【課題】回転塗布時の基板上における物質層厚さの均一性を改善した基板塗布装置を提供する。
【解決手段】装置は、基板２を軸Ａの回りに保持し回転させる保持回転手段を含む。円板３が基板の下方に備えられる。円板は、基板に対して同軸に配置され、基板と少なくとも同じ直径を有し、基板と同期して回転できる。円板により、基板の塗布中、基板の縁部と下方における空気渦が防止される。その結果、均一な塗膜を得ることが可能となる。伝統的な把持システムによって装置への基板の出し入れをするために、出し入れの間、基板と円板の間隔が拡げられる。 （もっと読む）

【課題】被チャッキング物を、その表面平滑性を確保しつつ適度な力でチャッキングすることができ、かつ被チャッキング物から簡単に剥離することができるチャッキング用粘着シートおよびチャッキング用粘着テープを提供する。
【解決手段】側鎖結晶性ポリマーを含有し、該側鎖結晶性ポリマーの融点未満の温度で粘着力が低下するチャッキング用粘着シート１である。側鎖結晶性ポリマーを含有する粘着剤層を基材フィルムの片面に設けてなり、前記側鎖結晶性ポリマーの融点未満の温度で粘着力が低下するか、または基材フィルムの両面に粘着剤層を設けてなり、少なくもと被チャッキング物側の粘着剤層が側鎖結晶性ポリマーを含有し、該側鎖結晶性ポリマーの融点未満の温度で粘着力が低下するチャッキング用粘着テープである。 （もっと読む）

【課題】 基板ステージの移動に伴う振動とマスクステージの移動に伴う振動との干渉を小さく抑えて、マスクのパターンを感光性基板に正確に転写する。
【解決手段】 感光性を有する基板（Ｐ）を保持して第１方向（Ｘ方向）へ移動する第１ステージ機構（ＰＳ）と、パターンを有するマスク（Ｍ）を保持し、第１ステージ機構の第１方向への移動に同期して第１方向と交差する第２方向（Ｘ方向）へ移動する第２ステージ機構（Ｙ方向）と、パターンからの光を受光し、マスク上の第２方向と基板上の第１方向とが光学的に対応するようにパターンの投影像を基板上に形成する投影光学系（ＰＬ）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】保持層取り外しの際、過誤により内枠や外枠等を破損させるおそれを排除できる保持治具の保持層取り外し装置及び保持治具の保持層取り外し方法を提供する。
【解決手段】内リング２と外リング３の間に可撓性の保持層４を着脱自在に挟持する保持治具１に昇降可能な昇降体１０を接離することにより、保持治具１の内リング２と外リング３から保持層４を取り外す保持治具の保持層取り外し装置であり、昇降体１０を断面略Ｕ字形に形成してその両側部を内リング２から外リング３を分離する分離爪１１に形成する。また、昇降体１０の内底部の周縁には、内リング２に粘着して保持層４から分離する分離層１２を粘着固定する。内リング２と外リング３から保持層４が自動的に取り外されるので、保持層４の取り外しの際、誤って薄く脆い半導体ウェーハＷ、内リング２、又は外リング３を破損させるおそれがない。 （もっと読む）

基板支持構造体（１３）が、周囲環境よりも低い圧力を有する液体のクランプ層（１１）によって創られた毛細管力によって基盤（１２）をクランプする。前記基板支持構造体は、基板を保持するための複数の基板支持要素（１７）が設けられた表面（１６）を有し、この表面は液体のクランプ層の範囲内に所定の毛細管流動を誘発するための異なる毛細管ポテンシャルを有する複数の部分（５１、５２；８３）をさらに有する。
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【課題】リソグラフィ機械装置のための準備ユニットを提供する。
【解決手段】準備ユニット（１１２）を備えている荷電粒子リソグラフィシステム。準備ユニットは、ハウジングの中にまたはハウジングから基板（２２，８２，１２２）を搬入および／または搬出するための第１の搬入ポート（１３１）を有するハウジングと、ハウジング内の基板支持構造体（２３，８３，１２３）上に基板を設置するための基板移動ユニット（１２７）と、基板を支持する基板支持構造体を搬入および／または搬出するための第２の搬入ポート（１３２）を備えている。 （もっと読む）

【課題】基板乾燥方法及び磁気記録媒体の製造方法において、基板と基板を保持する保持部材とが接触する部分の洗浄液を確実に除去することを目的とする。
【解決手段】洗浄液で洗浄済みの基板をスピン乾燥させる基板乾燥方法において、前記基板を保持する保持部材を加熱するようにする。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェーハの金属汚染を防止し、かつ半導体ウェーハの内外において損傷を防止する。
【解決手段】気相成長装置１００は、加熱した半導体ウェーハ１を金属製の円板状の冷却プレート１１に近接して、半導体ウェーハ１を冷却する冷却チャンバ１０を備える。冷却チャンバ１０は、冷却プレート１１に取り付けて、半導体ウェーハ１の周縁を周方向に間隔をあけて支持する複数の支持部材１３を備える。支持部材１３は、半導体ウェーハ１が載置される円弧状の頂部が冷却プレート１１の中心に向かう支持面１３１と、支持面１３１から突出して半導体ウェーハ１の外周を部分的に囲う段差１３２を有する。円弧状の頂部は、半導体ウェーハ１が冷却プレート１１に接触しない所定の高さを設けると共に、冷却プレート１１の中心に向かって下り傾斜している。 （もっと読む）

【課題】液浸液を液浸露光装置の外周ステージから露光ステージに向かって移動させる際に、有機膜の外周端縁が基板から剥離することを防止する。
【解決手段】液浸露光装置１００は、露光ステージ１０、外周ステージ２０、投影レンズ３０および駆動部４０を備えている。駆動部４０は、露光ステージ１０の周囲に配置された外周ステージ２０を、有機膜５０が上面に設けられた基板５２に対して昇降方向に相対駆動する。そして、外周ステージ２０は駆動部４０により基板５２と非接触に相対駆動されるとともに、外周ステージ２０の上面２２のうち有機膜５０に近接する近接縁２４の一部または全部は、駆動部４０に駆動される下限位置が有機膜５０と面一またはその下方であり、上限位置Ｈが有機膜５０よりも上方である。 （もっと読む）

【課題】半導体単結晶ウェハを研磨治具に貼り付け、その表面をラップ加工又は鏡面研磨加工する際に、加工時に半導体単結晶ウェハの外周端面に生じる段差を無くし、高品質の半導体単結晶ウェハを得ることができる半導体単結晶ウェハの製造方法を提供する。
【解決手段】半導体単結晶ウェハ１を研磨治具２に貼り付け、その表面をラップ加工又は鏡面研磨加工する半導体単結晶ウェハ１の製造方法において、半導体単結晶ウェハ１の外周部にコーティング剤３を塗布してから、半導体単結晶ウェハ１表面のラップ加工又は鏡面研磨加工を行う方法である。 （もっと読む）

【課題】板状部材の各部に作用する吸引力を均一化して板状部材の変形や局部応力を抑制することができる板状部材の支持装置および支持方法を提供すること。
【解決手段】減圧手段４によって隙間７に減圧領域が形成され、この減圧領域によってウェハＷが吸引されることで、隙間７に面したウェハＷ全体を吸引することができるとともに、給気手段５によってウェハＷ中央部の撓みを抑制することもできるので、ウェハＷの変形や局部応力を抑制しつつウェハＷが略平面となる状態で支持することができる。 （もっと読む）

【課題】構造の複雑化を招来することなく、搬送距離を伸ばすことができるとともに、剛性にも優れた搬送装置を提供する。
【解決手段】搬送対象物Ｘを載置して運搬する運搬台２と、一端部を運搬台２に接続し、且つ折り畳み動作及び伸長動作によって運搬台２を一定方向に進退動作させるリンク機構３と、リンク機構３の他端部を支持し、且つ運搬台２の進退方向にリンク機構３をスライド移動させるスライド機構４とを備えたものとした。
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【課題】複数枚の基板のうち最初の基板の処理を開始してから最後の基板の処理を完了する迄の残時間の把握を容易にする。
【解決手段】複数枚の基板のうち最初の基板について処理を開始してから、複数枚の基板のうち最後の基板について処理を完了する迄の残時間を算出する算出手段と、算出手段により算出された残時間を表示する表示手段と、を備え、基板の搬送完了、前室内の大気圧復帰完了、前室内の減圧完了、及び処理室内での基板の処理完了のうちいずれかを検知したら、残時間を前記算出手段により再算出させて表示手段に表示させる。 （もっと読む）

【課題】 マスクを被処理対象物に対して位置合わせ後、基台にマスクを設置固定する際に、高精度にマスクと被処理対象物の相対的な位置のずれを無くすること。
【解決手段】保持装置は、基板が載置される基台と、マスクを支持する為に、基板が載置される保持面の外側の周辺部に少なくとも３個配置され、マスクが基板の上に載置されるときには保持面から突き出ているマスク支持部材と、マスク支持部材により支持されているマスクの位置を調整する調整機構と、調整機構により位置が調整されたマスクを基台に固定する固定機構と、を有する。 （もっと読む）

【課題】この発明は半導体ウエハの上面全体をエッチング液によって均一にエッチング処理することができるようにした処理装置を提供することにある。
【解決手段】基板を回転させながら処理液によって処理する処理装置であって、
半導体ウエハを保持して回転駆動される回転テーブル１６と、先端部に処理液を半導体ウエハに向けて噴射する上部ノズル体５１を有し、回転テーブルの上方で上部ノズル体が半導体ウエハを横切る方向に駆動されるアーム体５２と、ノズル体が半導体ウエハの周辺部から中心部に向かうときにアーム体の移動速度を次第に増加させ、中心部から周辺部に向かうときには揺動速度を次第に低下させるようアーム体の移動速度を制御する制御装置７を具備する。 （もっと読む）

【課題】複数の副ベース板を容易に組み立てることが可能な位置決め装置を提供する。
【解決手段】このパターン修正装置は、２枚の副ベース板１，２と、それぞれ副ベース板１，２を所定の高さで水平に支持する支持台３，４と、副ベース板１，２の対向する２つの端面を結合する結合部材７，８とを備える。結合部材７，８の各々は、連結ピン１２で連結された金属ブロック１０，１１と、横方向および上下方向にスライドするスライダ１３とを含む。したがって、２枚の副ベース板１，２の端面を突き合わせて接合する場合に比べ、副ベース板１，２を容易に組み立てることができる。 （もっと読む）

【課題】ウェーハをベルヌーイチャックで保持した状態でウェーハの片面をエッチングする際に、エッチング液の巻上げを防止すること。
【解決手段】エッチング液を貯留する円筒状の内槽１と、この内槽１の底面７の中央からエッチング液の液面の中央に向けてエッチング液を供給する吹き出しノズル１３と、半導体ウェーハＷの一方の面を非接触で保持するベルヌーイチャック４１と、半導体ウェーハＷの他方のエッチング面が液面と接触する設定高さまで半導体ウェーハＷを水平に保ちながら下降可能な昇降手段５１を備え、内槽１は、この内槽１の外径が半導体ウェーハＷの外径以下に形成されていること。 （もっと読む）

【課題】基板及びリソグラフィ装置の性能に関する物理的特性を迅速に検出する。
【解決手段】概ね第一方向に延在する少なくとも１本の線によって形成された延在パターンの特性を検出する。延在パターンは、基板又は基板テーブル上に形成され、好ましくは線の幅の少なくとも５０倍の長さにわたって延在する。検出方法は、基板テーブルを第一方向に移動させ、その第一方向ｘに沿って延在パターンの特性を測定することを含む。特性は、第一方向に対して直角の第二方向ｙにおける延在パターンの物理的特性の結果である。次のステップでは、延在パターンの測定位置から基板テーブル位置の較正を導出することができる。 （もっと読む）

【課題】大型のＴＦＴ基板などを高度のクリーン度を維持した状態で、安価に熱処理できる基板熱処理用セッター及びこれを用いたＴＦＴ基板の熱処理方法を提供する。
【解決手段】平板状の本体の周囲を額縁状のシール枠３とし、その内側部分を上面に機能膜が形成されたガラス基板１０の収納部としたセッター本体１と、その上面に載せられてシール枠３と密着する平板状のセッター蓋体２とからなる基板熱処理用セッターである。このセッターを用いれば、既存のＰＤＰ焼成炉を用いても、クリーンな状態での熱処理が可能である。セッター蓋体２をその上面または下面の撓み防止用のビームにより補強することができる。 （もっと読む）

【課題】 デバイス領域に対応する裏面のみが研削されて円形凹部が形成され、デバイス領域を囲繞する外周余剰領域に対応する裏面に環状補強部が形成された半導体ウエーハを、破損させることなく粘着テープへ貼着可能な粘着テープの貼着方法を提供することである。
【解決手段】 複数のデバイスが形成されたデバイス領域と該デバイス領域を囲繞する外周余剰領域とを表面に有し、該デバイス領域に対応する裏面に円形凹部が形成され、該円形凹部の外周側に該外周余剰領域を含む環状補強部が形成されたウエーハの裏面に粘着テープを貼着する粘着テープの貼着方法であって、該ウエーハと該粘着テープとを減圧雰囲気中で対向して保持し、該ウエーハを該粘着テープの粘着面へと押圧する際に、該粘着テープの粘着面と反対側に固定的に配設された板状物を該粘着テープを支持しながら該円形凹部内に嵌合させて、該ウエーハの裏面に該粘着テープを貼着することを特徴とする。 （もっと読む）