【課題】従来に比して速やかにガス流量を変化させることができるマスフローコントローラを提供する。
【解決手段】実施形態によれば、マスフローコントローラ１００は、ガス流路構成部材１１０と、流量調整部１３０と、変位量記憶部１４４と、設定回路１４５と、を備える。流量調整部１３０は、ガス流路１１３中に配置され、ガスの流量を調整する弁１３１、および弁１３１の変位量を制御するアクチュエータ１３３を有する。変位量記憶部１４４は、処理手順を実行する前にガス流路１１３に処理手順で規定される流量のガスを流すときの弁１３１の変位量を処理手順ごとに求めた変位量情報を記憶する。設定回路１４５は、処理手順に対応する変位量を変位量記憶部１４４から取得して、取得した変位量に基づいてアクチュエータ１３３を制御する。 （もっと読む）

【課題】流量制御弁の制御装置に関し、簡素な構成で、流量制御弁の中立位置を正確に学習する。
【解決手段】アクチュエータ１２と、作動流体供給源１１と、ストロークセンサ１４と、弁体１９を有するとともに作動流体供給源１１に連絡する供給部１７ａと作動流体を排出する排出部１８ａとアクチュエータ１２に連通する連通部１６ａとを備えた流量制御弁１５と、ストロークセンサ１４の検出値に応じて弁体１９を制御する制御部２０とを備え、制御部２０は、ストロークセンサ１４の検出値により弁体１９が排出部１８ａ側から移動して連通部１６ａを遮断する中立位置と判断されたときの弁体１９の移動量と、弁体１９が供給部１７ａ側から移動して連通部１６ａを遮断する中立位置と判断されたときの弁体１９の移動量とから、弁体１９の中立位置としての移動量を学習する中立位置学習部２２を有するようにした。 （もっと読む）

【課題】流量制御弁の制御装置に関し、簡素な構成で、流量制御弁の中立位置を学習するとともに、学習値を補正する。
【解決手段】作動流体によって作動するアクチュエータ１２と、作動流体を供給する作動流体供給源１１と、アクチュエータ１２のストローク量を検出するストロークセンサ１４と、弁体１９を有するとともに、弁体１９の移動によってアクチュエータ１２と連通もしくは遮断される流量制御弁１５と、ストロークセンサ１４の検出値に応じて弁体１９を制御する制御部２０とを備え、制御部２０は、中立位置を学習する学習部２２と、中立位置におけるストロークセンサ１４の検出値と中立位置における目標ストローク量とのずれ量に応じて予め作成したマップに基づいて、学習部２２による学習値を補正する学習値補正部２３とを有するようにした。 （もっと読む）

【課題】流量制御弁の制御の安定性を向上させ、それに伴い油圧アクチュエータの駆動制御を安定化させると共に、油圧アクチュエータの応答性を確保できる制御装置を提供すること。
【解決手段】流量制御弁１０の目標開度は、油圧アクチュエータ１１の駆動量と目標駆動量とに基づいて設定されるので、流量制御弁１０の開度と油圧アクチュエータ１１の駆動量とを関連付けられる。さらに、流量制御弁１０の開度をフィードバックして流量制御弁１０の開度を調整するので、流量制御弁１０の制御の安定性を向上させ、それに伴い油圧アクチュエータ１１の駆動制御を安定化させると共に、油圧アクチュエータ１１の応答性を確保できる。 （もっと読む）

【課題】フロートの流路内壁面への接触によるパーティクルの発生を防止することができる流量計およびマスフローコントローラを提供する。
【解決手段】ケーシング１１の内側には下方から上方に向けて流体を流す鉛直方向に沿った流路１２が形成される。流路１２の一部はテーパ管１５によってテーパ面１６とされている。流路１２内には棒磁石２１を内蔵するフロート２０が収容される。ケーシング１１の外周面にはリング形状の永久磁石である下部リング磁石３０および上部リング磁石３５が周設される。下部リング磁石３０および上部リング磁石３５の双方からフロート２０の棒磁石２１の下端および上端のそれぞれに同じ磁極の反発力による斥力が及ぼされる。これにより、流体の有無に関わらず、フロート２０が流路内壁面に接触することが常に防止され、その結果パーティクルの発生をも防止することができる。 （もっと読む）

【課題】流路を流通する流体の流量制御の安定化を図る。
【解決手段】流体が流通する流路の開度を調整可能なバルブ４１と、流体の流量を検出する流量検出部３４と、流量検出部３４の検出結果と流量に関する設定値とに基づいて、バルブ４１に供給される駆動電圧をパルス幅変調するバルブ駆動部５３と、前記駆動電圧の変動に応じて前記パルス幅変調のパルス幅を補正する制御部５７，７１と、を備える。 （もっと読む）

【課題】電磁駆動部により吐出される流量を目標流量通りに確保することが可能な流量制御装置を提供すること。
【解決手段】制御部１４は、温度計９にて測定されたプロセスポンプ８に吸引される液体燃料の温度及び温度計１０にて測定されたプロセスポンプ８の周囲温度に基づいてプロセスポンプ８の温度変化を算出し、当該温度変化に基づいて、液体燃料供給ラインＬ２における液体燃料の流量が実際の目標流量となるようにプロセスポンプ８の吐出流量を補正している。また、制御部１４は、温度計１２にて測定されたバーナポンプ１１に吸引される液体燃料の温度及び温度計１３にて測定されたバーナポンプ１１の周囲温度に基づいてバーナポンプ１１の温度変化を算出し、当該温度変化に基づいて、バーナ用燃料供給ラインＬ３における液体燃料の流量が実際の目標流量となるようにバーナポンプ１１の吐出流量を補正している。 （もっと読む）

【課題】機械的な手段以外の方法で流体の流量を調節することにより、装置全体を小型化する。
【解決手段】誘電体層２の中央に、流体が通過する貫通孔２ａが設けられる。電極層３ａ・３ｂは、誘電体層２の表裏に、貫通孔２ａの周囲に輪帯状に形成される。電極層３ａ・３ｂに電圧を印加して誘電体層２を変形させることにより、貫通孔２ａの開口径を変化させる。これにより、貫通孔２ａを通過する流体の流量を調節することができ、流量調節にあたり、従来のような機械的な手段を用いなくても済む。 （もっと読む）

【課題】一次側の圧力が急激に変動しても、二次側の流量に影響が及びにくいマスフローコントローラを提供する。
【解決手段】流路内を流れる流体の流量を測定し、その測定値を示す流量測定信号を出力する流量センサ部と、その流量センサ部の上流側又は下流側に設けた流量制御バルブと、前記流量制御バルブへの制御値を算出する算出部と、を備えたものであって、マスフローコントローラの上流側における前記流体の圧力の測定値である一次側圧力測定値が所定量以上変化した期間である変化期間と、それ以外の期間である安定期間と、において、前記算出部は、前記安定期間では、前記流量測定信号の示す流量測定値と目標値である流量設定値との偏差に所定の演算処理を施して安定時制御値を算出し、前記変化期間では、前記一次側圧力測定値と前記一次側圧力測定値の変化量とに所定の演算処理を施して変化時制御値を算出するようにした。 （もっと読む）

【課題】作動流体によって駆動されるアクチュエータストロークのフィードバック制御装置において、作動流体を制御する流量制御弁の経年変化等を補償し、簡易な手段によりストロークの正確な制御を実行する。
【解決手段】アクチュエータ１１０のストローク制御装置には、作動流体の供給及び排出を制御する単一の流量制御弁１が設置され、これを操作してストロークのフィードバック制御が実行される。流量制御弁１は、作動流体の供給及び排出を停止する中立位置を備えており、流量制御弁制御装置９には、この中立位置の変動を学習する学習装置９１が設けられる。フィードバック制御においては、ＰＩＤ演算部９４の出力するフィードバック操作量に、学習装置９１で得られた中立位置の学習値を加算して流量制御弁１を操作し、経年変化等による流量特性の変化を補償する。 （もっと読む）

【課題】比熱が変動するガスの流量を正確に測定し制御する。
【解決手段】導管を通るガスの流量を調節するための弁手段５、この弁手段を駆動するための駆動手段９、導管を通るガスの流量を測定するための体積流量計７を有し、この流量計が、設定点信号１７との比較のためにフィードバック信号２９を提供する。設定点信号は、設定点信号発生手段１９により発生され、それは所望の流量に対応する値を入力するためのポテンショメーター２１と、以前の設定点から所望の設定点への変更を体積流量計に固有の応答の遅れを保証するのに十分な時間遅らせてガス流量を滑らか且つ安定に制御するための、抵抗器２５及びキャパシタ２７からなるスローダウン回路２３を含む。ポテンショメーターはディジタルポテンショメーターであって、その電圧は回転エンコーダーの独立した操作により変えることができる。 （もっと読む）

【課題】経済的に過流防止を行なうことができるとともに、上流側流体圧の高低によって生じる質量流量に対する閉作動特性の変動を抑制可能な電磁弁を提供する。
【解決手段】弁体１７が電磁的に駆動されて流路が開閉される遮断弁（電磁弁）３において、流体圧に抗して弁体１７を開状態に保持するソレノイドのコイル１８の保持電流値を、遮断弁３の上流側流体圧（一次圧）に応じて選択する制御部を備えた。台座の弁座に対する相対位置を上流側の流体圧によって調整可能にしてもよい。 （もっと読む）

【課題】圧力及び質量流量の両方を反映させるとともにタンク容積の変化も考慮した高精度の検定を行う質量流量制御装置を提供する。
【解決手段】流路6の最上流に設けられた検定用バルブ42と、質量流量制御バルブ機構10と、質量流量制御バルブ機構10より上流側の流路6に設けられたタンク44と、質量流量検出手段8と、圧力検出手段46と、質量流量制御バルブ機構10を制御する手段18と、質量流量検定制御手段48とを有する質量流量制御装置を検定する方法であって、(1) 流路6に設定質量流量の流体を流し、(2) 流体の質量流量が設定質量流量と一致するように質量流量制御バルブ機構10の開度を保持し、(3) 検定用バルブ42を閉じ、(4) タンク44から流出する流体の流れが安定化した後で流体の圧力及び質量流量を測定し、(5) 初期状態において同じ手順で測定しておいた基準の圧力及び質量流量に対する圧力及び質量流量の変化率を求め、(6) 変化率に応じて検定を行う方法。 （もっと読む）

【課題】被制御流体の流量値を設定値（制御目標流量）に短時間に制御することが可能な、コリオリ流量計による流量計測と流量制御装置を提供する。
【解決手段】制御手段２７には、コリオリ流量計２４の流量−差圧特性が予め記憶されている。制御手段２７は、流量制御の開始時或いは流量制御目標値を変更した場合に、差圧計測手段２６からの差圧信号と上記流量−差圧特性に基づき所望の流量に相当する差圧を制御目標値としてポンプ２５の吐出量を制御するようになっている。また、制御手段２７は、流量が所望の流量、若しくはこの近傍に制御された時点でコリオリ流量計２４からの流量信号を制御目標値に移行させてポンプ２５の吐出量を制御するようになっている。 （もっと読む）

【課題】見かけ上差圧の生じない、コリオリ流量計による流量計測と流量制御装置を提供する。
【解決手段】コリオリ流量計２４と，コリオリ流量計２４の上流位置に配置されコリオリ流量計２４へ流体を輸送するポンプ２５と，ポンプ２５の上流側近傍位置とコリオリ流量計２４の下流側近傍位置との差圧を計測する差圧計測手段２６と，コリオリ流量計２４、ポンプ２５及び差圧計測手段２６が電気的に接続され、且つ差圧がゼロ若しくはゼロに近づくようにポンプ２５の吐出量を制御する制御手段２７と，を備えて流量計測・流量制御装置２１を構成する。 （もっと読む）

【課題】管路内を通過する光の量、流体の流量又は流体の圧力を長期間に亘って制御可能な調節孔の制御方法を提供すること。
【解決手段】光又は流体が通過する管路３内に、磁性粒子を含有する粘弾性固体で形成された隔壁５が横断状に配置されている。隔壁５に、光量、流体流量又は流体圧力を調節する調節孔６が軸方向に貫通して設けられている。管路３内に径方向に磁場勾配を生じさせることにより、調節孔６の開口度を変化させる。 （もっと読む）

【課題】平面実装時に従来方式のように位置出しを必要とせず、流量制御装置を締結ボルトで取付けることにより、同時にかつ均一にシール接続を可能とし、殊に、構成部品が簡単であると共に流量制御機器の着脱作業が容易となり、もって、コンパクトな流量制御機器を提供すること。
【解決手段】流量制御機器３を平面実装方式で取付ける取付構造において、流量制御機器３のボデー１１に流体の入口１２と出口１３を設け、この入口１２と出口１３が位置する外側方のボデー１１両端部に平面実装用の締結ボルト１７を取付け、この締結ボルト１７で被取付体２０に流量制御機器３を固定した流量制御機器の取付構造である。 （もっと読む）

【課題】 流体の種別等に応じた各種の変更設定操作を簡単に行うことのできる取り扱い性に優れた汎用性の高い流量制御装置を提供する。
【解決手段】 熱式流量センサを備え、流量制御弁の開度を比例制御して流体の流量を制御する流量制御装置であって、流体の種別に対応付けて熱式流量センサにて計測可能な最大流量を登録したテーブルと、流量制御弁を介して制御する流体の種別を設定する種別設定手段と、設定された流体の種別に応じて前記テーブルを参照して求められる最大流量に従って最大制御レンジを自動設定するレンジ設定手段と、設定された最大制御レンジに対する相対値に従って運用制御レンジをマニュアル設定するレンジ変更手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、半導体製造装置内などへの設置、配管及び配線接続が容易であり、脈動した流体が流れても問題なく流量制御することができ、幅広い流量範囲で微細に流量を制御することができる流体制御装置を提供することにある。
【解決手段】 本発明に係る流体制御装置は、制御用流体の圧力操作により流体の圧力を制御する流体制御弁４と、流体の流量を計測し該流量の計測値を電気信号に変換し出力する流量計測器３と、該流量計測器３からの前記電気信号と設定流量との偏差に基づいて、前記流体制御弁４の開口面積を制御するための指令信号を、前記流体制御弁４または該流体制御弁を操作する機器５６へ出力する制御部６と、を具備することを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】 基板処理時に実際に生じ得るサーマルサイフォン現象に基づくゼロ点シフト量を正確に検出して的確な補正をする。
【解決手段】 熱処理部１１０内にガスを供給するガス供給路２１０と，ガス供給路のガス流量を検出する検出部からの出力電圧と予め設定された設定流量に対応する設定電圧とを比較して，ガス供給路のガス流量が設定流量になるように制御するＭＦＣ２４０と，制御部３００とを備え，制御部は，基板処理を実行する前に予め，ＭＦＣ内を少なくとも基板処理時に使用するガスで置換してＭＦＣの上流側と下流側に設けられる遮断弁２３０，２５０を閉じた状態でＭＦＣからの出力電圧を検出して記憶手段に記憶しておき，基板処理を実行する際には基板処理時に使用するガスのガス流量に対応する設定電圧を記憶手段に記憶されたＭＦＣの出力電圧に基づいて補正し，補正した設定電圧をＭＦＣに設定する。 （もっと読む）