【課題】使用環境に応じて，収納された基板に異物が付着することを効果的に防止する。
【解決手段】基板収納装置１００内に外気を取り込む給気部１１０と，給気部に対向して配置された排気部１２０と，給気部と排気部との間に設けられ，これらの間を連通する連通孔１４２を有する基板載置板１４０と，給気部に設けられた給気フィルタ１１２と，給気部又は排気部に設けられたファン１２２とを備え，基板収納装置１００内の状態を検出する状態センサと，パーティクル帯電装置と，温調装置とのいずれか又は２つ以上の組合せを装着孔１５０に着脱自在に設けた。 （もっと読む）

【課題】簡素な構成で基板や容器に付着している汚染物質及び容器内に存在する汚染物質を取り除くことができるだけでなく、二次的に発生する汚染物質が基板や容器に付着することを抑制することができる可搬容器を提供する。
【解決手段】基板１の容器であって、容器内を区画するための隔壁５を備え、前記隔壁５には前記基板１を収納する区画Ｋ１とその他の区画とを連通する孔５ａ，５ｂが設けられており、前記その他の区画Ｋ２には前記基板１を収納する区画に存在する汚染物質を取り除くための除去手段６を備えた。 （もっと読む）

【課題】レチクルとの接触箇所に弾性を有する複数の支持材を配置したレチクルポッドを提供すること。
【解決手段】上部蓋体、下部蓋体、及び、複数の下部蓋体の四隅に配置された支持部品からなり、支持部品は、垂直方法により一体的に相互連結し、且つ、両端にそれぞれ留め具が配置される座体と、それぞれ座体に配置され、各弾性部材が座体の縦方向から１つの段部を延伸した後、更に座体の内側横方向に沿ってもう１つの段部を延伸する１対の弾性部材と、それぞれ弾性部材の横方向延伸段部と連結した後、更に縦方向に凸起部を延伸して、凸起部の座体内側にある側面に第１傾斜面と第２傾斜面を形成する１対のガイド部材、及び、その第１端と第２端がそれぞれガイド部材の第２傾斜面と連結して、その第３端箇所に支持柱が配置される支持底板とを含む。 （もっと読む）

【課題】チップ管付きプラズマディスプレイパネル等の突起を有する板状体を安定した姿勢で収容することができ、かつ、板状体の周縁が他の部材と接触するのを効果的に回避することができ、さらに、板状体が搬送中の振動で面方向に移動するのを阻止することができる板状体搬送容器を得る。
【解決手段】突起を有する板状体のための搬送容器２０は、突起を有する形態の板状体を収容するものであり、収容凹部２３の１つの隅部であってチップ管付きプラズマディスプレイパネルを収容したときに突起が位置する隅部には貫通孔２５が形成されている。４周の側壁２２に沿って収容したチップ管付きプラズマディスプレイパネルが接触しない凹部２６ａ，２６ｂが形成されている。さらに、収容凹部２３の４つの隅部には収容したチップ管付きプラズマディスプレイパネルの隅部を側方から支持する入り隅状の隅部支持壁２４ａ〜２４ｄが形成されている。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内でガラス基板が割れたときにガラス破片を速やかに回収することができる基板処理方法を提供すること。
【解決手段】
本発明の基板処理方法は、チャンバ内に配置されたガラス基板に表面処理を施す基板処理方法であって、上方が開口された凹状の基板保持ケース２０にガラス基板１０を収容した状態でチャンバ内に搬送し、かつ、該基板保持ケース２０に収容した状態でガラス基板１０に表面処理を施すことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】マスクブランク、転写マスクなどの膜付きガラス基板の外周端面が挿入保持される基板収納容器の溝の断面形状を改良して、基板表面に形成されている膜が溝側面に干渉して剥離するなどの弊害が発生しないようにすること。
【解決手段】容器本体と容器蓋とから成る収納容器の容器本体の左右および底にはマスクブランク１０の左右および下側の外周端面１１ｂが収納保持されている保持溝４３、４５が形成されており、保持溝４３（４５）は、溝底面４３ａ（４５ａ）と溝側面４３ｂ、４３ｃ（４５ｂ、４５ｃ）の入り隅の角度θａを適切に設定することにより、当該溝側面がマスクブランク１０の遮光膜およびレジスト膜の端１４に干渉しないようにしてある。 （もっと読む）

【課題】ケース内に収納された大型ガラス基板の清浄性を確保しつつ基板の損傷無く保管および輸送する手法を提供すること。
【解決手段】本発明では、ガラス基板搬送用ケース（１０）の４辺の各周辺部のうちの対向する２辺の周辺部の中央部のそれぞれに、ガラス基板（１１）を収容した状態のケースを水平面に対して傾斜可能とするための旋回治具（１８ａ、１８ｂ）を設け、この旋回治具（１８ａ、１８ｂ）を搬送用台車３０の枠体３１の柱部の頂部に設けられた治具（３２）で支持し、所定の角度範囲での傾斜を可能とした。これにより、高さおよび幅方向どちらも制限された通路でもケース（１０）を傾斜させて搬送することが可能となり、ケース（１０）内に収納された大型ガラス基板（１１）の清浄性を確保しつつ基板の損傷無く保管および輸送することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】レチクルを保護する保護部材を設けた場合でも、レチクルを搬送して露光装置の取り付ける場合に、適当な位置に取り付け可能なレチクル搬送装置を提供する。
【解決手段】位置測定装置２９はレチクル１の下面に形成された位置測定用マーク２６の位置を測定し、これによりレチクル１の位置を測定する。位置測定装置３０は、下蓋２ｂの下面に形成された位置測定用マーク２７の位置を測定し、これにより下蓋２ｂの位置を測定する。レチクル１の位置と下蓋２ｂの位置が分かれば、レチクル１と下蓋２ｂの相対的な位置ずれが分かる。よって、搬送装置によりレチクル１を搭載した下蓋２ｂを搬送して露光装置にセットするとき、このずれを勘案して下蓋２ｂの停止位置を決定することにより、レチクル１を正しく露光装置にセットできる。 （もっと読む）

【課題】基板の表面およびエッジ部分を汚染することなく、且つ、基板を容易に容器に着脱させることを可能にした基板収納容器およびそれを搬送するための搬送容器を提供する。
【解決手段】本発明の基板収納容器５０は、周縁部同士を対向配置することによって中空部１３を形成することができる一対のプレート体１を備え、下側プレート体１１には収納する基板の片面におけるエッジ部分よりも内側において貼着して当該基板を支持固定する台座１４であって、下側プレート体１１の下側周縁部１１ａよりも、対向配置させた上側プレート体１２に向けて突出している台座１４を有している。これにより、基板のエッジ部分と下側周縁部１１ａとの間に比較的広い隙間を形成することができ、治具を挿入することによって、容易に、且つ基板のエッジ部分を汚染することなく、基板を台座１４から取り外すことができる。 （もっと読む）

【課題】発塵が抑制されるウエハキャリアを提供する。
【解決手段】ウエハキャリア１０は、半導体ウエハが載置される下部ユニット３０と、下部ユニット３０が着脱可能であり、取り付けられた下部ユニット３０との間に半導体ウエハ２００を収容する密閉空間を形成する上部ユニット２０を備えている。下部ユニット３０には、載置された半導体ウエハ２００の外周縁に当接する位置決め部材４０が、周方向に沿って複数設けられている。各々の位置決め部材４０は、例えば一軸回りに回転可能なローラ部材であって、回転可能に支持されている。 （もっと読む）

【課題】軟Ｘ線領域等の短波長を使用して形成される、より集積度の高い新世代の半導体回路の製造工程で使用されるマスクの運搬時及び保管時において、マスク表面に貼り付けるペリクル膜の使用を不要にすると共に、塵、埃、静電気、及びガスの発生を防止すること。
【解決手段】本発明のマスクケースは、マスク１０を収容する内ケース上部１及び内ケース下部２と、この内ケースを運搬中に振動を防止するための上緩衝材３，下緩衝材４と、全体を収納する出荷ケース上部５及び出荷ケース下部６と、を備えて構成する。内ケース上部１の左右両端には、内ケース下部２を係合するための留め具（クリップ）１１を取り付ける。内ケース下部２の上面周辺部には、マスク１０の下面周辺部と係合するパッキン２１を取り付ける。内ケース上部１の平板部には、該平板部を貫通するガス抜き穴１２を設ける。ガス抜き穴１２の下部には、ガスを吸着できる吸着膜を貼り付ける。 （もっと読む）

【課題】処理済みウエハを効率よく冷却し、高スループット化と省スペース化の相反する条件の両立を実現できる半導体製造装置及び半導体製造方法を提供する。
【解決手段】複数の基板を処理する処理室と、前記複数の基板を前記処理室へ搬入し、前記複数の基板を保持する基板保持具と、を有し、前記基板保持具は、処理後の複数の基板と、前記処理後の複数の基板の間に処理前の複数の基板とが載置される保持部を有する。 （もっと読む）

【課題】基板保持具の姿勢を検知することで、該基板保持具の傾きを起因とした該基板保持具と基板の破損を未然に防ぐ基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板を処理する処理室と、該処理室で基板を保持する基板保持具１４と、該基板保持具を載置する載置部と、該載置部に対して相対回転可能に設けられ相対回転により前記基板保持具を係合解除可能なロック部材と、該ロック部材と前記載置部とを相対回転させる回転部と、該回転部の回転動作を検出する検出部とを具備する。 （もっと読む）

【課題】、組み立ての自由度が高く、メンテナンス作業等の容易化を図ることができる搬送室を提供すること。
【解決手段】少なくとも処理室が接続される複数の側壁を有する筐体５１と、筐体５１の上部開口を塞ぐ蓋部材５２とを具備し、蓋部材５２は、筐体５１内の搬送装置をメンテナンスするための開口７３が設けられた固定蓋７１と、固定蓋７１の開口７３を開閉可能に設けられた開閉蓋７２とを有し、開閉蓋７２は、上面が平坦であるとともに、内部に空間７７を有し、空間７７内に、筐体５１内部の検出動作を行うセンサー８０が取り付けられてユニット化されている。 （もっと読む）

【課題】ＦＯＵＰの蓋部を開けることなくＦＯＵＰ内のウェーハに対するマッピング処理を適切に行うことができるとともに、構造の簡素化及び不要なコストアップ抑制を図ることが可能なマッピング機構を提供する。
【解決手段】高さ方向へ複数段に亘ってウェーハＷを載置し得るウェーハ載置部と開閉可能な蓋部１２とを有するＦＯＵＰ１に対してマッピングを行うマッピング機構Ｍを、ロードポートに設けた投光部２４１及び受光部２４２と、投光部２４１と受光部２４２との間においてＦＯＵＰ１におけるウェーハ載置部の各段部に載置されたウェーハＷの少なくとも一部を横切り得る光路Ｌ上に設けられ光を透過させる窓部１２Ｂ、１２Ｃとから構成した。 （もっと読む）

【課題】ＦＯＵＰの蓋部を開けることなくＦＯＵＰ内のウェーハに対する検出処理を適切に行うことができるとともに、ウェーハの損傷を防止しつつ構造の簡素化を図ることが可能なウェーハ検出機構を提供する。
【解決手段】開閉可能な蓋部１２を有するＦＯＵＰ１の内部に高さ方向へ複数段に亘って収容したウェーハＷに対して検出を行うウェーハ検出機構Ｘを、蓋部１２に設けた各ウェーハＷのエッジを保持し得るリテーナ１２Ｂと、リテーナ１２Ｂの弾性変形又は移動を検出することでウェーハＷの少なくとも有無を検出する検出部Ｓとによって構成した。 （もっと読む）

【課題】振動や衝撃で保持片や保持溝が回転するのを抑制し、保持溝から基板が外れて磨耗、汚染、破損するおそれを排除できる基板収納容器を提供する。
【解決手段】複数枚の半導体ウェーハ１を整列収納する容器本体と、この容器本体の開口した正面部を着脱自在に開閉する蓋体とを備え、この蓋体の半導体ウェーハ１に対向する対向内面に、複数枚の半導体ウェーハ１を保持する基板保持具３０を装着する。また、基板保持具３０を、蓋体の半導体ウェーハ１に対向する対向内面方向から半導体ウェーハ１に接近する第一、第二の保持片３４Ａ・３４Ｂと、この第一、第二の保持片３４Ａ・３４Ｂにそれぞれ形成されて半導体ウェーハ１の周縁部２前方を保持する保持溝３６とから構成し、各保持溝３６の半導体ウェーハ１の周縁部２前方との接触部３９を第一、第二の保持片３４Ａ・３４Ｂの肉厚Ｔの範囲内に位置させる。 （もっと読む）

【課題】スループットや熱応答性の低下を防止しつつ、低温で熱処理を施す。
【解決手段】複数枚のウエハ１を一括して処理する処理室内に複数枚のウエハ１を保持して搬入するボート５０に、ウエハ１を１枚ずつ保持するヒータプレート６０を複数枚設け、各ヒータプレート６０はウエハ１よりも大径の円盤形状に形成する。ヒータプレート６０には第一発熱線６１および第二発熱線６２を設け、第一発熱線６１および第二発熱線６２は炭化シリコン、ポリシリコン、石英等で形成したカバー６３で被覆する。第一発熱線６１および第二発熱線６２は抵抗発熱体で直径１０ｍｍ以下の線形状に形成し、電力制御装置６５をそれぞれ設ける。各ヒータプレート６０上に各ウエハ１を一枚ずつ載置して、ウエハ１を熱伝導によって加熱することで、熱応答やスループットを高める。 （もっと読む）

【課題】位置を確定する作業中に塵などがフォトマスクに付着すること及び運搬中にガタツキが発生することを抑制することができるフォトマスクケースを提供する。
【解決手段】
収納するフォトマスクの上下方向一方側に当接する当接部と、該フォトマスクの左右方向及び上下方向での位置を確定するための保持手段とを備えたケース本体と、該フォトマスクを厚み方向でケース本体側に押し付けて固定するための蓋体とを備え、保持手段が、フォトマスクの左右方向及び上下方向での位置の確定を行う左右方向保持手段８及び上下方向保持手段１１を備え、左右方向保持手段８の操作部８Ｃ及び左右方向保持手段１１の操作部１１Ｃをフォトマスクの左右両端から外れた外側の位置に配置した。 （もっと読む）

【課題】 ロードポート装置にセットする向きが制限されないクリーンボックスを実現する。
【解決手段】 クリーンボックスは、第１ユニットと、第１ユニットに対して着脱可能な第２ユニットを備えている。第２ユニットには、半導体ウエハを支持するウエハ支持部が設けられている。第１ユニットから第２ユニットが取り外された状態で、第２ユニットのウエハ支持部には、半導体ウエハを特定の方向から出し入れ可能となる。第１ユニットに第２ユニットが取り付けられた状態では、第１ユニットと第２ユニットが、ウエハ支持部に支持された半導体ウエハを収容する密閉空間を形成するとともに、相対回転可能であることを特徴とする。 （もっと読む）