【課題】太陽電池製造システムに対する需要が増え続けるにつれ、直線システムのスループットの利点を得つつ、メインフレーム構成の柔軟性も提供する。
【解決手段】数枚の基板を同時に処理する装置及び方法が提供される。システムは、直線状でありつつ、処理を自律的に順位付けして基板を必要に応じて異なる方向に移動させる新規なアーキテクチャを採用している。システムは、数枚の基板を同時に移動させるが、従来技術とは異なりトレイを使用しない。 （もっと読む）

【課題】被処理基板に処理を行う基板処理装置において、基板全面に均一に基板処理を行うことができる基板処理装置及びその基板処理装置における基板処理方法を提供する。
【解決手段】搬送路３４の途中に設けられたステージ面１５２を有し、被処理基板Ｇをステージ面１５２の上に載置する載置ステージ１５０と、ステージ面１５２の下方で搬送路３４を横切る方向に延びる軸１５６に沿って回転可能に設けられ、ステージ面１５２より上方に突出可能な半径を有する回転体の一部を軸１５６に沿って切り落とした形状に形成され、それぞれ第１及び第２の回転角度位置にあるときにステージ面１５２と略平行な面を形成する第１及び第２の弦部１６４、１７４を備えた第１及び第２の回転体１６０、１７０を有する。 （もっと読む）

【課題】真空搬送室に備えられた真空処理室の配置を最適化し、設置面積あたりの被処理物の生産能力の高い装置を提供する。
【解決手段】カセット内に収納されたウエハが搬送される大気搬送室と、大気搬送室から搬送されるウエハを収納するロック室１０５と、ロック室後方に連結される第一の真空搬送室１０４とを備えており、第一の真空搬送室には、複数の搬送中間室１１１、１１５〜１１７が連結されており、さらにその後段には真空搬送室１１０、１１２〜１１４が連結されており、ウエハは、ロック室を介して第一の真空搬送室に搬送され、後段の各真空処理室内において処理するために、第一の真空搬送室に連結された複数の搬送中間室の何れかを介して後段の夫々の複数の真空搬送室に搬送され、第一の真空搬送室以外の後段の複数の真空搬送室に搬送された夫々のウエハが、複数の真空搬送室に夫々連結された各真空処理室に搬送されて処理される。 （もっと読む）

【課題】基板処理装置の製造コストや消費エネルギーを低減させること。
【解決手段】本発明では、キャリア（３）に収容された基板（２）を受渡す基板搬出入部（基板受渡室（１２））と、前記基板搬出入部と基板搬入出口（３７（３９））を介して連通する基板搬送室（１４（２５））と、前記基板搬送室（１４（２５））に沿って配置された複数の基板処理室（１５〜２４（２６〜３５））と、前記基板搬送室（１４（２５））の内部に収容し、前記基板搬出入部と前記基板処理室（１５〜２４（２６〜３５））との間で前記基板（２）を搬送するための基板搬送装置（３６（３８））と、前記基板搬送室（１４（２５））に沿って清浄空気を流すための清浄空気流動手段（４１（４２））とを有することにした。 （もっと読む）

【課題】 基板搬送装置において、パーティクルによる基板の汚染を極力防止する。
【解決手段】 ピック本体１１５には、拡散防止部材としての拡散防止カバー１２１が装着されている。拡散防止カバー１２１は、摺動ブロック１２３とリニアガイド１１９とが擦れることによって発生し、落下してくるパーティクルを受け止める底壁部１２１ａと、この底壁部１２１ａから略垂直に立ち上がる側壁部１２１ｂとを有する。側壁部１２１ｂは、底壁部１２１ａと同様にパーティクルを受け止めるとともに、パーティクルが外部へ飛散しないように封じ込める。 （もっと読む）

【課題】
電子デバイスの製造設備内で基板キャリアを搬送するための方法及び装置を提供する。
【解決手段】
キャリアを運ぶコンベヤ・システムに結合された複数のキャリア支持体を含むと共に、複数の基板ローディング・ステーションを含む電子デバイス製造設備の第１の基板ローディング・ステーションから第２の基板ローディング・ステーションへキャリアを搬送する要求を受信し２０５、少なくともこの搬送のために必要とされる時間が短くなり、且つ、コンベヤ・システムのバランスが維持されるように、第１の基板ローディング・ステーションから第２の基板ローディング・ステーションへ、キャリアを搬送するために、複数のキャリア支持体のうちの１つを割り当て２０７、第１の基板ローディング・ステーションからキャリアを運び２０９、第２の基板ローディング・ステーションへキャリアを運ぶ２１１ステップを含む。 （もっと読む）

【課題】生産性や製造コスト面に優れ、かつ、高スループットを実現することができるとともに、薄膜太陽電池としての変換効率の低下を防ぐことができる薄膜太陽電池製造装置を提供する。
【解決手段】成膜室１１と、仕込・取出室と、基板脱着室と、基板を被成膜面が重力方向と略並行を成すように保持するキャリアと、を備え、仕込・取出室と成膜室との間で、複数のキャリアが並列に搬入・搬出可能に構成され、成膜室で、複数のキャリアに保持された複数の基板に同時に成膜を行うことができる薄膜太陽電池製造装置であって、成膜室内に付着している副生成物に対して窒素ガスを噴射可能な複数の窒素ガス噴射機構１７０を有する供給管１５１と、供給管に窒素ガスを供給する窒素ガス供給源１５８と、が設けられ、窒素ガス噴射機構には、供給管に対して回転しながら窒素ガスを噴射する噴射口が形成されている。 （もっと読む）

【課題】基板搬送時のスループットの向上と、ローダ室の小型化が可能な基板搬送方法を提供する。
【解決手段】 直線上に配設された偶数台のプローブ検査室と、プローブ検査室の列の前方をこの列と平行に移動し、収納容器から取出した被検査基板をプローブ検査室内へ搬送する搬送機構を有するローダ室とを備え、プローブ検査室内に設けられた載置台に載置された被検査基板上の電極パッドと、プローブカードのプローブとを接触させて、被検査基板の被検査チップの電気的特性を測定するプローブ装置における基板搬送方法において、搬送機構を移動させて、隣接する２つのプローブ検査室の略中央正面位置に搬送機構を停止させ、この搬送機構によって２つのプローブ検査室に被検査基板を搬入または搬出する。 （もっと読む）

【課題】フットプリントの削減を図ることのできるプローブ装置を提供する。
【解決手段】載置台が設けられたプローブ検査室と、収納容器から取出した被検査基板を前記プローブ検査室内の載置台上へ搬送する搬送機構を有するローダ室とを備え、前記載置台に載置された被検査基板上の電極パッドと、プローブカードのプローブとを接触させて、前記被検査基板の被検査チップの電気的特性を測定するプローブ装置において、前記プローブ検査室の筺体の側壁部に、前面から側面側に回り込んで開口する、屈曲又は湾曲した形状の搬入出口を設けている。 （もっと読む）

【課題】複数の基板よりなる基板群の各基板を順次液処理し、かつ、異なるプロセスフローが同一の液処理モジュールを共有している場合において、処理時間を短縮することができる塗布現像装置及び塗布現像方法を提供する。
【解決手段】第１の薬液を用いて各基板に順次第１の液処理を行い、再び各基板に第１の薬液を用いて順次第２の液処理を行う第１の液処理モジュールＭ４と、第１の液処理を行った後、第２の液処理を行う前の各基板を、順次一時的に格納するバッファモジュールＢＵＦと、バッファモジュールＢＵＦから取り出した後、第２の液処理を行う前の各基板に、第２の薬液を用いて順次第３の液処理を行う第２の液処理モジュールＭ５とを有する。基板群の最後の基板に第１の液処理を行った後、直ぐに基板群の最初の基板に第２の液処理を行うことができるように、最後の基板に行う第１の液処理が終了する前に、最初の基板に行う第３の液処理を開始する。 （もっと読む）

【課題】他の基板に優先して処理開始すべき基板と、通常のスケジュールで処理される基板とを並行して処理することが可能な基板処理装置等を提供する。
【解決手段】
処理ブロック１４ａ（１４ｂ）は、基板搬送部１４１ａ、１４１ｂを用いて、基板搬入ブロック１１から搬入された基板Ｗに対し、複数の処理ユニット２にて同種の処理を行い、制御部５は他の基板Ｗよりも処理を優先する優先基板ＷＰが搬送される場合に、複数の処理ユニット２の一部または全部が割り振られた優先処理ユニット２Ｐのうち、次の基板Ｗの搬入が可能になった優先処理ユニット２Ｐに、他の基板Ｗに優先して優先基板ＷＰを搬入して処理を行う。 （もっと読む）

【課題】不具合が発生した場合でも、装置全体を停止することなく基板処理を継続できる可能性の高い基板処理装置を提供する。
【解決手段】
基板処理装置１は、基板Ｗを搬送するための第１、第２の基板搬送機構１４１ａ、１４１ｂと、当該基板搬送機構１４１ａ、１４１ｂの左右両側に各々設けられ、同一の処理が行われる処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４と、を備えた第１、第２の処理ブロック１４ａ、１４ｂを備えている。処理ユニットの列Ｕ１、Ｕ３及び、他方側の処理ユニットの列Ｕ２、Ｕ４は各々共通化された処理流体の供給系３ａ、３ｂと接続されている。そしていずれかの基板搬送機構１４１ａ、１４１ｂ、処理流体の供給系３ａ、３ｂに不具合が発生すると、健全な基板搬送機構１４１ｂ、１４１ａ、処理流体の供給系３ｂ、３ａが受け持つ処理ユニットの列Ｕ１〜Ｕ４にて基板Ｗを処理する。 （もっと読む）

【課題】基板ロボットを用いることなく第１チャンバから第２チャンバに基板を搬送させることができ、かつその搬送中の基板に処理流体を用いた処理を施すことができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】第１チャンバ１内には、ウエハＷの周縁部を支持して、ウエハＷをほぼ水平姿勢に支持するための複数の第１支持部材１０が収容されている。第２チャンバ２内には、ウエハＷをほぼ水平姿勢に支持するための複数の第２支持部材２０が収容されている。第１支持部材１０Ａ〜１０Ｄおよび／または第２支持部材２０Ａ〜２０Ｄが、ウエハＷを支持しつつＸ方向に移動されることにより、ならびに第１支持部材１０Ａ〜１０Ｄおよび第２支持部材２０Ａ〜２０Ｄが開閉されることにより、４つの第１支持部材１０Ａ〜１０Ｄから４つの第２支持部材２０Ａ〜２０ＤにウエハＷが受け渡される。搬送中のウエハＷに対して処理部３による処理が施される。 （もっと読む）

【課題】基板検査ユニットを組み込むにあたって占有面積が狭く、不利なレイアウトを避けることができる塗布装置及び現像装置を提供すること。
【解決手段】レジスト膜形成用のブロックまたは現像処理用のブロックと基板検査用のブロックとを互いに積層して処理ブロックを構成し、レジスト膜形成用のブロックは、レジスト液を基板に塗布するための液処理ユニット及びレジスト液が塗布された基板を加熱する加熱ユニットを含む複数の処理ユニットと、を備える。現像処理用のブロックは、現像液を基板に塗布するための液処理ユニットを備える。基板検査用のブロックは、基板を検査する基板検査ユニットとこの基板検査ユニットに基板を搬送するブロック用の搬送手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】待ち時間及びサイクルタイムを短縮することができて効率的な処理を行うことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置では、制御部が、搬入出部７内の固定収容棚２５ａ〜２５ｆ、変位収容棚２９ａ〜２９ｅの一部を、ロードポートと処理ユニットとの間における「処理用」として設定するとともに、ストッカーとしての「保管用」として設定する。しかも、その割合を制御部が変更しているので、従来、外部のストッカーに一旦ＦＯＵＰを搬送する場合であっても、搬入出部７の「処理用」を「保管用」に制御部１３が設定変更することで搬送せずに済む。したがって、待ち時間及びサイクルタイムを短縮することができ、効率的な処理を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】搬送アームに基板を静電吸着して搬送する場合において、真空中に電源やケーブルを導入する必要がなく、搬送モジュールにウェハを受け渡す際の基板の位置を高精度で制御することができ、更に、搬送モジュールで処理モジュールに搬送した後の基板の位置を高精度で制御することができる静電吸着部材を提供する。
【解決手段】静電吸着部材６０は、基板Ｗを大気中と真空中との間で受け渡すロードロックモジュールと、基板Ｗを真空中で処理する処理モジュールとの間で、基板Ｗを搬送する搬送モジュールのピック３１ｂに着脱可能に取り付けられ、ピック３１ｂが搬送する基板Ｗに静電吸着する。静電吸着部材６０は、ロードロックモジュールの載置ステージ７０とピック３１ｂとの間、又はピック３１ｂと処理モジュールとの間で、基板Ｗに静電吸着した状態で、基板Ｗと一緒に受け渡される。 （もっと読む）

【課題】本発明が解決しようとする課題は、工場建屋サイズ等の制約によらず、工場建設の際に効率的な生産設備のレイアウト設計を可能とすると共に、搬送設備のユニット数や費用を少なくすることが可能な平面型ストッカーを用いた生産ラインを提案するものである。
【解決手段】平板状の枚葉基板に処理を施す複数の処理工程ラインを含む生産ラインであって、該処理工程ラインの設置された建屋の階層とは異なる階層に設置され、基板を収納するカセットと該カセットを収納するカセット収納棚とを有する工程内ストッカーと、該工程内ストッカーと前記処理工程ラインの間にあって、前記基板を垂直方向に移動させるための基板移送手段とを有し、該基板移送手段は、基板を載置して各階層間を移動する枚葉リフターユニットと、該枚葉リフターユニットと前記カセットとの間で基板を出し入れする移載装置とを有することを特徴とする生産ラインである。 （もっと読む）

【課題】異常により所定の処理が停止しても、リトライ処理を行うことで、ウェハ回収作業等の実施に起因する装置稼働率の低下を抑止できる基板処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】ウェハ１を搬送する搬送手段と、前記搬送手段を制御する制御手段を備えた基板処理装置であって、前記搬送手段が、前記基板を搬送中にエラーが発生して一時停止したときに、前記制御手段は、所定回数のリトライ処理を前記搬送手段に実施させても前記エラーが解消されない場合、前記搬送手段を待機状態（コマンド入力待ち状態）に移行させる。 （もっと読む）

【課題】常圧搬送室に大掛かりな腐食対策をする必要がなく、またスループットも低減することのない基板処理装置を提供する。
【解決手段】ロードロック室１４ｂからストレージ２６まで常圧搬送室であるローダーモジュール１５を通過させることがなく基板Ｗを搬送するための迂回経路２４を設ける。当該迂回経路２４には、ロードロック室１４ｂからストレージ２６まで処理済みの基板Ｗを搬送する副搬送ユニット３６が配置される。この副搬送ユニット３６によってロードロック室１４ｂからストレージ２６まで処理済みの基板Ｗを搬送し、ローダーモジュール１５の主搬送ユニット１８によってストレージ２６から載置台２２ａ〜２２ｃの運搬容器に処理済みの基板Ｗを戻す。 （もっと読む）

【課題】第１基板収容部から第２基板収容部への基板の搬送をより迅速に行うことができる基板搬送装置および基板搬送方法、ならびにスループット（処理能力）を向上させることができる基板処理システムを提供する。
【解決手段】基板搬送装置５０において、各フォーク５４ａ，５４ｂは上下方向に予め設定されたフォークピッチＰ３分だけ離間するよう設けられている。各フォーク５４ａ（５４ｂ）が第１基板収容部２０から基板を取り出す際に、各フォーク５４ａ（５４ｂ）は、当該基板の下方にある予取出位置から予め設定された取出ストローク量ＳＴ１だけ上方に移動することによりこの基板を持ち上げて支持するようになっている。上記のフォークピッチＰ３は第１基板収容部２０に収容された複数の基板の第１のピッチＰ１と取出ストローク量ＳＴ１との合計の大きさに設定されている。 （もっと読む）