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Fターム[5F044RR17]の内容

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Fターム[5F044RR17]に分類される特許

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【課題】樹脂組成物層内にボイドが生じることを防止することができる接合方法、このような接合方法を用いて製造される半導体装置、多層回路基板および電子部品を提供する。
【解決手段】本発明の接合方法は、端子52を有する半導体チップ5と、端子44を有する回路基板4とを、半導体チップ5の端子52が設置された面と、回路基板4の端子44が設置された面とが対向するように配置し、端子52とそれに対応する端子44とを電気的に接続するとともに、半導体チップ5の端子52が形成された第1の領域に設けられた樹脂組成物層1で、その第1の領域および回路基板4の端子44が形成された第2の領域を覆うように、半導体チップ5と回路基板4とを接着する接合方法であって、端子52と端子44とを電気的に接続するに際し、減圧雰囲気下で、半導体チップ5と回路基板4とを樹脂組成物層1を介して圧着する。 (もっと読む)


【課題】はんだ部の周囲を被覆する樹脂硬化部の熱伝導性を高め、放熱性を向上させることができる熱硬化性樹脂組成物の提供。
【解決手段】熱硬化性樹脂組成物は、融点が240℃以下のはんだ粒子、熱硬化性樹脂バインダー、無機フィラー、及びフラックス成分として、末端にカルボキシル基を有する、特定の構造の脂肪族カルボン酸化合物が含有されている。 (もっと読む)


【課題】突起電極付ウエハのバックグラインド時には、剥離を生じることなく突起電極の損傷及び変形を抑制することができ、バックグラインド後、接着剤層のみを残して基材部分を剥離する際には、糊残りなく低負荷で剥離を行うことのできる半導体加工用接着フィルムを提供する。また、該半導体加工用接着フィルムを用いた接合信頼性に優れた半導体チップ実装体の製造方法を提供する。
【解決手段】突起電極付ウエハのバックグラインド時には突起電極付ウエハを保持し、かつ、突起電極付半導体チップの実装時には接着剤として機能する半導体加工用接着フィルムであって、ポリエステル系基材フィルムと、電極保護層と、接着剤層とがこの順で積層されており、突起電極付ウエハに貼り合わせた後、25℃、引張り角度180°、引張り速度300mm/分の条件で剥離試験を行ったとき、前記電極保護層と前記接着剤層との間で界面剥離が生じ、前記電極保護層と前記接着剤層とのいずれにも糊残りが観察されず、かつ、剥離強度が5〜400gf/25mmである半導体加工用接着フィルム。 (もっと読む)


【課題】フリップチップ接続方式への対応が可能となるフィルム状接着剤およびそれを用いた半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】(a)重量平均分子量10000以下で常温(25℃)において固形樹脂と、(b)絶縁性球状無機フィラーと、(c)エポキシ樹脂と、(d)マイクロカプセル型硬化剤を含む硬化剤を含有し、(a)の配合量が(a)成分、(b)成分及び前記(c)成分の総量100重量部に対して5〜50重量部、前記(b)の配合量が25〜80重量%、、(c)の配合量が10〜70重量、(d)の配合量が(c)100重量部に対し0.1〜40重量部で、150℃の溶融粘度が200Pa・sより高く、100℃で加熱・加圧した場合の平行板間にはさんだフィルム状接着剤の初期面積と加熱・加圧後の面積との比である流れ量が1.5以上、かつ、硬化物の20〜300℃の平均線膨張係数が200×10−6/℃以下であるフィルム状接着剤。 (もっと読む)


【課題】回路接続時の圧力を従来よりも低くした場合でも、圧痕の形成及び接続抵抗が良好である接続を可能とする回路接続材料を提供すること。
【解決手段】第一の基板の主面上に第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、第二の基板の主面上に第二の回路電極が形成された第二の回路部材との間に介在させ、加熱及び加圧により第一の回路電極及び第二の回路電極を対向配置された状態で電気的に接続するための回路接続材料であって、加圧は1.5MPa以下で行われ、フィルム性付与ポリマー、ラジカル重合性物質、ラジカル重合開始剤及び導電粒子を含有し、フィルム性付与ポリマーは、ガラス転移温度70℃未満のポリマーを含み、その配合量がフィルム性付与ポリマー及びラジカル重合性物質の総量を基準として30〜70質量%である、回路接続材料。 (もっと読む)


【課題】第1の被着体と第2の被着体とを接合する際、容易に、第1の被着体と第2の被着体との位置合わせを行うことができる樹脂組成物を提供すること、および、このような樹脂組成物を用いた接着フィルム、半導体装置、多層回路基板および電子部品を提供すること。
【解決手段】本発明の樹脂組成物は、第1の被着体と第2の被着体とを接合する際に用いられ、前記第1の被着体上に設けられる樹脂組成物層1を構成するものであり、前記樹脂組成物層1を平均厚さt[μm]で設け、前記樹脂組成物層1の波長800nmの光における吸収係数をα[1/μm]としたとき、下記(1)式および(2)式を満たすよう構成されている。
α×t≦−log10(0.05) ・・・(1)
1≦t≦200 ・・・(2) (もっと読む)


【課題】 均一性が高く、短時間での硬化が可能で、さらに硬化後には、PCT試験での吸湿性が低いため、エポキシ樹脂組成物と基板の間での剥離を抑制する、耐湿信頼性に優れたエポキシ樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】 (A)液状エポキシ樹脂、(B)スルフィド構造を含むエポキシ樹脂、(C)硬化剤、および(D)硬化促進剤を含み、かつ(A)成分と(B)成分の合計100質量部に対して、(B)成分を1〜50質量部含むことを特徴とする、エポキシ樹脂組成物である。 (もっと読む)


【課題】 先供給型封止剤として塗布した後、半導体チップを載せるまで、先供給型封止剤が塗布後の形状を保持し、かつ短時間での硬化が可能で、さらに硬化後には、PCT試験での耐湿信頼性に優れたエポキシ樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】 (A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)硬化促進剤、(D)形状保持剤、および(E)揺変剤を含むことを特徴とする、エポキシ樹脂組成物であり、好ましくは、(D)成分が、シロキサン系形状保持剤である。 (もっと読む)


【課題】バインダー樹脂中での分散性を高めることができる絶縁粒子付き導電性粒子を提供する。
【解決手段】本発明に係る導電性粒子は、導電層を少なくとも表面に有する。該導電性粒子0.03gをトルエン1.0gに23℃で分散させたときに、分散液における導電性粒子1g当たりの発熱量は10mJ以上である。本発明に係る絶縁粒子付き導電性粒子1は、導電層5を表面2aに有する導電性粒子2と、導電性粒子2の表面2aに付着している絶縁粒子3とを備える。絶縁粒子付き導電性粒子1の0.03gをトルエン1.0gに23℃で分散させたときに、分散液における発熱量は絶縁粒子付き導電性粒子1の1g当たり10mJ/g以上である。 (もっと読む)


【課題】透明性が高く、接合信頼性にも優れた半導体接合用接着剤を提供する。また、該半導体接合用接着剤を用いて製造される半導体接合用接着フィルム、該半導体接合用接着剤を用いた半導体チップの実装方法、及び、該半導体チップの実装方法により製造される半導体装置を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂、前記エポキシ樹脂と反応する官能基を有する高分子化合物、硬化剤及び応力緩和剤を含有する半導体接合用接着剤であって、前記応力緩和剤は、ゴム成分からなるコア層と、アクリル樹脂からなるシェル層とを有する平均粒子径が0.1〜2μmのコアシェル粒子であり、前記応力緩和剤の含有量は、1〜20重量%である半導体接合用接着剤。 (もっと読む)


【課題】優れた接続信頼性及び透明性を有するエポキシ樹脂組成物及びそれを用いた接合体の製造方法、並びに接合体を提供する。
【解決手段】ノボラック型フェノール系硬化剤と、ジメチルアクリルアミドとヒドロキシエチルメタクリレートとを含む共重合体からなるアクリルエラストマーと、エポキシ樹脂と、エポキシ樹脂100質量部に対して5質量部以上20質量部未満配合された無機フィラーとを含有するエポキシ樹脂組成物2をプリント基板1上にシート状に貼付する貼付工程と、エポキシ樹脂組成物2上に半導体チップ3及びコンデンサ4a〜4dを仮搭載する仮搭載工程と、半導体チップ3及びコンデンサ4a〜4dを熱圧着ヘッド20により押圧し、半導体チップ3及びコンデンサ4a〜4dを本圧着させる本圧着工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】低温速硬化性を有し、かつ実用的な保存安定性を持つ組成物からなり、被着体である金属基板や金属及び無機材質で構成される回路電極の腐食がなく、信頼性低下を防ぐことのできる回路接続用接着剤及びそれらを用いた回路接続方法、接続体を提供する。
【解決手段】エポキシ化合物(A)、光カチオン発生剤(B)、金属水酸化物または金属酸化物(C)及び反応調節剤(D)を含む接着剤組成物と、導電粒子とを含み、金属水酸化物または金属酸化物(C)が、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化チタン、酸化マンガン、酸化ジルコニウムから選ばれる少なくとも一種であり、更に反応調節剤(D)が、鎖状エーテル化合物または環状エーテル化合物である回路接続用接着剤。 (もっと読む)


【課題】本発明は、回路部材の接続を行う際に回路部材接続用接着剤を透過してチップ回路面の認識マークを識別することを可能にし、同時に、回路部材の接続後に導通不良が発生しないこと及び安定した低接続抵抗を得ることを可能にする回路部材接続用接着剤を提供することを課題とする。
【解決手段】熱架橋性樹脂及び該熱架橋性樹脂と反応する硬化剤を含む樹脂組成物と、
該樹脂組成物中に分散している、2種類以上の金属を含み、結晶化した金属酸化物からなる複合酸化物粒子と、を含有する熱硬化型の回路部材接続用接着剤であって、
突出した接続端子を有する半導体チップと配線パターンを有する回路基板とを、前記接続端子と前記配線パターンとが電気的に接続されるように接着するための回路部材接続用接着剤。 (もっと読む)


【課題】高温高湿処理を受けたときに、窒化珪素膜との界面との密着性を向上させて優れた接続信頼性を発揮することが可能な回路接続材料を提供する。
【解決手段】回路接続材料は、(1)多官能(メタ)アクリレートモノマーと、(2)熱又は光によって遊離ラジカルを発生するラジカル重合開始剤と、(3)単官能(メタ)アクリレートモノマーとを含有し、単官能(メタ)アクリレートモノマーは、ビフェニル基又はナフタレン基を有し、ビフェニル基又はナフタレン基とそれに結合する酸素原子との結合位置はオルト位、メタ位、又はパラ位である。 (もっと読む)


【課題】はんだ接続性に優れ、保存安定性も良好な接続信頼性に優れる半導体装置の作製を可能とする回路部材接続用接着剤、それを用いた回路部材接続用接着剤シート、半導体装置及び半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】複数のバンプが形成された第一の回路部材と、該バンプとはんだ接合する回路電極が形成された第二の回路部材との間に介在させ、両回路部材を加熱加圧により接着するための回路部材接続用接着剤であって、加熱加圧前の面積に対する加熱加圧後の面積の倍率を計測する方法で求められる流動性が、両回路部材をはんだが溶融しない温度で熱圧着する第一の加熱加圧条件では1.8〜3.0倍であり、その加熱条件で加熱処理した後、その加熱条件よりも高温でかつはんだが溶融する温度で加熱加圧する第二の加熱加圧条件では1.1〜3.0倍かつ第一の加熱加圧条件での流動性以下である、回路部材接続用接着剤。 (もっと読む)


【課題】電子部品及び基板に応じてアンダーフィルの線膨張係数の最適化を図り、耐衝撃性の向上だけでなく熱疲労等による接合部の不良発生を低減することができる電子部品の実装構造及び実装方法を提供する。
【解決手段】LSIパッケージ1と基板2との接合部に形成されたアンダーフィル3に中央領域35と各辺に沿って4等分した領域に複数の周辺領域31〜34が設定され、これら各領域31〜35が互いに異なる方向に揃えて前記磁性体4を配向する。 (もっと読む)


【課題】異方性導電接着剤用の絶縁被覆導電粒子に、優れた耐溶剤性と導通信頼性とを同時に付与する。
【解決手段】導電粒子の表面が官能基を有する絶縁性樹脂からなる絶縁性樹脂層で被覆されてなる絶縁被覆導電粒子の当該絶縁性樹脂層を、絶縁性樹脂の官能基と反応しうる他の官能基を有する多官能性化合物で表面処理する。絶縁性樹脂の官能基がカルボキシル基である場合には、多官能性化合物として多官能性アジリジン化合物を使用することが好ましく、例えば、トリメチロールプロパン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、テトラメチロールメタン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート又はN,N−ヘキサメチレン−1,6−ビス−1−アジリジンカルボキシアミドが挙げられる。絶縁性樹脂層は、アクリル酸モノマー単位又はメタクリル酸モノマー単位を有する絶縁性樹脂、好ましくは、アクリル酸・スチレン共重合体から構成される。 (もっと読む)


【課題】モジュールの小型化のため、SMD部品と半導体チップの部品間隔を狭くし、両部品を効率よく混載実装することができる小面積の実装構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】回路基板101の第一の電極部103に、SMD部品113の電極部114と接続させるための電極接合材105を形成する工程と、ICチップ107が搭載される領域に絶縁性樹脂110を供給する工程と、ICチップ107を絶縁性樹脂110が供給された領域に搭載すると共に、絶縁性樹脂110を外周囲に選択的に流し広げる工程と、SMD部品113を電極接合材105上に搭載する工程と、電極接合材105と絶縁性樹脂110とを一括して加熱する工程とを有する製造方法とする。 (もっと読む)


【課題】PoPパッケージの信頼性を向上する。
【解決手段】PoPパッケージ10は、主面32aとその反対の裏面32bとを有する半導体チップ32と、半導体チップ32が実装された基板31と、基板31に積み重ねられた基板51と、を備えている。基板31の基板51側に設けられた外部接続パッド35に、基板51の基板31側に設けられた外部接続バンプ53が接続されて、基板31と基板53との間にギャップGが形成されている。ギャップGには、主面32aを対向させて基板31に実装した半導体チップ32と、半導体チップ32の裏面32bに貼り付けられた絶縁性フィルム32とが設けられている。 (もっと読む)


【課題】保存安定性及び低温速硬化性に優れ、硬化物は室温で強靭でかつリペア性、リワーク性を有するアンダーフィル材として有用で、小型電子機器の耐落下性を向上させる半導体装置用封止剤を提供する。
【解決手段】(A)1分子中にエポキシ基を2個以上有する液状エポキシ樹脂 100質量部、
(B)アルケニル基含有液状フェノール樹脂、
(C)マイクロカプセル化硬化促進剤 有効成分として1.5〜50質量部、
(D)1分子中にエポキシ基を1個有するエポキシ化合物からなる反応性希釈剤、及び
(E)無機充填材 0質量部以上、100質量部未満
を含有してなり、
[本組成物中に全エポキシ基/(B)成分中のフェノール性水酸基]のモル比が1.3〜3.0である、
無溶剤型組成物からなる、基板と該基板上に搭載された素子とを有する半導体装置の実装用封止材。 (もっと読む)


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