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国際特許分類[B23K26/16]の内容

国際特許分類[B23K26/16]に分類される特許

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【課題】レーザー加工装置において、レーザー照射手段のレンズ保護カバーの汚れを適正に検出する。
【解決手段】チャックテーブルに保持された被加工物にレーザー照射手段によってレーザー加工を行うレーザー加工装置において、レーザー照射手段はレーザー光線を集光する集光器31を備え、集光器31は対物レンズ320と対物レンズ320と被加工物との間に配設され被加工物から飛散するデブリを遮断して対物レンズ320の汚染を防止するレンズ保護カバー342とを備え、集光器31に対向して撮像手段7が配設されてレンズ保護カバー342の汚れを検出するため、レンズ保護カバー342を集光器31から取り外さなくてもレンズ保護カバー342の汚れを確認することができる。 (もっと読む)


【課題】 レーザ加工時に生じるデブリを、加工形状に対応してレーザ加工に影響を与えないように除去し、形態加工の精度を向上させることができるレーザ加工装置を提供すること。
【解決手段】 加工対象物WにレーザビームLを照射して形状形成を行うことで目標の加工形状を得るレーザ加工装置であって、加工対象物Wの上方に円周上に並べて配置された複数の電極部2と、複数の電極部2で囲まれた領域を通して加工対象物WにレーザビームLを照射するレーザ光照射機構と、複数の電極部2のうち任意の一対に電圧を印加して加工対象物の近傍に電界を発生させる制御部とを備え、該制御部が、電圧を印加する電極部2を切り替えて前記電界の方位を制御する。 (もっと読む)


【課題】環状溝に金属の微粒子が付着することを防止できる金属製薄板ドラムの切断装置を提供する。
【解決手段】金属製薄板ドラムの切断装置1は、ドラム保持手段100と環状溝170とレーザ光照射手段200とを備え、レーザ光照射手段200によりドラムWを切断して金属リングを形成する。環状溝170は、被覆材171が設けられている。被覆材171は、例えば、フッ素樹脂、窒化ホウ素被膜又は銅板からなる。 (もっと読む)


【課題】ドロスを極力低減させるとともに、スパッタについても効率的な集塵を行うことができる円筒状ワーク切断装置を提供する。
【解決手段】金属製の円筒状のワークを輪切り状に切断して金属リングを形成する円筒状ワーク切断装置において、回転されているワークWにレーザ光を照射してワークを切断するとき、レーザ光の照射位置P2における切断方向v2と、レーザ光の照射方向v1とが所定の鋭角θをなすように、加工ヘッド200の位置を制御するとともに、位置制御がなされた加工ヘッド200からのレーザ光がワークに照射されることにより生じるスパッタについての集塵を行う集塵手段700を設ける。 (もっと読む)


【課題】被加工物にドロス等が付着することを抑制するレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】レーザ加工装置に、ノズル21の周囲において該ノズル21を取り囲むようにして設けられた吸引用部材23Aと、吸引用部材23Aの底面27に設けられた吸引口28と、吸引口28につながる吸引路24と、吸引路24に順次つながる吸引用配管25及び吸引ポンプ26とを備える。ノズル21が有する噴射口22から被加工物5が有する被加工面19に対してレーザ光9、10を照射し、かつ、噴射口22から被加工面19に向かってアシストガスを噴射することによって被加工物5に対する加工を行う。ノズル21の底面29及び吸引用部材23Aの底面27と被加工面19との間の空間30に存在する物質が、吸引口28と吸引路24と吸引用配管25とを順次経由して排出される。 (もっと読む)


【課題】パーティクル汚染が無く、品質の良好な薄膜でパターニングされた基板を歩留まり良く得ることが可能なレーザ加工方法及びレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】基板1を所定経路に沿って搬送する搬送手段と、基板1の搬送経路の途中で基板1が液体21に浸漬されて取り出されるように配置された液槽20と、液槽20中の液体21を通してレーザ光を薄膜に照射して薄膜を所定形状にパターニングするレーザ光照射装置30と、液槽20から取り出された表面に付着した液体を除去する液体除去装置40とを備えるレーザ加工装置を用いて、薄膜が形成された基板をレーザ加工する。 (もっと読む)


【課題】気化ガス及び微粉末がワークの内壁に付着することを低減させることができる孔開け加工装置を提供することを課題とする。
【解決手段】貫通孔18を通過したレーザ光44は、矢印(1)のように芯体35の連通路41に照射される。このとき、芯体35は溶融せずに、砕かれて微粉末が生じる。吸引手段(図3、符号32)により、空洞部16は吸引されているので、気化ガス及び微粉末は、矢印(2)のように連通路41に吸引される。そして、気化ガス及び微粉末は、連通路41の反対側から矢印(3)のように吸引排出される。芯体35の窪み43と内壁45の距離は比較的大きい。
【効果】気化ガスや微粉末は連通路を通って吸引手段により吸引される。従って、本発明によれば、気化ガス及び微粉末がワークの内壁に付着することを低減させることができる。 (もっと読む)


【課題】気化ガス及び微粉末がワークの内壁に付着することを低減させることができる孔開け加工装置を提供することを課題とする。
【解決手段】ワーク12に挿入される挿入部材33の先端に一体的に形成されると共に空洞部16に挿入され貫通孔18を貫通したレーザ光44を受ける芯体35と、この芯体35に設けられ貫通孔18を形成する際に生じる気化ガスを導く連通孔41と、この連通孔41に導かれた気化ガスをワーク12の基端側に吸引するに示す吸引手段と、を備える。
【効果】気化ガスや微粉末は連通孔を通って吸引手段により吸引される。従って、本発明によれば、気化ガス及び微粉末がワークの内壁に付着することを低減させることができる。 (もっと読む)


【課題】液柱内を導光されたレーザビームの照射によって発生するデブリが被加工物上に付着することを防止可能なレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】被加工物11上で加工が進行する方向の下流側から上流側に向かって被加工物にカバー液を供給して被加工物の上面を該カバー液で覆うカバー液供給手段32を具備し、レーザビーム照射手段24は、レーザビーム発生手段25と加工ヘッド28とを含み、加工ヘッドは、該レーザビーム発生手段から発生されたレーザビームを集光する集光レンズ50と、被加工物に液体を噴射して、該集光レンズで集光されたレーザビームが導光される液柱を形成する液体噴射手段52と、液柱を囲繞するとともに、被加工物の上面との間で僅かな隙間を形成して該カバー液の流れが該液柱に衝突するのを防止する防止壁78とを備え、防止壁は該液柱を形成した液体が流出する開口を有している。 (もっと読む)


【課題】ワークのくり貫き加工を行った後に柱状部材を効率よくワークから離間させる。
【解決手段】ワークWの表面W1に環状を描くようにレーザービームを照射しアブレーション加工を施してワークWの裏面W2にまで至る環状切断面を形成した後、ワークWの表面W1に粘着部材9aを貼着して環状切断面によってワークWから分離された柱状部材101を粘着部材9aに貼り付け、柱状部材101が貼り付いた粘着部材9aをワークWの表面W1から剥がし、柱状部材101をワークWから離間することによってワークWに貫通孔102を形成する。粘着部材9aをワークWの表面W1から剥がすことによって柱状部材101をワークWから離間してワークWに貫通孔102を形成するため、ワークWから柱状部材101を効率よく離間することができる。 (もっと読む)


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