説明

Fターム[5F031MA06]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 処理装置 (13,378) | 複数の装置、モジュールを搬送路で結合 (323)

Fターム[5F031MA06]の下位に属するFターム

Fターム[5F031MA06]に分類される特許

81 - 100 / 235


【課題】キャリアから処理ブロックに基板を搬送する搬送手段を備えた基板処理装置において、前記搬送手段の搬送工程数の上昇を抑えてスループットを向上させることができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】処理ブロックに基板を搬入するための第1の受け渡しモジュールに基板を搬送できるときにはバッファモジュールを介さずにキャリアから第1の受け渡しモジュールへ基板を前記搬送順で搬送し、前記キャリアから基板をその第1の受け渡しモジュールに搬送できないときに、前記搬送順とは逆順でキャリアからバッファモジュールに基板を搬送し、前記バッファモジュールに搬送された基板を、その基板に先行して前記第1の受け渡しモジュールに搬送されるように設定された基板が全て当該第1の受け渡しモジュールに搬送された後に、前記搬送順で第1の受け渡しモジュールに搬送するように搬送手段の動作が制御される。 (もっと読む)


【課題】ロットの追い越し配置を可能にして処理効率を向上させることができる基板処理装置のスケジュール作成方法を提供する。
【解決手段】計画開始位置PSP1〜PSP3から、レシピに基づいて各ブロックを配置する。基板待機部CWSを使用するブロックBから次のブロックCまでの間に待機時間が生じる場合には、第2のロットの計画開始位置PSP2を時間的に後にずらした調整計画開始位置MSP2を求める。制御部は、調整計画開始位置MSP2を含む計画開始位置PSP1,3の時間的に早いロットの順に、ブロックの配置を開始する。これにより、計画開始位置PSP3のままの短時間の処理を行うレシピを採用した第3のロットを、調整計画開始位置MSP2の第2のロットよりも時間的に前に配置してスケジュールする追い越しができ、基板処理装置における処理効率を向上できる。 (もっと読む)


【課題】基板カセット保管部を軌道上方に配置することで省スペース化を図り、無人走行台車の搬送効率を向上することができる走行車システムを提供する。
【解決手段】走行車システムAは、基板の保管又は所定の処理を施す基板処理装置と、基板を基板カセット1に収容した状態で上下方向に昇降させる昇降部10及び基板カセット1を基板処理装置に向けて水平移動する水平移動部8a,8bを有し、基板カセット1を基板処理装置に向けて設けた軌道Lに沿って搬送する無人走行台車AGと、軌道Lの上方において基板カセット1を保持して保管する基板カセット保管部BF1と、を備える。 (もっと読む)


【課題】パレット保持の信頼性及び動作の信頼性を確保し、生産性を向上する。
【解決手段】基板支持装置が、基板12を搭載するパレット8と、パレットを鉛直姿勢した状態で、パレットの径方向両端部を保持するパレット両端保持機構15と、パレットの中心部を回転可能に保持するパレット中央保持機構13と、装置本体を移動する移動機構11と、を備え、パレット両端保持機構は、パレットの径方向両端部を板厚方向の両側から把持する機構で、移動中はパレット両端保持機構がパレットを保持し、パレット両端保持機構からパレット中央保持機構への受け渡し時は、双方の保持機構によってパレットが保持され、基板処理時はパレット中央保持機構によってパレットの中心部を回転可能に保持し、パレット両端保持機構による保持は解除される。 (もっと読む)


【課題】基板処理装置の搬送装置とロードロック室との間で基板の交換を行う場合において、単位時間当たりの基板の処理枚数を増大させることが単純な構成で実現できる基板交換機構を提供する。
【解決手段】ロードロック室内で基板W1を固定して支持する第1の支持部材31と、ロードロック室内に上下動可能に設けられ、基板W2を支持する第2の支持部材32と、搬送装置に設けられ、基板W1、W2のそれぞれを第1及び第2の支持部材31、32のそれぞれとの間で受け渡しする第1及び第2の搬送部材41、42とを有し、ロードロック室内で第1及び第2の搬送部材41、42が一体的に上方又は下方に第1の距離H1だけ移動するとともに、第2の支持部材32が搬送部材41、42の移動方向と同じ方向に第1の距離H1よりも大きな第2の距離H2だけ移動し、搬送部材41、42の一方の搬送部材が基板を受けるとともに、他方の搬送部材が基板を渡す。 (もっと読む)


【課題】スループットを向上させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】洗浄乾燥処理ブロック14Aおよび搬入搬出ブロック14Bにより、インターフェイスブロック14が構成される。洗浄乾燥処理ブロック14Aは、洗浄乾燥処理部161,162および搬送部163を含む。搬送部163には、搬送機構141,142が設けられる。搬入搬出ブロック14Bには、搬送機構146が設けられる。搬送機構146は、露光装置15に対する基板Wの搬入および搬出を行う。 (もっと読む)


【課題】収納枚数が可変でランダムアクセス可能なバッファカセットを提供する。
【解決手段】四角形の枠体(10)と、枠体(10)の四隅の下面に設けた足部(40)と、枠体(10)の四隅の上面に設けた勘合部(50)と、枠体(10)内の互いに向き合う2つの側面の間に所定の間隔で設けた支持フレーム(20)と、支持フレーム(20)の上面に所定の間隔で設けた基板支持ピン(30)とを備え、足部(40)の下部に勘合部(50)と勘合する窪み部(60)を設けた枚葉バッファカセット。 (もっと読む)


【課題】処理済みの基板に付着した付着物が大気や大気中の水分と触れて不所望な反応が生じることを防止することのできる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 基板処理装置は、搬送室201と搬送口211を介して連通され、内部に複数の半導体ウエハWを棚状に収容可能とされた基板収容室212と、搬送口211の部分において基板収容室212内と搬送室201内とを仕切る上下動可能なゲート213と、基板収容室212内にガスを供給するガス供給機構215とを具備した基板収容部210を有する。 (もっと読む)


【課題】被処理体を収容する容器本体と、その開口部を開閉するための蓋体とを備えた搬送容器の前記蓋体を開閉する、簡単な構成の蓋体開閉システムを提供すること。
【解決手段】蓋体を容器本体から取り外して保持する保持部材と、前記蓋体と容器本体とが結合されかつ蓋体と保持部材とが結合されていない状態とする一方の位置と、蓋体と保持部材とが結合されかつ蓋体と容器本体とが結合されていない状態とする他方の位置との間で蓋体と平行にかつ直線的に移動可能に設けられた作動部材と、作動部材を移動させる動作機構と、を備えたシステムに用いられ、少なくとも前記動作機構と保持部材と搬送容器を保持するための保持部とを備えるようにシステムを構成する。それら結合の形成及び解除によって容器本体、保持部材が夫々蓋体を保持することができるため、蓋体を保持するための真空吸着機構を蓋体開閉システムに設ける必要が無くなる。 (もっと読む)


【課題】基板の搬送を効率よく行い、基板処理のスループットを向上させる。
【解決手段】塗布現像処理ユニット1は、平面視において環状に形成された軌道42と、基板Wを保持し、軌道42上を移動する複数の基板保持部41と、軌道42に沿って配置され、基板Wに所定の処理を行う複数の処理装置と、基板保持部41と処理装置との間の基板Wの搬送を制御する制御装置14と、基板保持部41と処理装置との間で基板の受け渡しを行う基板搬送機構と、を有している。複数の基板保持部41は、複数の処理装置の数よりも多く配置されている。制御装置14は、基板Wの処理レシピを格納するレシピ格納部170と、処理レシピに基づき基板保持部41を所定の処理装置へ移動させる基板保持部制御部171と、基板保持部41と所定の処理装置との間で基板の搬送を行うように基板搬送機構を制御する基板搬送機構制御部172と、を有している。 (もっと読む)


【課題】基板の搬送を効率よく行い、基板処理のスループットを向上させる。
【解決手段】塗布現像処理システム1には、ウェハ搬送装置40の周囲に、第1〜第4のバッファ装置41〜44と第1〜第4の処理装置群G1〜G4が配置されている。第1〜第4のバッファ装置41〜44は、複数のウェハを鉛直方向に多段に保管するバッファ部を有している。第1〜第4のバッファ装置41〜44は、バッファ部搬送機構によってレール45上を第1〜第4の処理装置群G1〜G4に対向する位置に移動可能になっている。第1〜第4の処理装置群G1〜G4の各処理装置には、当該処理装置と第1〜第4のバッファ装置41〜44との間でウェハを搬送するウェハ搬送機構が設けられている。 (もっと読む)


【課題】半導体ウェーハの金属汚染を防止し、かつ半導体ウェーハの内外において損傷を防止する。
【解決手段】気相成長装置100は、加熱した半導体ウェーハ1を金属製の円板状の冷却プレート11に近接して、半導体ウェーハ1を冷却する冷却チャンバ10を備える。冷却チャンバ10は、冷却プレート11に取り付けて、半導体ウェーハ1の周縁を周方向に間隔をあけて支持する複数の支持部材13を備える。支持部材13は、半導体ウェーハ1が載置される円弧状の頂部が冷却プレート11の中心に向かう支持面131と、支持面131から突出して半導体ウェーハ1の外周を部分的に囲う段差132を有する。円弧状の頂部は、半導体ウェーハ1が冷却プレート11に接触しない所定の高さを設けると共に、冷却プレート11の中心に向かって下り傾斜している。 (もっと読む)


【課題】複数のウエハーを搬送し、真空処理するための手段を提供する。
【解決手段】本発明の真空処理装置によれば、複数の指156を有するハンド部155を搬入用真空槽112a内に設けておき、大気雰囲気中で各指156上に複数の基板31を両端をはみ出した状態で配置し、搬入用真空槽112a内を真空排気し、処理用真空槽113と接続してハンド部155を処理用真空槽内に移動させる。処理用真空槽113内には複数の横棒162を有する昇降機構161を設けておき、横棒162を上方に移動させ、一本の指上の基板の両端を二本の横棒に載せて降下させ、載置台165に載せて真空処理を行う。ピンやトレイを使用せずに搬出入できる。 (もっと読む)


【課題】実際に基板を処理させる処理部の数が変動しても、複数種類の処理を所定の順番どおりに効率よく基板に行うことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】レジスト膜用塗布処理ユニットRESIST、加熱冷却ユニットPHP、冷却ユニットCPの順番で基板Wを搬送し、複数種類の処理を基板Wに行う。たとえば、レジスト膜用塗布処理ユニットRESIST、加熱冷却ユニットPHPおよび冷却ユニットCPをそれぞれ3台、2台、1台使用しているところ、1台の加熱冷却ユニットPHPを使用処理部から外れた場合であっても、残っている使用処理部によって、所定の順番で基板Wに処理を行うことができる。 (もっと読む)


【課題】磁気ディスク等の基板を搬送し、基板処理を施して大量に生産する基板処理システムのスループット及び生産性の向上のため、各処理チャンバにおける処理時間(タクトタイム)を短縮する。
【解決手段】基板搬送装置は、ゲートバルブを介して連結されたチャンバと、前記ゲートバルブを開状態にして前記チャンバ間でキャリアを搬送路に沿って搬送する搬送機構と、前記キャリアが前記チャンバの停止位置に到達する前に前記キャリアを検知するセンサと、前記センサからの検知信号に基づき前記ゲートバルブの閉動作を開始するよう制御する制御器とを有する。 (もっと読む)


【課題】
段取り替えに要する時間を短くして生産性を向上させた切断装置を提供する。
【解決手段】
本発明の切断装置は、ワーク10を切断する切断装置1であって、ワーク10を供給する供給部100と、切断刃71〜74によりワーク10を切断して、ワーク10を複数の個片化ワーク11に分割する加工部200と、複数の個片化ワーク11を収納する収納部300と、ワーク10を供給部100から加工部200へ搬送するローダ40と、複数の個片化ワーク11を加工部200から収納部300へ搬送するアンローダ41とを有し、供給部100、加工部200及び収納部300は着脱可能に直列に配置されており、ローダ40は第1接続部材によりワーク保持動作用の駆動源に接続されており、第1接続部材の長さを変えることによりローダ40の搬送範囲R1は可変である。 (もっと読む)


【課題】整備空間を確保することのできる基板処理システムを提供する。
【解決手段】本発明の基板処理装置は、内部空間を有するチャンバと、前記チャンバの内部空間に設置され、前記チャンバの一面を通じて引き出すことができ、排気ラインを有する処理ユニットと、前記チャンバに設置される排気部材とを含む。前記排気部材は、前記排気ラインと連結され、前記処理ユニットの移動に伴って移動するように設ける。 (もっと読む)


【課題】今日使用されているシステムと比較して改善されたスループットを妥当なコストで効率的に実現する、ウェーハを含む基板搬送処理装置及び方法を提供する。
【解決手段】重要となる要素は、処理チャンバの各側に沿って配置された搬送チャンバの使用である。この搬送チャンバを使用することにより、基板がロードロックを介して制御された雰囲気中にフィードされ、次いで処理チャンバに到達する手段として、基板が搬送チャンバに沿ってフィードされ、次いで制御された雰囲気外にフィードされた後、処理チャンバ内での基板処理が行われる。 (もっと読む)


【課題】被処理基板を搬送する基板搬送装置において、被処理基板の基板面にうねりを生じさせることなく保持し、基板有効領域を確保する。
【解決手段】基板Gを異なる高さに浮上させる浮上ステージ22と、前記浮上ステージ22の左右側方に平行に配置されるガイドレール25に沿って、移動可能に設けられた一対の基板キャリア26と、前記基板キャリア26の側面に、基板搬送方向に沿って設けられると共に、少なくとも被処理基板Gの側縁部における基板有効領域G1の長さ以上に形成され、該基板の側縁部を下方から着脱自在に吸引保持可能な基板保持部材24と、前記基板キャリア26の側面から前記基板Gの側端部に向けて所定距離を進退自在に設けられたセンタリング部材67を有し、前記センタリング部材67を前記基板保持部材24上に載置された基板Gの側端部に当接させて、該基板Gを所定位置に移動させるアラインメント手段65とを備える。 (もっと読む)


【課題】例えば半導体装置製造用の各種基板などの荷を搬送する搬送システムにおいて、基準データの配信時間をなるべく短くしつつ、基準データを効率よく配信する。
【解決手段】搬送システム(100)は、軌道(1)に係る基準データのうち修正が反映された基準データ部分である修正用データを生成するデータ生成手段(11)と、生成された修正用データをブロードキャスト方式で配信する配信手段(12)と、軌道に沿って荷を搬送可能である搬送車、配信された修正用データを受信する通信手段、受信された修正用データで更新され得る基準データに従って搬送させる搬送制御手段(4)、及び受信される修正用データの通信に係るエラーを検出するエラー検出手段(6)を夫々備える複数の搬送手段(3)と、エラーが検出された場合に、生成された修正用データを再度配信させる再配信制御手段(13)とを備える。 (もっと読む)


81 - 100 / 235