【課題】道具を用いること無く、容器から半導体ウェハを取り出すことができる半導体ウェハ容器を提供するものである。
【解決手段】本発明の半導体ウェハ容器は、容器本体１と、その容器本体１に着脱自在に取付けられる蓋２とで構成され、内部に１枚の半導体ウェハ３を収納する収納部７を有するものであり、容器本体１と蓋２が、半導体ウェハ３の平面と水平な方向に二分割される構造である。 （もっと読む）

【課題】イオウガスの発生でウエハが汚染されることなく、射出成形の加工が良好に行われて品質の良いウエハ収納容器内に設ける部材を提供する。
【解決手段】ウエハ３を収納する容器２内に設ける部材１であって、この容器内に設ける部材１は、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）樹脂を射出成形することにより形成される。このＰＢＴ樹脂は、重量平均分子量（Ｍｗ）が１５０００〜２００００であり、ＰＢＴ樹脂中に添加されるイオウ系二次酸化防止剤中のイオウの重量が、ＰＢＴ樹脂の重量に対して０．１％以下となるように、射出成形でウエハ収納容器内に設ける部材１を形成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ペリクル収納後の収納容器全体の重量増加を極力抑制しながら、輸送時のゆれによる振動に対しても、振動を抑制し得るペリクルの収納方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明に係るペリクルの収納方法は、ペリクル枠体２にペリクル膜３が展張されてなるペリクル１を、少なくともトレイ５と蓋４とからなるペリクル収納容器６に収納する方法であって、前記ペリクル１が、前記トレイ５に少なくとも２箇所以上で固定された固定式ペリクル保持部品Ｂに着脱可能な可動式ペリクル保持部品Ａを介して保持・固定されて収納されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】マスクが空中浮遊粒子によって汚染することから保護するシステムおよび方法が用いられる。
【解決手段】これらのシステムおよび方法は、２部分カバー内に固定されるレチクルを提供する工程を包含する。２部分カバーは、レチクルを汚染から保護するために用いられる除去可能な保護デバイスを備える。カバーは、ポッドまたはボックスの内側で保持され得る。ポッドまたはボックスは、カバーをリソグラフィシステムを通って大気セクションから真空セクションに移送するために用いられ得る。真空セクションにある間、除去可能なカバーが露光プロセス中に移動され得る。この露光プロセス中に、レチクル上のパターンがウェハ上に形成され得る。 （もっと読む）

本発明は、製造設備においてワークピースを保管するための改善されたストッカに関する。ワークピースがロボット把持アセンブリの周囲に固定的に保管されている。３つの自由度を有するようにロボットハンドラが設計されている。ストッカには周端グリップロボット把持アセンブリが設けられており、このロボット把持アセンブリはワークピースにアクセスし、周端部からワークピースを取り出し、したがって密にワークピースを保管することができる。
（もっと読む）

【課題】 本発明は、保管、輸送中の外力に耐える十分な剛性を有し、なおかつ蓋体を開ける際の急激な外気の巻き込みを抑制して、ペリクルへの異物付着を防止するペリクル収納容器を提供する。
【解決手段】 樹脂のシート材を成形してペリクル収納容器の蓋体１とし、この蓋体１の上面に蓋体の短辺と成す角度が１０°以内で、なおかつ他のリブと交差しないリブ３を設ける。各リブが他のリブにより切断されることが無いため、リブ３の上下方向（縦方向）の剛性は大きく向上し、外力による蓋体の変形ならびにペリクルの損傷が防止される。
また、リブをほぼ一方向のものだけで構成することになるため、リブと直交する方向の曲げ剛性は低くなり、これにより、蓋体は開蓋時においてごく初期の段階からしなやかに撓みを生ずる。そのため、開蓋時の初期の段階から蓋体と容器本体の内部へ空気はスムーズに流入し、急激な外気の流入が発生しないため内部のペリクルに異物が付着するおそれが大幅に低減される。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、レチクルを収納するレチクルカバー、レチクルカバーを収容するアウターケースおよび露光装置に関し、レチクルのパターン面にゴミが付着することを従来より大幅に低減することを目的とする。
【解決手段】 下カバー部材の上面に、前記上面から所定間隔を置いてレチクルのパターン面を対向載置する載置部を配置してなるレチクルカバーにおいて、前記下カバー部材の上面に、前記レチクルの前記パターン面に近接して対向する近接突部を形成してなることを特徴とする。また、前記レチクルのパターン面と前記接近突部との間隔が１０から２００マイクロ・メータの範囲内にあることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 マスクブランクス又はフォトマスク等の基板を収納するものであって、収納した基板に塵埃が付着するのを防止できる基板収納ケースを提供すること。
【解決手段】 基板収納ケース１が、ケース本体２とケース蓋体３とからなり、ケース本体２の開口縁に、ケース蓋体３と嵌合する薄肉案内縁２２が形成されている。薄肉案内縁２２に負圧緩和手段１０が設けられ、ケース蓋体３の開口部内側に、ケース本体２と異なる硬度の材質により形成された塵埃抑止手段１１を設けられている。負圧緩和手段１０は通気口である。塵埃抑止手段１１はケース本体２と異なる硬度の材質により形成された硬質テープである。 （もっと読む）

【課題】四角形状で剛性のある板状物の面方向を水平方向として、該板状物を、その上側に載せて保持するトレイで、且つ、該板状物を載せた状態で複数重ねて搬送あるいは保管に用いられるトレイ、当該トレイと支持ピンとの該板状物の受け取りの際に、板状物の裏面の損傷もしくは汚れの発生がない、板状物の受け取り方法、及び受け取り装置を提供する。
【解決手段】板状物を上側に載せて保持するトレイから、前記トレイの開口領域において、複数のピンの各ピンの上側先端が板状物の撓み状態に対応した高さに位置制御された状態で、複数のピンとトレイとを相対的に、少なくともいずれか一方を、鉛直方向に移動し、複数のピンの各ピンを前記トレイに保持された板状物に接触させて、板状物を支持させ、あるいは、近づけて、非接触にて板状物を支持させ、板状物を前記所定の撓んだ状態に維持しながら、板状物をトレイから離し、複数のピンにて受け取る。 （もっと読む）

【課題】基板へのパーティクル等の汚染粒子の付着を大幅に減少させることができ、液晶用基板のような大型の基板を処理する場合でも治具内部の基板の処理空間に結露が発生せず、治具に吸着や破損が生じず、均熱空間に収納可能な基板枚数を増大できるアニール用治具及びアニール方法を提供する。
【解決手段】本発明のアニール用治具１０Ａは、容器本体１２の上部が蓋部材１６によって閉じられたときの容器本体１２と蓋部材１６との接触部１８に、水蒸気などの処理用ガスの通過を許容し所定の粒径以上のパーティクル等の汚染粒子の通過を阻止する微細流路が形成される。容器本体１２は、処理空間１１と外部とを連通し基板１が載置部１３に載置されたときに基板１によって塞がれる連通路１４を有する。 （もっと読む）

【課題】搬送台車の停止位置補正教示工数を極限まで削減することができる被搬送物保管システムを提供する。
【解決手段】天井に敷設されたレール５２０ａ〜５２０ｆに沿ってＯＨＴ搬送台車３００がＦＯＵＰを把持して走行する。レール５２０ａ〜５２０ｆ下方に被搬送物保管棚２００が設けられる。レール５２０ａ〜５２０ｆに複数のマスターバーコードが所定の間隔で貼着される。被搬送物保管棚２００には、複数のキネマティックピンを有する位置決めプレートが複数枚配設され当該個々の位置決めプレートが所定の間隔で貼着された個々のマスターバーコードとの間で相対的に配置される。一の位置決めプレートの座標と、相対的に配置された一のマスターバーコードに基づいて停止したＯＨＴ搬送台車３００のグリッパの座標との誤差量が補正装置に記録され、制御手段が他の被搬送物保管棚またはマスターバーコードに展開する。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク基板にパーティクルが付着する危険性を低減することができるとともに、小型化を図ることの可能なマスクケースの提供を目的とする。
【解決手段】マスクケース１は、フォトマスク基板１０を支持する支持用保持手段４と、フォトマスク基板１０と線接触して位置決めする、厚さ方向位置決め用保持手段５及びサイド方向位置決め用保持手段６と、これらが設けられた基部２と、この基部２に着脱自在に取り付けられ、フォトマスク基板１０を覆う蓋部３とを備えた構成としてある。 （もっと読む）

本発明の実施形態は分離されたスリットバルブドアシールコンパートメント有するロードロックチャンバを含む。一実施形態において、ロードロックチャンバはメインアセンブリと、第１のスリットバルブドアシールコンパートメントと、シールアセンブリを含む。メインアセンブリはその中に形成された基板搬送キャビティを有する。２つの基板アクセスポートがメインアセンブリの中に形成され、流動可能に前記キャビティに結合されている。第１のスリットバルブドアシールコンパートメントは、アクセスポートのうちの１つの近傍にあり、アクセスポートのうちの１つに揃えられて配置された孔を有する。第１のスリットバルブドアシールコンパートメントはメインアセンブリから分離さている。シールアセンブリは第１のスリットバルブドアシールコンパートメントをメインアセンブリに結合する。
（もっと読む）

【課題】窒素原子を含む塩基性化合物の汚染を抑制することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】中間生成物から窒素原子を含む塩基性化合物を放出可能にする第１製造工程の後、塩基性化合物による汚染で工程性能が劣化する第２製造工程に中間生成物を密閉型搬送容器６０に収納して搬送する特定の工程間搬送経路において、密閉型搬送容器６０の内部の相対湿度を密閉型搬送容器外部の環境相対湿度より低く制御する。 （もっと読む）

【課題】レチクルの、パターンが形成された面の平面度を維持することができるように、レチクルのレチクル・ステージに取り付けられる面に、異物が付着するのを防止する、レチクル・カバーを提供する。
【解決手段】本発明によるレチクル・カバー（１０１）は、レチクル（１０３）が露光装置のレチクル・ステージに取り付けられていないときに、レチクルの、レチクル・ステージに取り付けられる面を覆う。本発明によるレチクル・カバーは、レチクルの、レチクル・ステージに取り付けられる面に対向する平面を含み、当該平面と、当該レチクル・ステージに取り付けられる面との間の間隔を、異物が進入しないように定められた値に保持することができるように構成されたことを特徴とする。 （もっと読む）

基板、特に電子部品用基板の製造における対象物様保存装置には、対象物を保存するための少なくとも一つの閉鎖された区域を形成するハウジングが備えられている。保存装置は純エア装置も有し、それによってハウジングの少なくとも一部分内に純エア雰囲気が作り出され得る。保存装置に少なくとも一つの投入／排出装置を用いることによって、対象物はハウジングの内部に入れる又は内部から取り出すことができ、その場合対象物はハウジング内部の少なくとも一つのハンドリング装置によって取り扱うことが可能となり、対象物容器がハウジング内に設けられ、その中で対象物は一時的に移送コンテナの外側で保存され得る。このような保存装置に対してできるだけ小さな配置領域を定めるために、それは高い収容能力を有しているにも関わらず本発明は少なくとも部分的に上下に配置された二つの区域が保存装置の同ハウジング内に形成され、その際第一区域は対象物保存装置に用いられ、第二区域は移送コンテナ保存装置に用いられる、ものをもたらした。
（もっと読む）

囲い部及びドアを含むフロントオープンウエハ収納容器。一対の間隔があけられた片持ちウエハ棚を含むウエハ支持システムが備えられており、各ウエハ棚は一対の対向傾斜ランプ部を含む。ランプ部は、ウエハが棚に受入れられた時に、ウエハがその下側外縁角部においてランプ上で支持されるように協働的に位置決めされると共に構成され、ウエハの他の全ての部分は、ウエハ支持システムと接触していない。各ウエハ棚は概ね凹状の上面を有してよく、またランプの傾斜は、ウエハ棚の凹状上面と連続する。
（もっと読む）

【課題】半導体ウェハを収納する半導体ウェハ容器において、蓋の開け閉めによる摩擦によって粉塵が発生しない半導体ウェハ容器を提供する。
【解決手段】 半導体ウェハ４を水平に収納する容器本体１と、その容器本体１を密閉する蓋体２を有する半導体ウェハ容器において、容器本体１または蓋体２に逆止弁機構３を設け、該逆止弁機構３を介して容器本体１内の空気を排出し、容器本体１内を負圧にして、容器本体１と蓋体２を摩擦することなく密閉固定する。 （もっと読む）

【課題】ワークを一枚ずつ収容するトレイを搬送基本手段とし、このトレイの利点を十分に利用して、要求に応じて搬送形態を変更することにより効率よく搬送できる搬送システムを提供する。
【解決手段】ポッド５を一つずつ搬送するポッド単数搬送手段１０と、ポッド５を複数段積みするポッド段積み手段５０と、段積みされたポッド５を搬送するポッド段積み搬送手段６０と、段積みされたポッドを段ばらしするポッド段ばらし手段５０とを設けた。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハ等を収納する容器等の材料である高分子材料の導電性を向上させ、容器の帯電防止や塵埃付着防止をはかること。
【解決手段】高分子材料にカーボンナノチューブ等の導電性ナノチューブを含有させる。射出成形により作製する容器において、容器を構成する高分子材料は、ゲートと容器の端までの長さLと容器の代表厚みｔとの比L/tが増加すると、あるいは、シート状製品の場合には、圧延・延伸前後のシート厚さの比t₁/t₀が減少すると、導電率が増加する傾向にある。特にL/t比が50以上、またはt₁/t₀比が0.7以下において、顕著である。この理由は、高分子材料のマトリックス中に導電性ナノチューブがその長手方向に配向するためである。本発明を用いて成形した半導体ウエハなどの容器は、帯電しないので塵埃付着などがなく、半導体の超微細加工プロセスに適用できる。 （もっと読む）