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Fターム[5F031MA26]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 処理装置 (13,378) | 工程 (11,004) | レジスト塗布,その他のスピンコート (605)

Fターム[5F031MA26]に分類される特許

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【課題】 重量が大きく反りが大きい基板に対して塗布液を塗布する場合においても、装置コストを増大させることなく、短い処理時間で精度よく塗布液を塗布することが可能な塗布装置を提供する。
【解決手段】 基板は、基板搬送機構14によりステージ12上に搬送されて、その保持面30に吸着保持される。そして、ステージ12上に吸着保持された基板の表面に、スリットノズル41における塗布液吐出用スリットを近接させた状態で、スリットノズル41を基板に対して移動させることにより、基板の表面に塗布液を塗布する。しかる後、塗布液が塗布された基板は、基板搬送機構15によりステージ上から搬出される。 (もっと読む)


【課題】EUV露光装置内でのウェハー割れを防ぐ薬液塗布装置を提供すること。
【解決手段】実施形態の薬液塗布装置101は、基板の主表面上に薬液を塗布する薬液塗布ユニット102と、前記基板の裏面全体への異物の付着状態を検査する検査ユニット104と、前記検査ユニット104による検査結果に基づいて前記基板を良品として外部に搬出するか否かを判定する制御ユニット114と、を備える。 (もっと読む)


【課題】基板のロットに対応する処理液の種別ごとに用意された複数のノズルを含む液処理部を備えた液処理装置において、液処理部に発生したトラブルに対して処理効率の低下を抑えることができる技術を提供すること。
【解決手段】一のロットのウエハWの液処理に用いる薬液ノズル25aにおいてトラブルが発生した場合に、その一のロットに対応する薬液ノズル25aの使用を停止し、当該薬液ノズル25aとは別の薬液ノズル25bを用いて処理を行う次のロットについては処理を行うこととする。薬液ノズルにおけるトラブル発生の判断については、処理した各ウエハWの液処理状態を順次検査してその良否を判定し、同一の薬液ノズルを用いて異なる液処理部COT1〜COT3にて処理されたウエハWにおいて、例えば3回連続で不良判定となった場合に、薬液ノズルにおけるトラブル発生と判断する。 (もっと読む)


【課題】マガジンの移動機構を簡単化して製造コストを低減することができる液剤塗布装置及び液剤塗布方法を提供することを目的とする。
【解決手段】液剤塗布前の基板4を収容した基板供給用のマガジン5が設置される基板供給部R1、基板供給部R1に設置された基板供給用のマガジン5から取り出されて作業位置に移送された基板4に液剤Qを塗布する塗布ヘッド14、液剤塗布後の基板4を収容する基板回収用のマガジン5が設置された基板回収部R2を備えた液剤塗布装置1において、基板供給部R1に設置された基板供給用のマガジン5を新たな基板供給用のマガジン5に交換する場合に、基板回収部R2から基板回収用のマガジン5を取り除いてその基板回収部R2にそれまで基板供給部R1に設置されていた基板供給用のマガジン5を次に使用する基板回収用のマガジン5として移動させた後、基板供給部R1に新たな基板供給用のマガジン5を設置する。 (もっと読む)


【課題】基板搬送を効率良く行うことで、基板処理のスループットを向上する技術を提供する。
【解決手段】基板9を処理する基板処理装置100である。基板処理装置100は、外部から基板を受け入れる基板受入部1と、基板9に処理液を塗布する塗布部2と、処理液が塗布された基板9を乾燥させる乾燥部3と、基板9を外部に払い出す基板払出部4とを備えている。また、基板処理装置100は、基板受入部1にある複数の基板9を同時に塗布部2に搬送する搬送機構5と、塗布部2において処理液が塗布された複数の基板9を同時に乾燥部3へ搬送する搬送機構6と、乾燥部3にて乾燥された複数の基板9を同時に基板払出部4へ搬送する搬送機構7とを備えている。 (もっと読む)


【課題】サイズの小型化を図り、面積生産性を向上させることができる液剤塗布装置及び液剤塗布方法を提供することを目的とする。
【解決手段】液剤Qが塗布される前の基板4を収容した基板供給用のマガジン5が設置される基板供給部R1、基板供給部R1に設置された基板供給用のマガジン5から取り出されて作業位置に移送された基板4に液剤Qを塗布する塗布ヘッド14、塗布ヘッド14により液剤Qが塗布された基板4を収容する基板回収用のマガジン5が設置された基板回収部R2を備えた液剤塗布装置1において、基板供給部R1と基板回収部R2が上下方向に並んで位置する。 (もっと読む)


【課題】歪みの発生を抑えつつ基板を搬送すること。
【解決手段】帯状のシート基板FBを搬送する搬送装置30であって、シート基板FBを案内する表面を有し、表面とシート基板FBとの間に液状媒体LQを介してシート基板FBを案内するローラー部材Rを備える。ローラー部材Rは、外周面Ra上のうち支持領域Rbで基板FBの裏面を支持した状態で、基板FBを案内する。この場合、基板FBとローラー部材Rの外周面Raとの間に液状媒体LQが介在しているため、液状媒体LQの表面が基板FBを案内する案内面となる。基板FBが液状媒体LQを介して案内されるため、基板FBとローラー部材Rとの間における摩擦力の発生が抑制される。 (もっと読む)


【課題】基板の清浄度を向上させること。
【解決手段】基板処理装置1は、基板Wを保持するスピンチャック3と、スピンチャック3に保持されている基板Wの外周より外側に配置されているカップ6とを含む。カップ6は、気体吐出口から基板W上に向けて気体を吐出することにより、基板Wの上面に沿って流れる気流を形成する。この気流によって基板Wの上面がパーティクルやミストから保護される。 (もっと読む)


【課題】 基板を傾斜させて搬送する場合においても、基板の裏面のみに適切に処理液を塗布することが可能な塗布装置を提供する。
【解決手段】 処理液吐出パイプ30は、搬送ローラ10により搬送される基板100が塗布ローラ20に到達する前に、基板100の下方側で、かつ、搬送ローラ10による基板100の搬送方向の上流側から、塗布ローラ20の表面に向けて処理液を吐出する。そして、搬送ローラ10により搬送される基板100の後端が塗布ローラ20に到達する前に、処理液吐出パイプ30からの処理液の吐出が停止される。 (もっと読む)


【課題】基板処理装置に異常が発生した場合の点検作業を、迅速に誤りなく行う。
【解決手段】複数の処理ユニットと、各処理ユニットでの異常発生を表示する表示手段とを備えた基板処理装置は、異常発生の警報の内容と当該異常発生により点検が必要になる部位とを関連付けた情報と、点検対象部位を、異常が発生していない他の部位からアイソレートするために操作される機器の情報と、点検対象部位の配置及びアイソレートの際の操作対象機器の配置と、アイソレートの際の操作対象機器の操作手順と、を記憶する記憶手段と、記憶手段の情報に基づいて、異常発生により点検が必要となる部位をアイソレートするために操作される機器を特定し、さらに特定された機器の配置を特定して表示手段に出力する異常特定手段と、記憶手段の情報に基づいて、異常特定手段で特定された機器の操作手順を特定して表示手段に出力する操作手順特定手段と、を有している。 (もっと読む)


【課題】機能材料層の厚さ分布を高精度かつ短時間で制御可能な技術を提案する。
【解決手段】実施形態に係わるステージ装置は、被処理基板13の下面側に配置され、上下方向に駆動される複数の高さ制御素子を備える高さ制御ユニット12と、高さ制御ユニット12を制御する制御ユニット15とを備える。制御ユニット15は、被処理基板13の上面を複数のエリアに区分し、かつ、複数の高さ制御素子の各々の高さをデータ値に基づいて制御することにより各エリアの高さを独立に設定する。 (もっと読む)


【課題】多色処理混在型のカラーフィルタ製造ラインに用いられ、品種が変更になった場合に、振分けを行う搬送装置の振分け設定と、処理装置のレシピと、を自動変更することを可能とする製造ライン設定変更システムを提供する。
【解決手段】データ管理用データベースと、ライン内管理システムと、を備え、データ管理用データベースは、予め用意された品種情報管理テーブルと、基板が収納されたカセット情報管理テーブルと、を有し、ライン内管理システムは、製造ライン内に設けられた装置及びデータ管理用データベースとの通信機能を有し、更に、搬送装置の振分け設定の変更指示と、処理装置のレシピ設定の変更指示を行うことを特徴とする製造ライン設定変更システム。 (もっと読む)


【課題】パターン形成装置と塗布現像装置との間における基板の搬送スループットの向上に有利となるパターン形成装置および塗布現像装置を提供する。
【解決手段】このパターン形成装置は、隣設される塗布現像装置との間で基板の受け渡しを実施する。パターン形成装置側の第1制御部は、基板に対してパターン形成処理を開始するに際し、第1搬送ハンド35の動作を開始させたとき、またはその後、塗布現像装置側の第2制御部に対して、新たな基板の受け渡し動作を予告する第1信号(S41−2)を送信して予め第2搬送ハンド52の動作を開始させ、第2搬送ハンド52の動作中に、第2搬送ハンド52の動作を要求する第2信号(S41−4)を送信する。 (もっと読む)


【課題】工程を増やすことなく、未処理基板を精度良くアライメント補正する。
【解決手段】本発明の基板搬送装置100は、待機位置(A点)に載置された一枚の未処理基板W1を、回転塗布ユニット20(B点)へ搬送するものである。この基板搬送装置は搬送フォーク40、シフト機構50、昇降機構60およびガス噴出機構70を有する。搬送フォーク40は未処理基板W1の裏面の両側縁部を支持する爪42を有する。爪42の上面に、未処理基板W1の角の搬送方向上流側に係合されるフック44が形成されている。シフト機構50は搬送フォーク40を搬送方向に可逆にシフトさせる。昇降機構60は搬送フォーク40を昇降させる。ガス噴出機構70は搬送フォーク40の上面から上方へガスを噴出させる。 (もっと読む)


【課題】基板の面内の各部における風向のデータを取得することができる技術を提供すること。
【解決手段】気流のベクトルのデータを取得するための第1のセンサと、第2のセンサとからなる複数のセンサ対がその表面に設けられたセンサ用基板を載置部に載置する工程と、各第1のセンサにより、前記センサ用基板の表面に沿って設定された第1の直線方向における気流のベクトルのデータを取得する工程と、各第2のセンサにより、センサ用基板の表面に沿い、且つ前記第1の直線方向とは傾いて設定された第2の直線方向における気流のベクトルのデータを取得する工程と、同じセンサ対をなす第1のセンサ及び第2のセンサにより各々取得された気流のベクトルをセンサ対毎に予め設定された基点に基づいて合成し、各基点からの風向を演算する工程とを実施し、基板の面内の風向の分布を求める。 (もっと読む)


【課題】ロードポートの個数を見かけ上増加させることにより、装置コストを抑制しつつも収納器の搬送効率を向上させることができる。
【解決手段】仮想ロードポート管理部は、物理ロードポートR−LP1,2に対して2個の仮想ロードポートV−LP1,2を割り当てる。さらに、仮想ロードポート管理部は、基板処理装置5と、キャリア搬送システム7と、ホストコンピュータ9とに対して、2個の仮想ロードポートV−LP1,2を2個の物理ロードポートとして扱わせる。したがって、現実の物理ロードポートの個数以上にロードポートが存在するようにFOUP3の搬送を行うことができ、見かけ上、ロードポートの個数を増加させることができる。その結果、装置コストを抑制しつつも、FOUP3の搬送効率を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】
基板の塗布、現像処理を行う基板処理装置において、インターフェイスブロックS3内の雰囲気温度の変動にかかわらず、基板を露光機S4にて要求されている目標温度に設定すること。
【解決手段】
基板を温調プレート53により温調した上でインターフェイスブロックS3から露光機S4に搬送する。そして温調プレート53を通過する温調流体の温度を検出し、設定温度に基づいてチラー5を制御する。更に、インターフェイスブロックS3内の雰囲気の温度あるいは当該雰囲気を搬送された基板の温度を検出し、その温度に基づいて温調流体の設定温度を調整する。あるいは例えば前記雰囲気の温度が目標温度から外れているときに基板の搬送速度を前記雰囲気の温度が目標温度であるときの速度よりも速くなるようにコントロールする。 (もっと読む)


【課題】基板が薄く大型化しても静電気により基板が割れるのを抑えることができる塗布装置を提供する。
【解決手段】基板を載置する石材製のステージと、前記ステージに載置された基板に対し相対的に移動しつつ塗布液を吐出することにより前記基板上に塗布膜を形成する塗布ユニットと、を有しており、前記ステージの基板が載置される載置面には、載置された基板を前記載置面に吸着させる吸着溝が形成されており、この吸着溝にはアース接続された導電材が埋設されている構成とする。 (もっと読む)


【課題】従来のステージ装置では、処理効率を向上させることが困難である。
【解決手段】ワークWを支持するワークテーブル25と、ワークテーブル25の移動を案内する第1ガイド部81と、第1ガイド部81につなぎ合わされており、ワークテーブル25の移動経路を延長する第2ガイド部82と、第1ガイド部81と第2ガイド部82との継ぎ目77よりも第1ガイド部81側に設けられ、ワークテーブル25が継ぎ目77よりも第1ガイド部81側に位置している状態で、ワークWのワークテーブル25に対する位置精度を検出する第1検出装置14と、継ぎ目77よりも第2ガイド部82側に設けられ、ワークテーブル25が継ぎ目77よりも第2ガイド部82側に位置している状態で、ワークWのワークテーブル25に対する位置精度を検出する第2検出装置15と、を有する、ことを特徴とするステージ装置。 (もっと読む)


【課題】基板を保持して搬送する基板保持部の位置を検出することにより、基板の搬送を監視することができる基板搬送装置を提供する。
【解決手段】基板を支持する支持部を含む搬送機構と、ラインセンサ、及び該ラインセンサに光を照射する光源を含み、前記搬送機構が動作して前記支持部が移動したときに前記光が前記支持部により遮られ得るように配置される位置検出部と、前記ラインセンサからの信号に基づいて、前記搬送部の位置を検出する制御部とを備える基板搬送装置が提供される。 (もっと読む)


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