本発明は、底面及び周縁(P)を有する少なくとも１つの加工物(W)を格納するための加工物容器(12)に関する。１つの実施形態においては、加工物支持構造体(202)は、容器包囲体(12)の中に配置され、容器包囲体(12)の中に複数の垂直方向積重ね式格納棚を形成する。１つの実施形態においては、各格納棚は、加工物を実質的に水平方向の向きに支持するための第１タイン及び第２タイン(206)を含む。格納棚上に着座する加工物(W)の底面及び周縁(P)は、第１タイン及び第２タイン(206)の両方の外縁(207)を越えて延びる。本発明によるエンドエフェクタは、加工物(W)の延長部分又は「把持区域」と係合することができる。
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【課題】レチクル１０を載置する２つのフォーク２を具備したレチクル１０を搬送するための搬送アーム１において、レチクル１０の静電破壊を簡便に検査するための搬送アーム１およびそれを具備した露光装置を提供する。
【解決手段】フォーク２の先端にフォーク２の前後および上下方向に可動に設けられた可動部材４と、可動部材４の先端にレチクル１０の表面に接触することが可能に設けられた導電性部材３と、フォーク２の内部あるいは外側を通して設けられた伸縮可能な一対の導電線とを有する通電確認手段を具備し、導電線の一端は、可動部材４の導電性部材３に導通し、導電線の他端は、通電検査手段に導通することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 設置面積を低減し、かつ基板全面の修正作業を行なうことができる修正装置を提供する。
【解決手段】 修正部３０は、基板２をＹ軸方向の直線で２等分した片方の領域に含まれる欠陥を修正することができる位置に設置される。基板２の斜線部が、修正部３０によって欠陥を修正可能な領域であり、かつ撮像部５０によって撮影可能な領域を示している。基板２をＸ軸方向に移動させる移動距離、つまりＸ軸ステージ１３の移動距離は、修正部３０と撮像部５０との距離と、Ｘ軸方向に平行な基板の辺の長さの半分の距離とを加算した距離である。すなわち、Ｘ軸ステージ１３の移動距離は、基板の領域に含まれるすべての欠陥を修正することができる位置に設置されているときの移動距離と比べ、Ｘ軸方向に平行な基板の辺の長さの半分の距離だけ少ない。 （もっと読む）

【課題】ウェーハアライメント専用装置やウェーハアライメント用のアクチュェータを使用せずに、フットプリントを最小に抑えて、低発塵でかつ、高スループットなアライメント機能を有するウェーハの搬送装置を提供する。
【解決手段】ウェーハを把持するウェーハ把持部４１と、前記ウェーハ把持部４１を支持するアーム部４０と、機台１とを有し、前記機台１は、機台座１０と、前記アーム部４０を固定支持し、かつ前記機台座１０に対して回転自在なる旋回基軸３とを有し、前記ウェーハ把持部４１は、前記ウェーハのノッチやオリフラを含む基準位置を検知する位置検知センサ５を有し、前記ウェーハが載置されるウェーハ置台１１を前記旋回基軸３が回転する回転軸心上に位置するように前記機台１に設けた。 （もっと読む）

【課題】 例えば、基板の向きを揃えて基板保管台車に収納する作業を、基板を作業者が手で持ち上げずに行うことを可能とする基板搬送台車を提供する。
【解決手段】 ガラス基板１を保持する保持部２０と、保持部２０よりガラス基板１を脱落防止させる挟持部とを備える。保持部２０は軸支部により本体部１０に対して軸支され、保持部２０をスイングさせることによりガラス基板１の姿勢を水平状態と鉛直状態とに変換させることが可能である。ガラス基板１を水平状態に支持したままで該ガラス基板１をその板面方向において旋回可能とさせる旋回支持部７１を備える。 （もっと読む）

【課題】ウェーハの裏面研削時に表面に貼着されている紫外線硬化型の保護テープに効率良く紫外線を照射できるようにすると共に、紫外線照射後のウェーハを確実にプラズマエッチング装置に搬送できるようにする。
【解決手段】表面に紫外線硬化型テープが貼着されたウェーハＷの裏面を研削する研削装置２と研削後の裏面をプラズマエッチングするプラズマエッチング装置５との間でウェーハＷを搬送するウェーハ搬送装置４において、ウェーハを保持する保持部４０と、保持部を支持して研削装置２とプラズマエッチング装置５との間で保持部４０を移動させる支持部４１とを備え、保持部４０の移動経路に、ウェーハに貼着された紫外線硬化型テープに対して紫外線を照射する紫外線照射部４３を設ける。移動の途中で紫外線を照射できるため、効率的である。 （もっと読む）

【課題】 ワークの着脱時間を短縮することが可能なワーク保持方法および保持装置を提供すること。
【解決手段】 チャック１０のエゼクタ部１３ノズル１４内には常時加圧空気が流通しており、吸着室１８内はワークをチャックする前から負圧状態となっている。また、ワークをチャックした後には圧力センサ１６の検出する圧力値に基づいてチャック完了を検出する。また、ワークをアンチャックするときには、開閉弁２３が排出口２２を閉じて排気室３１内の圧力を上昇させ、エゼクタ部１３から吸着室１８内に加圧空気を導入する。 （もっと読む）

本発明は、処理装置(１)内でウェーハ(Ｗ)を操作するためのシステムに関し、この処理装置は、吸入口を設けた吸引システム(１０)と、この吸引システム(１０)の吸入口に接続する第１の端部および第２の端部を有する吸引管(７)と、この吸引管(７)の第２の端に接続し、ウェーハ(Ｗ)を操作してこれを吸引により保持するのに適した器具(６)と、吸引管内の圧力の調整機器とを具えている。調整機器は、吸引管(７)に接続して吸引管(７)内の圧力が予め設定した値以下に下がった場合に開くことができる弁(８)を具えている。
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【課題】電気研磨および／または電気めっきプロセスにおいて、ウェーハを移動させるロボットアセンブリにおいて、エンドエフェクタ真空カップ内の粒子を取除き、真空通路に酸などが入るのを防止する装置および方法を提供する。
【解決手段】エンドエフェクタ３０６は、真空弁３２２を介して真空源と、窒素弁３２０を介して加圧窒素源と連結されている。真空弁３２２がオンされると、ウェーハをエンドエフェクタ３０６に押し付けて保持するように、真空カップ３０２内の圧力を低下させる。真空弁３２２がオフされ、かつ、窒素弁３２０がオンされると、エンドエフェクタ３０６は、真空カップ３０２内の圧力が増大されウェーハを開放する。ウェーハが保持されていない時、または移動されていない時は窒素弁３２０をオン状態のままにして、真空カップ３０２内において周囲環境圧力に近いか、またはこの周囲環境圧力よりも高い圧力を維持する。 （もっと読む）

【課題】 移載の対象となる基板に対してランダムなアクセスを可能としつつ、高い収納効率を実現すること。
【解決手段】 基板が載置される載置面を有し、上下方向に所定間隔で複数段配設された棚部を有する基板収納カセットと、前記基板収納カセットから前記基板を搬出する移載ユニットと、を備えた基板移載システムにおいて、搬出対象の前記基板と当該基板が載置された前記載置面との間へ、これらの側方から略水平方向にエアを噴出するエア噴出手段を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ほぼ平坦な基板を基板テーブルに装填したり、取り出したりする基板ハンドラを提供するシステムおよび方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射線ビームを調整する照明システム、放射線ビームを変調するパターニングデバイス、基板を支持する基板テーブル、および変調した放射線ビームを基板の目標部分に投影する投影システムを有する。リソグラフィ装置はさらに、基板を基板テーブルに装填したり、そこから取り出したりする基板ハンドラを有する。基板ハンドラは、支持面で基板を支持し、支持面にほぼ平行な方向に基板を移動させるコンベヤデバイスを有する。コンベヤデバイスは、示した方向に基板を押すか、引くように構成された把持デバイス、および示した方向に把持デバイスを駆動する駆動デバイスを有する。 （もっと読む）

本発明は、半導体パッケージ吸着用ピッカーに関するものであって、空圧を提供する空圧ラインと連結され、複層構造で配置された第１及び第２主供給孔が形成されたピッカーベースと、上記ピッカーベースの下部に結合され、上記第１及び第２主供給孔と連結された吸着孔が形成された吸着パッドを含むように構成されて、上記第１及び第２主供給孔に供給される空圧は、各々独立的に制御されることにより、パッケージが小さくなる場合にも円滑にパッケージを積載またはピックアップすることができる。
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【課題】天井空間を利用して、より多くの物品を保管できるようにする。
【解決手段】天井走行車１６の走行レール４の下方に下部バッファ６を、側方にサイドバッファ８を設け、天井走行車１６には昇降台３０と昇降台３０を横送りする横送り部２４とを設ける。ロードポート１４に荷下ろしできない物品１０をロードポート１４の上流側のサイドバッファ８に仮置きし、荷下ろしが可能になった際にサイドポート８からロードポート１４へ物品１０を搬送するよう後続の天井走行車１６を制御する。
【効果】天井走行車システムでの物品保管能力を高め、ロードポート１４−ロードポート１４の直接搬送を容易にする。 （もっと読む）

【課題】周囲に気体の排出を減少させ、そのため周囲のゴミの巻き上げなくすためクリーンルームにて使用が可能な、構造の簡略で、操作が簡易、装置の製造コストが低減化できる非接触搬送装置を提供する。
【解決手段】対象物９を非接触で搬送する装置Ａであり、基部１の下方に開口するクッション室６の中央部に、上部が気体送入口２、下部がノズル５に通じる気管３を内部に設けた柱状の気体噴出部４を設ける。気体噴出部４の周囲に形成した対象物９と対向する平面部７に、気体噴出口４より噴出した排気を補足し、上方へ排出する排出口８を設けた。 （もっと読む）

【課題】 安価なパネル保持装置の提供。
【解決手段】 保持装置１０は、ＬＣＤ，ＰＤＰ，有機ＥＬなどの平板状パネルＰを着脱可能に保持するものである。装置１０は、気体や液体などの流体の注入、排出により拡径，収縮自在な弾性袋体１２と、弾性袋体１２の一端側に固着される支持具１４と、弾性袋体１２の他端側に貼着され、平板状パネルＰを接着ないしは粘着保持する保持剤層１８とを備えている。そして、弾性袋体１２を拡径ないしは収縮させて弾性変形させることで、平板状パネルＰを保持剤層１８から脱着させる。
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【課題】基板支持機構上にある基板とハンドとの距離を可及的に短くして、ハンドに備えたセンサーが誤動作することなく簡単な機構を用いることで、ハンドがハンド上に基板を載置するまでの移動距離を基板の撓みに影響を受けることなく、正確に検出する基板支持機構を提供する。
【解決手段】基板５を搬送する非接触式センサー４を備えたハンド３によって搬入出される基板５を載置する基板支持機構１において、搬入出される基板５と基板支持機構１との間であってハンド３が搬入出する空間の近傍に基板５の撓みを防止する撓み防止機構２を設ける。 （もっと読む）

【課題】搬送物を浮上させたときの保持剛性を高める。
【解決手段】上面５２側に設けられた吹出口５４からエアを吹出すための吹出流路６６と、上面５２側に設けられた吸引口５６からエアを吸引するための吸引流路６４と、を備えた搬送物浮上ユニット５０である。吹出流路６６は、流路断面積の異なる大流路７０と小流路６８を有し、流路断面積が不連続に変化する部分を有する。このように、流路断面積が不連続に変化する部分で圧力損失を生じさせることで、搬送物としてのガラス基板の保持剛性を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】 異なるサイズのワークに対応してハンド幅を調整することができるとともに小型化で軽量化された搬送用ロボットのハンド及びそのハンドを有してワークを搬送する搬送用ロボットを提供する。
【解決手段】 ワークＰを載置する複数の載置部２ａ、２ｂを有する搬送用ロボット１００のハンド１１０（１）において、ハンド１１０（１）には、載置部２ａ、２ｂの間隔を調整する幅調整手段９，１０、１１と、幅調整手段９、１０、１１に、ハンド１００（１）とは独立の駆動源の駆動力を伝達、遮断するクラッチ手段１５とを有する。 （もっと読む）

【課題】 裏面研削加工された半導体基板の研削条痕の溝内に固着する微小パ−チクルの量を低減する基板の研削ステ−ジから洗浄ステ−ジへの受け渡し方法。
【解決手段】 プリント配線が施された基板表面を保護テ−プで被覆し、この保護テ−プ面をポ−ラスセラミック製チャック１２に対向させて載置された半導体基板の裏面を砥石１６ｂ，１６ｄで研削し、研削終了後、この裏面研削された基板面に洗浄液をノズル６０より供給しながら搬送機器の上下部開放型の環状吸着パッドを当該研削基板裏面に当接させて基板を吸着させ、基板上面と前記環状吸着パッド下面とで形成される凹部空所に洗浄液膜が存在する状態で基板を洗浄スピナ−１０へと受け渡す。研削加工面がウエット状態で基板が搬送されるので微小パ−チクルの固着が防止され、スピン洗浄での微小パ−チクルの除去が容易となる。 （もっと読む）

【課題】テレスコピックアームにかかる荷重を少なくしてメインマストにかかる偏荷重を未然に防止し、かつカセット移載時の昇降動作をテレスコピックアーム先端部にて行うことでカセット移載をより円滑に、確実に行うことができるようにした移載機におけるテレスコピックアームの支持構造を提供すること。
【解決手段】所要長のアーム片４１、４２の複数本を、直動ベアリングを介して上下に重ねて配設し、互いにスライドして伸縮するように移載機のテレスコピックアームＡを構成し、かつテレスコピックアームＡの基端側に所定荷重にて撓むようにした撓み機構５を、テレスコピックアームＡの先端側にテレスコピックアームＡの突出時にストッカーの保管棚側に支持するようにしたアーム先端支持機構７とを備えて構成する。 （もっと読む）