取り付け方法を提供する。
【解決手段】半導体ウェーハＷを収納する容器本体１の開口した正面部３を蓋体１０により開閉する収納容器であり、蓋体１０に支持されて容器本体１の半導体ウェーハＷに対して進退動可能なフロントリテーナ３０と、蓋体１０に内蔵され、外部からの操作に基づき駆動してフロントリテーナ３０を後退位置から半導体ウェーハＷ方向の進出位置に進出させ、このフロントリテーナ３０に半導体ウェーハＷの前部周縁を保持させる駆動機構４０とを備える。容器本体１の正面部３に蓋体１０を嵌合する際、半導体ウェーハＷの前部周縁とフロントリテーナ３０が接触しないので、嵌合時の蓋体１０に半導体ウェーハＷの反発力が作用することがない。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク基板などの基板を収容して搬送または保管する際に用いられる基板ケースにおいて、ケース本体内に収容された基板の脱ガスによる汚染を低減する。
【解決手段】基板ケース１は、樹脂製の板材５１〜５５を接着剤で接合した一方のケース片５に対して、樹脂製の板材６１〜６５を接着剤で接合した他方のケース片６が着脱自在に取り付けられたケース本体２を有している。ケース本体２内には、基板収容空間３が形成されている。ケース本体２には、接着剤から発生する脱ガスをケース本体２の外部へ排出する排気孔７が設けられている。これにより、接着剤から発生する脱ガスを排気孔７からケース本体２の外部へ排出して除去することができる。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクケースの支持体によって付着するパーティクルは洗浄後も残留しやすい傾向があり、傷については洗浄しても除去することは不可能であるため、フォトマスクの表裏面とフォトマスクケースの支持体が接触しないようなフォトマスクケースを提供すること。
【解決手段】フォトマスクを保持するためのフォトマスクケースにおいて、フォトマスクの周囲を覆う外装容器に支持棒挿入穴を有し、その支持棒挿入穴から挿入された支持棒によりフォトマスクの側面を保持し、その支持棒がフォトマスクの側面部と接する側の先端部に弾性を有する支持体を設けていることを特徴とするフォトマスクケースとする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、大型ペリクル用の収納容器において、特に真空成形を用いて製造した容器であっても、洗浄性を損なわずに剛性を向上させることのできる大型ペリクル収納容器及びその製造方法を提供することを可能にすることを目的としている。
【解決手段】 ペリクル１を収納して保管、搬送するために用いられる大型ペリクル収納容器であって、ペリクル１を収納する樹脂材料からなるトレイ２と、該トレイ２を被覆する樹脂材料からなる蓋３とからなり、該トレイ２または蓋３の少なくとも一方の外面側に、当該外表面の凹凸部をなくすように補強板４を取り付けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】収納効率に優れ、しかも、搬送時の振動等でウェーハの周縁部等が損傷するおそれを排除することのできる保持治具の搬送容器を提供する。
【解決手段】テストウェーハＷ用の保持治具１を支持する容器本体１０の表面に蓋体２０を着脱自在に嵌合する保持治具１の搬送容器であって、容器本体１０を、断面略溝形の本体部１１と、本体部１１に凹み形成されて周壁上端部に保持治具１の周縁部を支持する中空の錐台部１３と、本体部１１と錐台部１３の周壁端部との間に形成されて保持治具１の周縁部を規制する複数のストッパ部１８とから形成する。また、蓋体２０を、容器本体１０の本体部１１表面に重なる断面略溝形の本体蓋部２１と、この本体蓋部２１に凹み形成されて容器本体１０の錐台部１３とストッパ部１８とを覆う中空の錐台ドーム部２３とから形成する。 （もっと読む）

【課題】支持フレームのフレームから保持層が剥がれ落ちるのを抑制し、ウェーハの効率的な収納が期待できるウェーハの輸送容器を提供する。
【解決手段】フレーム２の中空４にテストウェーハＷを保持層５を介し収容した支持フレーム１用の収納容器本体１０と、収納容器本体１０に嵌合されて支持フレーム１を被覆する蓋体２０とを備え、収納容器本体１０を、支持フレーム１のフレーム２と保持層５の周縁部を搭載する搭載板１１と、搭載板１１に形成されて保持層５に空隙を介して対向する中空のすり鉢部１２と、搭載板１１に形成されてフレーム２を囲む複数の規制壁１３とから形成する。また、蓋体２０を、搭載板１１に嵌合される嵌合板２１と、嵌合板２１に形成されてテストウェーハＷに空隙を介して対向する中空の山部２２と、嵌合板２１と山部２２の間に介在されて支持フレーム１と収納容器本体１０の規制壁１３を被覆する被覆カバー２３とから形成する。 （もっと読む）

【課題】ウエハ移動用無塵ケースの搬送方法とそのシステムを提供する。
【解決手段】検知システムは高架プラットフォーム上にウエハ移動用無塵ケースが有るか否かを検知すると共に、複数個の第１信号を形成して監視システムに送信し、前記監視システムは前記第１信号を判読して、そのうちの１つの搬送システムにウエハ移動用無塵ケースを空の高架プラットフォーム上に搬送するよう命令し、前記検知システムが高架プラットフォーム上にウエハ移動用無塵ケースが有るか否かを再度検知すると共に、複数個の第２信号を形成して前記監視システムに送信し、前記監視システムは前記第２信号を判読して、別の搬送システムにウエハ移動用無塵ケースを高架プラットフォームから搬送する様命令する。こうするとウエハ移動用無塵ケースの搬送速度を上げるのが比較的容易で、しかも製造コストを低減もする。 （もっと読む）

【課題】半導体基板を移送する基板移送装置及びその基板移送方法を提供する。
【解決手段】基板移送装置は、メーン積載部と、バッファ積載部と、分配ユニットとを含む。メーン積載部は、工程モジュールの前方に設置され、各々複数の基板を収容可能な収容容器を複数個積載でき、積載された収容容器と工程モジュール間での基板の移送が行われるように構成され、バッファ積載部は、収容容器を複数個積載でき、分配ユニットは、メーン積載部の上方に位置し、メーン積載部とバッファ積載部間で収容容器を移送する。このように、本願の基板移送装置は、メーン積載部に加えて、収容容器を積載できるバッファ積載部を具備し、メーン積載部とバッファ積載部間での収容容器の移送は分配ユニットを通じて行われるので、基板の移送に必要な時間を短縮し、生産性を向上できる。 （もっと読む）

【課題】輸送サイズの限界を超えても輸送することが可能なチャンバ、及びそのチャンバを用いた処理装置を提供する。
【解決手段】少なくとも一つの側面２ｂ、２ｃを開放した直方体状の本体２と、本体２の開放された側面２ｂ、２ｃに着脱自在に取り付けられた側板３ａ、３ｂとを具備し、本体２は角筒形状を有し、該角筒の端部が側面２ｂ、２ｃに対応する。また、本体２は、開閉自在の上蓋８を有する。また、側板３ａ、３ｂは本体２内部に向かって窪みを持つ箱形の部材である。 （もっと読む）

【課題】 マスク移載容器の遮蔽式入出気構造を提供する。
【解決手段】 移載容器は相対蓋合する底台とハウジングを含み、底台頂面には２個のサポート部品と１個の接触支持部品により組成する「コの字型」サポート体を設置しフォトマスクを支え、入出気構造は底台上に少なくとも２個の選択的に気密作用を生じる入出気部品を設置し、入出気部品は中空の底台範囲内に設置し、移載容器置は装置上に設置する開閉部品により移載容器の２個の入出気部品を選択的に開閉し、移載容器内部にクリーンな気体を注入し、移載容器内部の気体を導出し、これにより気体は該移載容器内部で循環流動状態を形成し、移載容器内部環境の清浄度を長期間維持可能で、同時に入出気構造はサポート部品下方に設置するため、気流がフォトマスク表面に直接衝撃を与え、フォトマスク表面に損傷を加える現象を回避可能である。 （もっと読む）

【課題】蓋の天面部に加わる外力により内部が減圧状態になることを防止できるペリクル収納容器を提供すること。
【解決手段】面積１０００ｃｍ^２以上の大型ペリクルを収納するための、少なくとも蓋と、該ペリクルを載置するペリクル載置台とから構成されるペリクル収納容器において、前記蓋の開封作業時に蓋の変形を防止する変形防止手段を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】工場の設置スペースを削減可能な薄膜太陽電池製造システムを提供する。
【解決手段】薄膜太陽電池製造システムは、第１共通基板保管ラック４０−１と第２共通基板保管ラック４０−２と複数の処理装置１〜１６−２とを具備する。第１共通基板保管ラック４０−１と第２共通基板保管ラック４０−２は、基板を傾けて保管する。複数の処理装置１〜１６−２は、薄膜太陽電池の製造工程で基板の処理に使用され、第１共通基板保管ラック４０−１と第２共通基板保管ラック４０−２との間の領域に、基板の搬出部及び搬入部のいずれか一方が第１共通基板保管ラック４０−１に面し、他方が第２共通基板保管ラック４０−２に面するように配置されている。第１共通基板保管ラック４０−１及び第２共通基板保管ラック４０−２は、複数の処理装置１〜１６−２に共用される。 （もっと読む）

【課題】外部のガス導入装置などによる加圧手段に頼ることなく、簡便な構造で収納空間を外部環境よりも高い圧力に維持することが可能な収納容器を提供することを目的とする。
【解決手段】収納部を収納する収納空間に、容積が可変なポンプ空間を前記収納空間に対して気密に連結して形成した。前記ポンプ空間の内容積を変化させるために移動可能な作用部を有する。たとえば、作用部には伸縮自在のベローズや弾性体を用いる。さらに、ポンプ空間は収納空間と一体とすることも可能である。 （もっと読む）

【課題】装置の処理終了時間に合わせ、処理終了したロットを回収する搬送台車と、次に処理をするロットを投入する搬送台車を順番通り連続で装置に到着させ、ロス無くロットの回収と次ロットの投入を行う。これにより、リードタイムの短縮と装置の稼動率を向上させることができる搬送システムを提供する。
【解決手段】生産装置３での処理終了前のイベントを取得し、生産装置３の処理終了時刻を予測する装置制御工程と、次に処理すべき最適なロット６を選択する製品引当て工程と、生産装置３での処理終了時刻に合わせたロット６の回収指示と次に処理するロット６の投入指示を同時に出す生産進捗管理工程と、搬送実績時間を利用し、装置の処理終了時刻に搬送台車５を到着させる制御をする搬送制御工程と、複数の搬送台車５に対し到着順番を指定し、連続で走行する指示及び分割する指示を出す搬送台車制御工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】ウェーハに傷をつけず、パーティクル付着を防いだ搬送方法、搬送装置を提供する。
【解決手段】半導体ウェーハの各加工工程において、工程間を半導体ウェーハを鉛直に立てて転動させることにより搬送する。したがって、搬送過程においてはウェーハの自重によるたわみなどを生じることがなく、このたわみに起因したウェーハのワレ、欠けの発生を防止することができる。また、鉛直に保持して搬送することでパーティクルの付着を防止することができる。搬送経路には流体を供給する。供給した流体により搬送中に洗浄などを行う。 （もっと読む）

【課題】 基板収納容器に基板を保管中にイオンや塩化メチレンのような発生ガスによって基板が汚染される恐れがない基板収納容器とその製造方法を提供する。
【解決手段】 基板収納容器の表面に、ドーパントを含む酸化重合剤溶液とモノマー溶液とを用いてドーパント存在下にモノマーを重合させた電子共役系ポリマー層が形成されており、前記基板収納容器の表面固有抵抗値が１×１０³〜９×１０⁸Ωの範囲であることを特徴とする。
また、前記基板収納容器を密封し、２３℃×２４時間放置したときに、基板収納容器の内部に発生する塩化メチレン量が、前記基板収納容器を放置した環境から発生する塩化メチレン量と同じかそれよりも少ないものであることが好ましい。
さらに、基板収納容器の全光線透過率を４０〜８０％であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、大型ペリクル用の収納容器において、特に真空成形を用いて製造した容器であっても、洗浄性を損なわずに剛性を向上させることのできる大型ペリクル収納容器を提供することを可能にすることを目的としている。
【解決手段】 ペリクル１を収納して保管、搬送するために用いられる大型ペリクル収納容器であって、ペリクル１を収納するトレイ２と、該トレイ２を被覆する蓋３とからなり、該トレイ２または蓋３の少なくとも平面部は二重構造であって、２枚のトレイ２ａ，２ｂの間にハニカム構造42を設けて構成したことを特徴とする。
【選択図】 図５
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【課題】フロア間における搬送効率を向上させると共に、レイアウトの自由度を高める。
【解決手段】１階及び２階の２つのフロア間で昇降可能な搬送ケージ３４、４４をそれぞれ有する第１及び第２リフタ装置３０、４０を備えている。第１及び第２リフタ装置３０、４０は、第１収容領域３４ａ、４４ａ及び第２収容領域３４ｂ、４４ｂをそれぞれ有している。第１及び第２収容領域３４ａ、４４ａ、３４ｂ、４４ｂは、いずれも１つのキャリア２を収容可能な領域である。また、各フロアには、該フロアに設置された第１ストッカ３又は第２ストッカ４の搬入ポート３ａ又は４ａ、搬出ポート３ｂ又は４ｂと、搬送ケージ３４、４４の第１収容領域３４ａ、４４ａ及び第２収容領域３４ｂ、４４ｂとの間でキャリア２の移載を行うローダ２０がそれぞれ設けられている。 （もっと読む）

【解決手段】フォトマスク用合成石英ガラス基板を収容、保管するプラスチック製保管ケースであって、この保管ケースに収容されるガラス基板の表面又は表面及び裏面と対向する保管ケース内面に、保管ケースから発生するアウトガス成分の吸収剤を保持する吸収剤保持部材を取り付けてなり、この保持部材に保持される吸収剤の総量（ｇ）とこの吸収剤のＢＥＴ比表面積（ｍ²／ｇ）との積Ａ（ｍ²）と、保持部材が取り付けられた保管ケースの内面に対向するガラス基板の表面又は表面及び裏面の合計面積Ｂ（ｃｍ²）との比（Ａ／Ｂ）が１．０〜１２０ｍ²／ｃｍ²であるフォトマスク用合成石英ガラス基板保管ケース。
【効果】本発明によれば、ガラス基板を長期保存しても、基板表面への化学吸着が進みにくく、これによりガラス基板にＣｒ膜等を成膜する際の成膜ムラを抑制でき、生産性の向上及び歩留まり向上につながる。 （もっと読む）