半導体ウェハ容器

【課題】半導体ウェハを収納する半導体ウェハ容器において、蓋の開け閉めによる摩擦によって粉塵が発生しない半導体ウェハ容器を提供する。
【解決手段】半導体ウェハ４を水平に収納する容器本体１と、その容器本体１を密閉する蓋体２を有する半導体ウェハ容器において、容器本体１または蓋体２に逆止弁機構３を設け、該逆止弁機構３を介して容器本体１内の空気を排出し、容器本体１内を負圧にして、容器本体１と蓋体２を摩擦することなく密閉固定する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウェハを収納する半導体ウェハ容器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体ウェハの保管、搬送の際に使用する半導体ウェハ容器は、半導体ウェハを収納する容器本体と、その容器本体を密閉する蓋とからなり、蓋は容器本体にかみ合わせにより固定される構造となっている（例えば特許文献１参照）。
【０００３】
また蓋は、容器本体にかみ合わせでない場合でも、容器本体と蓋との間に密閉性を高めるガスケットを設け、容器本体と蓋を嵌め合わせた後、留め金で固定した構造となっている（例えば特許文献２参照）。
【０００４】
【特許文献１】特開２００１−２５３４８１号公報
【特許文献２】特開２００１−３３２６１２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、容器本体と蓋をかみ合わせ又は嵌め合わせにより固定するとき、もしくは容器本体に固定された蓋を外すときに、容器本体と蓋は互いに擦れ合うため、容器本体または蓋を形成する部材の粉塵が発生し、収納している半導体ウェハにこの粉塵が付着し、半導体ウェハを汚すという問題がある。
【０００６】
そこで本発明の目的は、半導体ウェハ容器の蓋の開け閉めによって、粉塵が発生することがない半導体ウェハ容器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、請求項１は、内部に半導体ウェハを水平に保持して収納すべく開口部を有する容器本体と、該容器本体の開口部に着脱自在に取り付けられると共に開口部を密閉すべく覆うと共に容器内方向に押圧することにより撓むように可とう性部材で成形された蓋体と、該蓋体に設けられ、上記蓋体が容器本体内方向に押圧されて撓むことにより容器本体内の雰囲気を外部に排気して負圧状態に維持するための逆止弁とを備えた半導体ウェハ容器である。
【０００８】
請求項２は、内部に半導体ウェハを水平に保持して収納すべく開口部を有する容器本体と、該容器本体の開口部に着脱自在に取り付けられると共に開口部を密閉すべく覆うと共に容器内方向に押圧することにより撓むように可とう性部材で成形された蓋体と、該容器本体に設けられ、上記蓋体が容器本体内方向に押圧されて撓むことにより容器本体内の雰囲気を外部に排気して負圧状態に維持するための逆止弁とを備えた半導体ウェハ容器である。
【０００９】
請求項３は、内部に半導体ウェハを水平に保持して収納すべく開口部を有する容器本体と、該容器本体の開口部に連続して起立して設けられた筒状体と、該筒状体の径方向外方に拡張されて容器本体に一体的に形成された水平台部と、該容器本体の開口部を密閉して覆うべく着脱自在に設けられ、上記筒状体との間に所定の間隙を形成し嵌合して上記水平台部に着座する筒状体脚部を有すると共に容器本体内方向に押圧されて撓むことにより容器本体内の雰囲気を上記間隙より容器外部に排気させるための可とう性部材から成形された蓋体と、該筒状体脚部の下端部に径方向外方に延出されて上記容器本体の水平台部に着座し、排気される雰囲気の逆流を防止する吸盤状の逆止弁とを備えた半導体ウェハ容器である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、半導体ウェハ容器の開け閉め時に容器本体と蓋が互いに擦れ合うことがなく、容器本体と蓋から粉塵が発生せず、収納している半導体ウェハに粉塵が付着して半導体ウェハが汚れることを防ぐことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の好適な実施の形態を添付図面に基づいて詳述する。
【００１２】
図１〜図３（ａ）、図３（ｂ）に本発明の半導体ウェハ容器の第１の実施の形態を示す。図１は容器本体１内にウェハ４を水平に収納し、蓋体２を被せた状態の断面図であり、図２は容器本体１を蓋体２で密閉した状態を示す断面図である。また、図３（ａ）は図１の、図３（ｂ）は図２の容器本体１と蓋体２の嵌合部をそれぞれ拡大した断面図である。
【００１３】
図１、図２において、容器本体１は円盤状に形成され、内部に半導体ウェハ４を水平に保持して収納すべく開口部８ａを有し、該容器本体１の開口部８ａの外周に連続して起立する筒状体７が設けられ、さらに該筒状体７の径方向外方に拡張されて容器本体１に一体的に形成された水平台部７ａが形成されて構成される。
【００１４】
蓋体２は、容器本体１の開口部８ａに着脱自在に取り付けられると共に開口部８ａを密閉すべく覆うと共に容器本体１の内方向に押圧することにより撓むように可とう性部材で円盤状に成形される。
【００１５】
また蓋体２を構成する円盤２ａの下面には、容器本体１の筒状体７と嵌合すると共に、水平台部７ａに着座する筒状体脚部５が設けられ、容器本体１と嵌合した際には、容器本体１の開口部８ａの下方に設けられた球面状の底面１０と該蓋体２で収納室８が形成される。
【００１６】
円盤２ａは、上記蓋体２が容器本体１の内方向に押圧されて撓むことにより容器本体１内の雰囲気（収納室８内の雰囲気）を外部に排気して負圧状態に維持するための逆止弁機構３を備えている。
【００１７】
この逆止弁機構３は、気体排出穴３ａと逆止弁３ｂとからなり、蓋体２を容器本体１に被せたとき、収納室８内の雰囲気を容器外部に排出できるよう、また、容器外部から収納室８内に侵入する外気を遮断できるように構成される。また、逆止弁３ｂは、外気の遮断を適宜解除できるように構成される。
【００１８】
また、筒状体脚部５は、容器本体１の筒状体７に嵌合する筒部５ｂと、筒状体脚部５の下端部に径方向外方に延出されて水平台部７ａに着座する脚部下端部５ａとからなり、さらに脚部下端部５ａは、外周に行くに従って先端が断面先細に形成される。
【００１９】
図３（ａ）に示すように、筒状体脚部５の筒部５ｂは下方に行くに従ってやや内側に傾斜するように形成され、かつ筒部５ｂの内周は、筒状体７の外周より若干大きく形成され、また、筒部５ｂの高さｈ５は、容器本体１の筒状体７の水平台部７ａからの高さｈ７に対して若干短く形成され、また、脚部下端部５ａの底面の幅ｗ５は水平台部７ａの幅ｗ７とほぼ同等の長さに形成される。
【００２０】
次に第１の実施の形態の作用を説明する。
【００２１】
先ず容器本体１の開口部８ａを介して収納室８の底面１０に半導体ウェハ４を水平に収納し、その状態から図１に示すように開口部８ａに蓋体２を被せる。この際、脚部下端部５ａの先端は水平台部７ａに着座した状態にある。
【００２２】
次に、図２、図３（ｂ）に示すように蓋体２が容器本体１の内方向に押圧されて撓むことにより収納室８内の雰囲気を逆止弁機構３を介して容器外部に排気することで収納室８内は負圧となり、また筒状体脚部５と容器本体１の筒状体７が密着することで負圧状態が維持され、容器本体１と蓋体２は密閉される。
【００２３】
この容器本体１への蓋体２の密閉固定は、蓋体２を押し下げるだけで済むので、擦れる部分がなく、粉塵が発生することがない。従って、収納室８内の半導体ウェハ４に粉塵が付着し、半導体ウェハ４が汚れることを防ぐことができる。
【００２４】
なお、ウェハ４を取り出す際には逆止弁機構３の逆止弁３ｂを適宜解除すれば外気が逆止弁機構３を介して収納室８に侵入し、収納室８内の内圧を外気と同圧にすることで円盤２ａと脚部下端部５ａの弾性力により図１および図３（ａ）に示した状態に戻すことができ、蓋体２を取り外すことでウェハ４を取り出すことができる。このウェハ４の取り出しの際にも擦れる部分がないので、粉塵を発生することはない。
【００２５】
従って、ウェハ４を取り出す際も密閉固定時と同様に、収納室８内の半導体ウェハ４に粉塵が付着して半導体ウェハ４が汚れることを防ぐことができる。
【００２６】
次に、図４、図５に第２の実施の形態を示す。
【００２７】
第２の実施の形態では、容器本体１の底面に逆止弁機構３が設けられる以外、容器本体１と蓋体２の構成および作用は、前述した第１の実施の形態と同様である。
【００２８】
図６〜図８（ａ）、図８（ｂ）に第３の実施の形態を示す。
【００２９】
図６、図７において、容器本体１は円盤状に形成され、内部に半導体ウェハ４を水平に保持して収納すべく開口部８ａを有し、該容器本体１の開口部８ａに連続して起立して設けられた筒状体７があり、さらに該筒状体７の径方向外方に拡張されて容器本体１に一体的に形成された水平台部７ａが形成されて構成される。蓋体２は、容器本体１の開口部８ａを密閉して覆うべく着脱自在に設けられ、上記筒状体７との間に所定の間隙１２を形成し嵌合して上記水平台部７ａに着座する筒状体脚部５を有すると共に容器本体１の内方向に押圧されて撓むことにより容器本体１内の雰囲気を上記間隙１２より容器外部に排気させるための可とう性部材から円盤状に成形され、構成される。
【００３０】
筒状体脚部５は、容器本体１の筒状体７に嵌合する筒部５ｂと、筒状体脚部５の下端部に径方向外方に延出されて上記容器本体１の水平台部７ａに着座する脚部下端部５ａとからなり、さらに脚部下端部５ａは、外周に行くに従って先端が断面先細に形成される。
【００３１】
また、図３（ａ）と同様に、容器本体１と蓋体２の嵌合部の構成においては、筒状体脚部５の筒部５ｂは下方に行くに従ってやや内側に傾斜するように形成され、かつ筒部５ｂの内周は、筒状体７の外周より若干大きく形成され、また、筒部５ｂの高さｈ５は、容器本体１の筒状体７の水平台部７ａからの高さｈ７に対して若干短く形成され、また、脚部下端部５ａの底面の幅ｗ５は水平台部７ａの幅ｗ７とほぼ同等の長さに形成され、所定の間隙１２を形成する。
【００３２】
第３の実施の形態の作用を説明する。
【００３３】
先ず容器本体１の開口部８ａを介して収納室８の底面１０に半導体ウェハ４を水平に収納し、その状態から図６に示すように蓋体２を被せる。
【００３４】
次に図８（ａ）のように、脚部下端部５ａの先端を容器本体１の水平台部７ａに着座させた状態で蓋体２の中央部を押圧すると、容器本体１内の雰囲気は間隙１２を経て容器外部に押し出され排気されるが、押圧で撓むように変形させた蓋体２は、弾性力により元の形状に回復しようとするため、脚部下端部５ａは、上記嵌合部の構成により、容器本体１内から排気される雰囲気の逆流を防止する吸盤状の逆止弁として作用し、容器本体１内は図７および図８（ｂ）に示すように負圧が維持され、密閉状態になる。このとき間隙１２が容器外より負圧であれば密閉は実現され、脚部下端部５ａと水平台部７ａは全面的に密着しなくてもよい。
【００３５】
また、密閉を解除するには、水平台部７ａから脚部下端部５ａを若干持ち上げる（離す）ことで、容易に外気を容器本体１内に導入し、容器本体１内を外気圧と同等にすることができ、蓋体２を容易に取り外すことができる。
【００３６】
なお上述の本発明においては、脚部下端部５ａの形状は断面先細に形成する例で説明したが、水平台部７ａに密着できる形状であれば図示例に限らず、いかなる形状に変更してもよいことはもちろんである。
【００３７】
このように本発明においては、半導体ウェハ４を収納する半導体ウェハ容器１において、容器本体１と蓋体２が互いに擦れ合うことがなく、容器本体１と蓋体２から粉塵が発生せず、収納している半導体ウェハ４に粉塵が付着して半導体ウェハ４が汚れることを防ぐという優れた効果を発揮するものである。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】本発明の半導体ウェハ容器の第１の実施の形態を示す断面図である。
【図２】図１に示した蓋体２を密閉した断面図である。
【図３】（ａ）は図１、（ｂ）は図２の嵌合部を拡大した断面図である。
【図４】第２の実施の形態を示す断面図である。
【図５】図４に示した蓋体２を密閉した断面図である。
【図６】第３の実施の形態を示す断面図である。
【図７】図６に示した蓋体２を密閉した断面図である。
【図８】第３の実施の形態の密閉作用を段階的に示した図である。
【符号の説明】
【００３９】
１容器本体
２蓋体
３逆止弁機構
４半導体ウェハ

【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部に半導体ウェハを水平に保持して収納すべく開口部を有する容器本体と、該容器本体の開口部に着脱自在に取り付けられると共に開口部を密閉すべく覆うと共に容器内方向に押圧することにより撓むように可とう性部材で成形された蓋体と、該蓋体に設けられ、上記蓋体が容器本体内方向に押圧されて撓むことにより容器本体内の雰囲気を外部に排気して負圧状態に維持するための逆止弁とを備えた半導体ウェハ容器。
【請求項２】
内部に半導体ウェハを水平に保持して収納すべく開口部を有する容器本体と、該容器本体の開口部に着脱自在に取り付けられると共に開口部を密閉すべく覆うと共に容器内方向に押圧することにより撓むように可とう性部材で成形された蓋体と、該容器本体に設けられ、上記蓋体が容器本体内方向に押圧されて撓むことにより容器本体内の雰囲気を外部に排気して負圧状態に維持するための逆止弁とを備えた半導体ウェハ容器。
【請求項３】
内部に半導体ウェハを水平に保持して収納すべく開口部を有する容器本体と、該容器本体の開口部に連続して起立して設けられた筒状体と、該筒状体の径方向外方に拡張されて容器本体に一体的に形成された水平台部と、該容器本体の開口部を密閉して覆うべく着脱自在に設けられ、上記筒状体との間に所定の間隙を形成し嵌合して上記水平台部に着座する筒状体脚部を有すると共に容器本体内方向に押圧されて撓むことにより容器本体内の雰囲気を上記間隙より容器外部に排気させるための可とう性部材から成形された蓋体と、該筒状体脚部の下端部に径方向外方に延出されて上記容器本体の水平台部に着座し、排気される雰囲気の逆流を防止する吸盤状の逆止弁とを備えた半導体ウェハ容器。

【図１】