レチクル操作装置が、ハウジング内でクリーンルーム状態を維持する少なくとも実質的に密閉されたハウジングと、ハウジングの内外へレチクルを導入し且つ送出する入力／出力ステーションと、ハウジング内に配置されてレチクルについての所定の機能を行う少なくとも１つの機能ユニットとを備える。装置は、ハウジング内に同様に配置されてハウジング内のレチクルを操作する操作装置を有する。
（もっと読む）

【課題】パターンが形成された基板の搬送を行う基板搬送装置、基板搬送方法および基板搬送装置を備えた露光装置に関し、基板が使用されている時に、保護カバーの内面が汚染されることを容易，確実に防止する。
【解決手段】パターンが形成された基板３７の搬送を行う基板搬送装置であって、基板を使用していない時に基板を保護カバー６５により保護した状態で搬送する基板搬送装置において、基板３７が使用されている時に、保護カバーの内面を覆うカバー保護手段６７を有する。 （もっと読む）

【課題】ウェーハの運搬過程中、ウェーハが受ける衝撃力を低下させることにより、効果的にウェーハの破損率を低下させ、製造コストを下げるウェーハの骨組貯蔵ボックスを提供する。
【解決手段】本発明により提供されるウェーハの骨組貯蔵ボックスは、ウェーハを収容するものであって、収容空間２２を有する本体２１と、該収容空間２２の底面に形成され、これにより該本体２１の強度を補強する複数の突起部２３と、該収容空間２２の底面上に設置される複数の防震素子２４と、該本体２１に結合されるカバー２６とを備えてなる。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の品質劣化を防止できるガラス基板収納ケース、ガラス基板収納ケースから別のケースにガラス基板を自動で入れ替えるガラス基板入替、ガラス基板を個別に管理するガラス基板管理装置、ガラス基板を専用のガラス基板収納ケースに収納させて取引するガラス基板流通方法、気密効果を高めるシール部材及びこのシール部材を用いたシール構造を提供する。
【解決手段】レチクルＲが載置される底部材１２と、底部材１２に載置されたレチクルＲを覆うように底部材１２に合わせられ底部材１２との間に空間部を形成する蓋部材２０と、底部材１２又は／及び蓋部材２０に設けられ蓋部材２０が底部材１２に合わせられた状態で空間部を気密にするシール部材１８と、蓋部材２０に設けられ底部材１２に引っ掛けられて蓋部材２０が底部材１２に合わせられた状態を維持するフック部材２４と、を有する構成とした。 （もっと読む）

基板処理装置はチャンバと、処理モジュールの略リニアなアレイと、基板移送部と、駆動システムとを有している。該チャンバは外部雰囲気から分離されることが可能である。該アレイの各処理モジュールはチャンバに連絡自在に結合されており、よって基板がチャンバと処理モジュールとの間で移送されることを可能にする。該基板移送はチャンバ内に位置しており、移動自在にそれに支持されている。移送部はチャンバによって画定されるリニア経路に沿って移動可能であり、基板を処理モジュール群の間で移送する。駆動システムはチャンバに結合されており、移送部を駆動してリニア経路に沿って移動せしめる。チャンバは順に当接する選択可能な数量のチャンバモジュールからなり、よってチャンバを画定する。各モジュールは駆動システムの一体部分を有している。
（もっと読む）

【課題】洗浄工程における工程待ち時間を少なくし、稼働効率を向上させる。
【解決手段】洗浄液１４を貯留する洗浄槽１３と基板洗浄用カセット２４とを有し、基板洗浄用カセット２４に収容されている基板１００を基板洗浄用カセット２４と共に洗浄槽１３に浸漬して洗浄処理を行うものにおいて、基板洗浄用カセット２４が基板１００を１枚のみ収容可能であると共に、基板洗浄用カセット２４は洗浄処理を行う前の処理工程で処理される１枚毎の上記基板に同期して洗浄槽１３に浸漬される。 （もっと読む）

電子部品の製造において用いられるレチクル用検出／クリーニング装置であって、検出／クリーニング装置がクリーニングユニットを有し、その中にクリーニングチャンバーが構成されている。圧縮液体クリーニング媒体の導入用の少なくとも１つのガス供給がクリーニングチャンバーへ通じる。ガスをクリーニングチャンバーから放出する少なくとも１つの吸引手段がクリーニングチャンバーから通じる。クリーニングチャンバーはレチクルを導入し且つ取り除く少なくとも１つの第１開口部を有する。半導体製造で用いられる品物の汚染を検出する検出ユニットが設けられる。検出ユニットは検出手段を有し、その中へレチクルが検出ユニットの１つの送り側から導入され得る。クリーニングチャンバーの第１開口部と送り側は互いに反対側にある。送り装置はクリーニングユニットと検出ユニットとの間のレチクルを交換するために設けられる。
（もっと読む）

【課題】収納ケース内の基板の配置方向、及び表裏を人手を介することなく変更することで異物の基板への付着、基板端面の損傷、及び基板の粉塵の飛散を抑えることができる基板配置方向制御装置を提供すること。
【解決手段】載置部１００、アーム付き搬送部２００、方向変更部３００を具備し、アーム付き搬送部２００により載置部１００と方向変更部３００とのあいだで基板１の搬送が行われる。方向変更部３００で基板１に備えられたマークが撮像され、あらかじめ登録されているマークデータと照合されて収納ケース内における基板１の配置方向、及び表裏が認識される。認識された基板１の配置方向から登録されている所定の方向に、基板の水平回転、または／および反転を行うものである。 （もっと読む）

【課題】平坦な物品を装置へまたは装置から搬送するための機器を提供する。
【解決手段】搬送ポッド１を、耐漏洩性の方式で処理装置９の物品通過開口部１１に結合することができ、シーリングが、間に配置されたインタフェース周辺ガスケット１６によって得られる。ポッドドア４を、インタフェースドア１２に選択的に固定することができ、これらドアを、１つのユニットとして、ドアアクチュエータ１４からの駆動の下で横断ストロークが後に続く軸方向ストロークに沿ってともに動かすことができる。搬送ポッド１は、保持手段１５によって保持される。２つのドアの周りの周辺容積２１を、ポンプ２２とダクト２３によってポンプ排気することができる。ポッドドア４を、ロック手段２０によって搬送ポッド１にロックすることができ、ロック手段２０は、搬送ポッド１が処理装置９から分離している間の良好なシーリングを保障する。 （もっと読む）

【課題】 ウェハーの性能を保持すると共にウェハーケースに対するウェハーの出し入れ
の効率化を図ったウェハー搬送容器を提供する。
【解決手段】 第１，第２端壁７，９の他方の中央に支持軸１３で回動可能に一体にして
、ウェハー押さえ２４はウェハーＷを均一に押さえるようにし、第１，第２ウェハーケー
ス２Ｃ，２Ｄの相対回動時に共回りする現象、すなわちウェハーとウェハー押さえ２４と
の摩擦による異物粒子の発生、及びこれによるウェハーＷの性能劣化を抑える。 （もっと読む）

【課題】 半導体レーザ用等の薄く割れやすい半導体ウェハを、一般貨物並みの取り扱いでも運搬できる収納具を開発する。
【解決手段】 ウェハ２が配置される平坦部３ａを有する基部３と、基部３の上に配置したクッション材と、クッション材を覆い、基部３の外縁角部に密着して固定される外蓋５とを有する半導体ウェハ運搬用収納具１において、前記クッション材がガーゼ状のクリーンルーム用ワイパー等のようにクリーンな複数のクッション性シート４を重ねた構造をしており、クッション性シートの枚数の調節により、外蓋５が基部３に固定された時のウェハ２にかかる荷重をウェハ２が基部３に対して横滑りや浮き上がりが生じない程度の適切な荷重に制御する。 （もっと読む）

【課題】外部汚染から保護し、装置スループットが最適になるリソグラフィ・パターニング装置を搬送するボックスを提供する。
【解決手段】運搬ボックス２は、パターニング・デバイスを格納する格納位置を有する内部空間１０、及び、パターニング・デバイスの搬送のための開口を有するコンテナ部８を具備する。内部空間から装置へパターニング・デバイスを搬送する前に、内部空間が加圧される。ボックスはまた、開口を閉じる閉塞部、及び／又は、ボックスの内部空間から／そこへ、ガスを排気し、かつ／又は、供給するチャネル・システム１８を備え、こうしたボックス装置と協働するように構成されたリソグラフィ装置を含む。 （もっと読む）

【課題】 ポッド交換に要する時間を大幅に短縮できる半導体製造装置、ポッド搬送装置、ポッド搬送方法および半導体デバイス生産方法を提供する。
【解決手段】 ポッドＰを装填位置からポッド開放位置まで搬送する水平搬送ロボット３と、該水平搬送ロボット３により搬送されたポッドの蓋部はチャンバ１外に残して、該ポッドＰの基板支持台をチャンバ１内に分離するポッド開放用のインデクサ２と、チャンバ１内に設置され複数のレチクルを収納できるレチクルストッカ１ａと、チャンバ１内に構成され、基板支持台上のレチクルを取り出してレチクルストッカ１ａに装填する搬送ロボットとを有する。 （もっと読む）

【課題】 ウエハカセットなどのウエハ保持容器を経て搬送するウエハへの前記ウエハ保持容器でのパーティクルの付着をなくし、配線ショート等のパターン形成不良の発生を防止する。
【解決手段】 複数のウエハ処理工程間でウエハ４を保管するウエハ保管装置２０を、ウエハ４をウエハ表面４ａが上下方向に沿う向きに保持するウエハカセット１と、ウエハカセット１内に上下方向の気流を流す気流取り入れ口２３ａ，排気口２４ａなどからなる気流発生機構と、ウエハカセット１の上流部で前記気流に対してイオン化を行うイオン化機構２２とを備えた構造とする。これにより、ウエハカセット１内の雰囲気中のパーティクルや、複数枚保持されたウエハ４の内の他のウエハ４に付着していたパーティクルが、重力作用によってウエハ表面４ａに落下すること、および、ウエハ表面４ａへ静電吸着することを防止可能である。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク、フォトマスクブランクス及びガラス基板等の基板を安定した状態で保持し、複数枚入りの基板ケースからの基板の取り出しと１枚入りの基板ケースへの基板の収納が容易にできる基板把持用ハンドラーを提供することを目的とする。
【解決手段】少なくともグリップ１１と、メインアーム１２と、サブアーム１３と、基板保持部１４と、レバー１５とからなる基板把持用ハンドラーであって、前記基板保持部１４がメインアーム１２の中心軸よりサブアーム１３にて所定の距離ずらした位置に設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 保管後の化合物半導体基板を用いて製造された半導体デバイスの電気特性の悪化を抑制することができる容器、包装体、これらの製造方法、およびこれらの容器、包装体によって収納された化合物半導体基板を提供する。
【解決手段】 化合物半導体基板を収納するために用いられる容器であって、容器中の錫の含有量が１ｐｐｍ以下である容器である。また、化合物半導体基板を収納するために用いられる容器であって、容器中のシリコンの含有量が１ｐｐｍ以下である容器である。また、化合物半導体基板を収納するために用いられる包装体であって、包装体中の錫の含有量が１ｐｐｍ以下である包装体である。また、上記の容器および包装体の製造方法、ならびに上記の容器、包装体によって収納された化合物半導体基板である。 （もっと読む）

半導体装置の製造に必要な複数の処理部に対応する複数の真空槽と、各真空槽に接続された排気装置と、各真空槽の底に設けられ複数のガス噴出孔を有する板状のガイドプレートと、ガス噴出孔へガスを供給するガス供給源とを備え、複数の真空槽はシャッターを隔てて互いに隣接し、隣接する２つの真空槽の一方は、所定の処理を施すべき基板を搭載するためにガイドプレート上に載置されるトレーと、トレーを一方の真空槽から他方の真空槽へガイドプレートに沿って移動させる搬送アームを有する搬送機能部と、制御機能部とを具備し、この制御機能部が、シャッターを開放して隣接する２つの真空槽を連通し、一方および他方の真空槽のガイドプレートのガス噴出孔からガスを噴出し、噴出したガスによって浮上状態にある一方の真空槽のトレーを、搬送アームにて一方の真空槽のガイドプレート上から他方の真空槽のガイドプレート上へガイドプレートに沿って移動させるように制御することを特徴とする半導体製造装置。 （もっと読む）

ウェーハを保持するための容器は、上面、底面、１対の対向面、背面、ドアフレームにより規定される対向開口前部をもつ筐体を含む。ドアは、開口前部を閉止するため、ドアフレームにおいて封止的に係合可能である。容器はさらに、固定式ウェーハ制止手段および操作可能ウェーハ制止手段を含む筐体内ウェーハ制止手段を含む。操作可能ウェーハ制止手段は、ドアフレームに対してドアを係脱することで選択的に位置決め可能であり、ドアがドアフレームから離脱する場合、容器に対してウェーハの挿入あるいは除去を可能にするよう位置決めされ、ドアがドアフレームと係合する場合、ウェーハを容器内で制止するため、固定式ウェーハ制止手段と協動するよう位置決めされる。
（もっと読む）

ウェファボックスは、トレイ（１０）とカバー（６２）を含む。トレイ（１０）は、内側（３４、３６、３８、４０）の及び外側（２４、２６、２８、３０）の、壁の配置を含み、その間に水平な半円形の溝（４８，５０，５２，５４）を備えていて、間隔をあける、強度を高める、及び水平方向の衝撃を吸収する機能を遂行する。トレイ（１０）はさらに、内側の壁（３４、３６、３８、４０）の中に形成されたウェファキャビティ（４２）を含む。ウェファキャビティ（４２）は、垂直方向の衝撃を吸収する機能を備えるために、その床の上に隆起線の格子（４６）を含む。カバー（６２）の壁（７６、７８、８０、８２）は、トレイ（１０）の外側の壁（２４、２６、２８、３０）に係合して咬合し、それによって二重の壁の配置を形成する。台座配置（９０、９２）は、カバー（６２）上部の、コーナーと長手方向中央とに形成され、相互の積層配置を介して衝撃と振動の伝播を最小化又は除去するために、相互に積層されたボックスの間で離れた状態にする隙間を提供する。
（もっと読む）