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Fターム[5F044RR18]の内容

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Fターム[5F044RR18]に分類される特許

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【課題】高温加熱に伴うボイドの発生を十分に抑制でき、十分に高い埋め込み性を示すと共に、接続信頼性と絶縁信頼性とに十分優れた半導体装置を製造可能な半導体封止用接着剤、半導体封止用フィルム状接着剤、及び半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】
(a)エポキシ樹脂、(b)フェノール樹脂及び(c)酸化防止剤を含有する半導体封止用接着剤。 (もっと読む)


【課題】半導体チップと基板との接合を高温条件で実施することが可能であり、高い生産性及び高い接続信頼性の両方を十分高水準に達成できる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】ステージ4及び圧着ヘッド5を有する圧着装置10によって半導体チップ3と基板1との接合を行う半導体装置の製造方法において、半導体チップと、基板と、これらの間に配置された半導体封止用の接着剤層2とを有する積層体に対し、圧着ヘッド及びステージによって当該積層体の厚さ方向に押圧力を加えるとともに、当該積層体を加熱する熱圧着工程を備え、熱圧着工程において、圧着ヘッドの温度とステージの温度の差が300℃未満となるように設定し、半導体チップと基板との接合を行う、半導体装置の製造方法。 (もっと読む)


【課題】低温短時間で硬化させた場合であっても、十分な接着性及び接続信頼性を得ることを可能とする接着剤組成物、それを用いた回路接続用接着剤及び接続体を提供すること。
【解決手段】(a)熱可塑性樹脂、(b)分子内に(メタ)アクリロイル基を2個以上有するラジカル重合性化合物、(c)ラジカル重合開始剤、及び(d)加熱によりイソシアネートを生成する官能基を有するシランカップリング剤を含む接着剤組成物。 (もっと読む)


【課題】大きな面積のウェハを貼り合わせた場合に該ウェハ間に形成される間隙にも十分に注入することができ、かつ注入途中で硬化しない接着部材を提供する。
【解決手段】接続領域を有する接着基板および被接着基板と、接着基板および被接着基板の各接続領域の間に配置された接続部材と、接続部材を囲み、接着基板と被接着基板とを接着する接着部材とを備えた半導体装置であって、接着部材は、官能基を有する主剤と、エネルギーの付与により官能基の活性化機能を発現する硬化剤と、を含み、硬化剤により活性化された官能基が他の官能基と結合することによって硬化する樹脂である半導体装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】回路基板上に半導体素子を搭載した半導体装置及びその製造方法に関し、回路基板やヒートスプレッダから半導体素子へ加わる応力を効果的に緩和する半導体装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】
回路基板30と、一方の面上に突起状端子22を有し、回路基板30に、突起状端子22を介して電気的に接続された半導体素子10と、半導体素子10の他方の面上に接合層24を介して形成され、回路基板30に固定された封止用蓋体36とを有し、突起状端子22及び前記接合層24の少なくとも一方が、弾性体により構成されている。 (もっと読む)


【課題】半導体素子と配線回路基板との間の封止部分にボイドをつくることなく、かつ、効率よく製造できる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体素子3の端子形成面および配線回路基板5の端子形成面の少なくとも一方に、封止材2を配置する封止材配置工程と、13300Pa(絶対圧)以下の減圧下で、配線回路基板5の端子5aと半導体素子3の端子3aとを、上記封止材2を介して対向させた状態で、配線回路基板5と半導体素子3とを押圧して一体化する封止工程と、大気圧下で、上記配線回路基板5の端子5aおよび半導体素子3の端子3aの少なくとも一方を加熱溶融することにより、上記両端子3a,5aを接続する端子接続工程とを備えている。 (もっと読む)


【課題】 撮像素子とガラス基板との間に塵埃等が侵入するのを防止するための工程を容易にする又は省略することができる撮像素子パッケージの製造方法及び撮像素子パッケージを提供する。
【解決手段】 撮像素子1と略同じ大きさに形成される開口部8を有するガラス枠体9を備え、ガラス枠体は、開口部8内に撮像素子1を配置し且つガラス基板2の電極パターン5,…を被覆するようにガラス基板2に固定されるべく、ガラスペーストをガラス枠体9の形状に対応して電極パターン5の上からガラス基板2に塗布する工程と、ガラスペーストを焼成する工程と、撮像素子1をガラス枠体9の開口部8内に配置する工程とを備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 撮像素子とガラス基板との間に塵埃等が侵入するのを防止するための工程を容易にすることができる撮像素子パッケージの製造方法を提供する。
【解決手段】 熱可塑性接着剤8を撮像素子1の受光面3を囲い得る枠状となるようガラス基板2に塗布する工程と、電極パターン5の所定部位に導電性ペースト6を塗布する工程と、撮像素子1の受光面3が枠内に収まるようにし且つ撮像素子1の端子4が電極パターン5に対応するよう撮像素子1をガラス基板2に載置する工程と、外部接続端子4を載置する工程と、電極パターン5及び撮像素子1及び外部接続端子7間を電気的に接続するための導電性ペースト6と共に熱可塑性接着剤8を加熱する工程とを備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 撮像素子とガラス基板との間に塵埃等が侵入するのを防止するための工程を容易にすることができる撮像素子パッケージの製造方法を提供する。
【解決手段】 撮像素子1より大きく形成され、熱硬化性を有し、撮像素子1の受光面3及び導電性ペースト6,…に対応した開口部9,…が形成される両面接着剤シート8を、ガラス基板2に貼着する工程と、両面接着剤シート8の開口部9,…から露出する電極パターン5の所定部位に導電性ペースト6を塗布する工程と、撮像素子1の受光面3が両面接着剤シート8の開口部9内に収まるようにし且つ撮像素子1の端子4,…が電極パターンに対応するよう撮像素子1を両面接着剤シート8に載置する工程と、導電性ペースト6と共に両面接着剤シート8を加熱する工程とを備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】半導体チップの封止用樹脂として要請されるボイド発生抑制、耐湿性を維持しつつ、しかも、薄型チップでもフィレット高さを低く抑えることができて加熱治具と樹脂とが接触することがなく、かつ、フィレット形状が均一で封止性に優れる、半導体チップの圧接工法による実装工程に使用する封止用エポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決の手段】エポキシ樹脂(A)に対して、固形のフェノールノボラック樹脂又はナフトールノボラック樹脂(B)を、前記(A)中のエポキシ基のモル数に対するフェノール性水酸基のモル数が0.01〜0.3倍となる割合で、及び、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸(C)を、前記(A)中のエポキシ基のモル数に対する酸無水物基のモル数の2倍が0.6〜1.2倍となる割合で、それぞれ含有する樹脂先置き型フリップチップ実装における半導体封止用エポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】電子部品を低い加圧力で接続することができ且つ高い接続信頼性を確保できる簡易な実装構造および電子部品実装体を形成する。
【解決手段】微細配線層と脆弱な低誘電率絶縁膜とから成る多層配線層1bを持った半導体素子1の電極端子1aと、回路基板6の電極端子6a(ここではその上に形成した突起電極5)とを導電性接着剤2を介して接続し、半導体素子1と回路基板6との間に封止樹脂4を充填した実装構造において、導電性接着剤2による接続部の周囲に応力緩和層3を設ける。 (もっと読む)


【課題】BGAとプリント回路基板とを接合する際に用いられる接着剤の接合部への浸透性を好適に向上させることができるようにする。
【解決手段】本発明の携帯端末においては、一面に複数のBGA電極3が配列されて設けられるBGA2と、BGA2に設けられたぞれぞれのBGA電極3に対応して、複数の第1の基板電極パッド4−1乃至4−3および4−5が設けられるとともに、BGA電極3が存在しない部分に対応して複数の第2の基板電極パッド4−4が設けられる回路基板1と、BGA電極3と基板電極パッド4とがはんだ接合された状態で、BGA2と回路基板1との間で、複数の第2の基板電極パッド4−4上にはんだ5−4により所定の厚さをもって形成される突起部と、BGA2と回路基板1との間に設けられた樹脂からなる接着剤とを備える。 (もっと読む)


【課題】NSMD型ランド構造を有するBGA型パッケージの半導体装置の信頼性を向上させる。
【解決手段】配線基板WBの表面に配置された半導体チップと、配線基板WBの裏面s2に配置された配線MW、配線MW端のランド部ML、ソルダレジストSR、ボール電極EB、および、保護樹脂PRとを有する半導体装置であって、半導体チップと配線MWとは電気的に接続され、ソルダレジストSRは配線基板WBの裏面s2において配線MWを覆うように形成され、ソルダレジストSRはランド部ML上においてNSMD型の開口部OFを有し、ボール電極EBはランド部MLに電気的に接続されるようにして形成され、保護樹脂PRはボール電極EBとランド部MLとの接触部を含むソルダレジストSRの開口部OF内を埋め込むようにして形成され、保護樹脂PRは有機酸、溶剤、および、硬化剤を含む熱硬化性樹脂である。 (もっと読む)


【課題】高周波向けの半導体素子が形成された半導体チップを搭載する半導体装置において、電気的特性の向上を図ることのできる技術を提供する。
【解決手段】チップ搭載部2は、底部と、この底部を囲むように形成された側壁部を有する凹形状部を備えており、半導体チップ3の裏面とチップ搭載部2の底部表面とを対向させて、チップ搭載部2の底部の中央位置に半導体チップ3を接合した後、底部裏面側から成型金型に樹脂を注入することによりチップ搭載部2の凹形状部の内側に空気層7を残し、その空気層7で半導体チップ3の周囲を覆うことで、半導体チップ3の上面および側面と接触しない封止体6を形成する。 (もっと読む)


【課題】第三者が不正な手段により半導体素子を取り出して、その内部を解析することを防止することができる、耐タンパー性を向上させた構造を備え、且つ、装置の大型化及び信頼性の低下を招くことのない半導体装置、及び、簡易に当該半導体装置を製造することができる方法を提供する。
【解決手段】半導体装置は、半導体素子12と、前記半導体素子12の電子回路形成部13に対向して配置された板状部材11と、前記半導体素子12と前記板状部材11との間に、圧縮状態で配設された弾性体25と、を備え、前記弾性体25は、前記弾性体25の伸長方向の一端に、前記半導体素子12の前記電子回路形成部13に対向して形成された少なくとも1つの突起部25aを有し、前記半導体素子12と前記板状部材11とは接着剤27により固着されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】実装後の半導体チップと配線基板の熱膨張係数差に起因する接続部破壊を抑制する電子デバイスを提供する。
【解決手段】半導体チップは、配線基板と、チップ部品4とを有する。配線基板は、第1主面および第2主面を有する絶縁樹脂層1と、絶縁樹脂層1の第2主面側に配置された第1の配線層2とを有する。チップ部品4は、下面に突起電極5を有する。絶縁樹脂層1は、チップ部品4の下面と側面とが絶縁樹脂層1に接し、チップ部品4の上面が絶縁樹脂層1の第1の主面側に露出する態様で、チップ部品4を保持し、チップ部品の突起電極5が第1の配線層2と接続されている。チップ部品4は絶縁樹脂層1の第1主面より突出している。 (もっと読む)


【課題】COG実装であっても表示ムラの発生を大幅に改善することが可能な半導体チップの実装方法及び液晶パネルを提供する。
【解決手段】液晶パネル10は、互いに対向する主面12a,12bを有するガラス基板12と、ガラス基板12の主面12aに熱硬化性樹脂20を介して搭載された半導体チップ14と、ガラス基板12の主面12bに熱硬化性樹脂24を介して搭載されたダミーチップ16とを備える。半導体チップ14は、主面12a,12bの対向方向から見て、矩形状を呈している。半導体チップ14とダミーチップ16とは、主面12a,12bの対向方向から見たときに重なり合っている。 (もっと読む)


【課題】本発明は、電気的接続について信頼性を向上させることを目的とする。
【解決手段】本発明に係る半導体モジュールは、集積回路12が形成された半導体チップ10と、集積回路12に電気的に接続された複数の電極14と、複数の電極14にそれぞれ電気的に接続された複数のバンプ18と、複数のバンプ18にそれぞれ接触する複数のリード26と、複数のリード26が形成されたベース基板24と、を有する。接着剤28は、硬化して、半導体チップ10のバンプ18が形成された面と、ベース基板24の複数のリード26が形成された面と、の間で間隔を保持する。半導体チップ10には、収縮する方向の応力が残存している。複数のリード26には、少なくとも半導体チップ10から複数のバンプ18を介して、半導体チップ10の中央方向に押圧力が加えられている。 (もっと読む)


【課題】フエイスアップ搭載された半導体チップと高低差のある基板上の電極とを、半導体チップのフエイスダウン接続により接続する。
【解決手段】基板10上にフエイスアップ搭載された第1半導体チップ21の第1電極11と、基板10上に形成された第2電極12とを、フエイスダウンボンディングされた第2半導体チップ22〜24により接続する。この第2半導体チップは、薄く可撓性を有し、フエイスダウンボンディングの際の押圧により弾性変形し、第1電極11と第2電極12の間に段差部22−1を形成する。段差部22−1が高低差を吸収してボンディングが可能となる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、長尺状の樹脂突起18上に配線20が形成される構造でありながら、電気的な接続信頼性を確保することを目的とする。
【解決手段】半導体モジュールは、絶縁膜16の表面上で樹脂ダム24の外側に形成されて長尺状をなす樹脂突起18と、電極14上から樹脂突起18上に至るように延びる配線20と、配線20の樹脂突起18上の部分に接触するリード30と、リード30の樹脂突起18とは反対側を支持するベース基板26と、半導体チップ10とベース基板26の間に配置される接着剤28と、を有する。樹脂ダム24は、絶縁膜16とは反対側がベース基板26に密着して、絶縁膜16及びベース基板26並びに樹脂ダム24によってスペースが区画されている。接着剤28は、スペース内に配置される第1の接着部32と、スペースよりもリード30と配線20の接触部に近い位置に配置される第2の接着部34と、を含む。第1の接着部32はボイド36を含んでいる。 (もっと読む)


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