【課題】本発明の目的は、硬質皮膜の有する耐高温酸化性、密着性と潤滑特性の特性を犠牲にすることが無く、特に硬質皮膜の靭性の改善を目的とした。
【解決手段】硬質皮膜は４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ、Ｂから選択される１種以上の金属元素とＳｉを含み、Ｃ、Ｎ、Ｏから選択される１種以上の非金属元素からなり、該硬質皮膜はｆｃｃ構造の柱状組織を有し、該柱状組織中の結晶粒はＳｉ含有量に差がある複数の層からなる多層構造を有し、該層間の境界領域では少なくとも結晶格子縞が連続している領域が存在し、ラマン分光分析による該α型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩα、該β型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩβとしたときに、Ｉβ／Ｉα＜１．０であり、Ｘ線回折による（２００）面の格子定数が０．４１００ｎｍ以上、０．４３００ｎｍ以下であることを特徴とする硬質皮膜である。 （もっと読む）

【課題】硬質皮膜の耐欠損性、潤滑性の特性を犠牲にすることが無く、特に優れた靭性を有する硬質皮膜を提供する。
【解決手段】硬質皮膜は、４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ、Ｂ、Ｓｉから選択される１種以上の金属元素と、Ｓを含みＣ、Ｎ、Ｏから選択される１種以上の非金属元素によって構成され、該硬質皮膜は柱状組織構造を有し、該柱状組織構造の結晶粒はＳ成分に組成差を有する多層構造を有し、少なくとも該多層構造における層間の境界領域で結晶格子縞が連続している領域があり、各層の厚みＴ（ｎｍ）が０．１≦Ｔ≦１００、（２００）面の格子定数が０．４１００ｎｍ以上、０．４３００ｎｍ以下であることを特徴とする硬質皮膜である。 （もっと読む）

【課題】硬質皮膜の密着性と靭性の特性を犠牲にすることが無く、特に硬質皮膜の高硬度化による耐摩耗性を改善することである。
【解決手段】硬質皮膜は、４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ、Ｂから選択される１種以上の金属元素とＳｉを含み、Ｃ、Ｎ、Ｏから選択される１種以上の非金属元素からなり、該硬質皮膜は柱状組織を有し、該柱状組織中の結晶粒はＳｉ含有量に差がある複数の層からなる多層構造を有し、該層間の境界領域では少なくとも結晶格子縞が連続している領域が存在し、各層の厚みＴ（ｎｍ）が０．１≦Ｔ≦１００、であり、該硬質皮膜中に存在するＳｉはα型Ｓｉ_３Ｎ_４とβ型Ｓｉ_３Ｎ_４の結晶質相として存在し、ラマン分光分析による該α型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩα、該β型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩβとしたとき、１．０≦Ｉβ／Ｉα≦２０．０であることを特徴とする硬質皮膜である。 （もっと読む）

【目的】一部に真空アークプラズマを用いて、ドロップレットの影響を受けることなく高純度に、かつ円滑に単一膜、混合膜及び積層膜を成膜するプラズマ表面処理方法、プラズマ処理装置及びこれらを用いて処理された目的物を提供する。
【構成】２種類の第１プラズマ１６及び第２プラズマ１７を使用する。各プラズマは、第１プラズマ発生部２、第２プラズマ発生部３において真空雰囲気下に設定されたアーク放電部で真空アーク放電を行って発生させる真空アークプラズマであり、第１と第２プラズマ導入路２２、２３を介して共通輸送ダクト１０に導入される。このとき、第１及び第２プラズマ１６、１７を共通輸送ダクト１０に導入するタイミングを制御して、プラズマ処理部１内のワークＷ表面に対して積層膜形成等の表面処理加工が行われる。各プラズマ導入路のプラズマ導入角度は共通輸送ダクト１０の輸送方向に対して鋭角に設定されている。 （もっと読む）

【課題】内部応力の緩和された多層膜を備えた光学多層膜フィルタおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】多孔質層１３には空隙が存在するので、多層膜２の他の層で発生した内部応力が多孔質層１３に加わっても、多孔質層１３内部に伝わる応力が空隙の存在によって分散できる。分散された応力はあらゆる方向を向くため、多孔質層１３内で応力を打ち消すことができ、多層膜２全体としての内部応力を緩和できる。したがって、内部応力による品質への影響が少なくなり、基板の歪、膜全体あるいは膜の一部の剥離等の問題を低減できる。
また、多孔質層１３の蒸着中に、基板１０の表面が高周波振動によって微細な振動をしているので、蒸着材料が基板１０に到達した際に微細粒子化でき、形成中の層に空隙を発生させることができる。 （もっと読む）

【課題】難削材の重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットからなる超硬基体の表面に、（ａ）０．５〜２μｍの平均層厚を有し、かつ特定の組成式：（Ｔｉ_1-ＺＡｌ_Ｚ）Ｎを満足する（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層からなる基体密着層、（ｂ）１〜５μｍの平均層厚を有し、かつ特定の組成式：（Ｔｉ_{1-（X＋Ｙ）}Ａｌ_XＳｉ_Ｙ）Ｎを満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｓｉ）Ｎ層からなる下部層、（ｃ）０．１〜１．５μｍの平均層厚を有する窒化バナジウム層からなる層間密着層、（ｄ）１〜５μｍの平均層厚を有し、かつＶＯ_Ｍ（酸化バナジウム）の素地に、前記ＶＯ_Ｍとの合量に占める割合で、０．５〜７原子％の金属Ｖが分散分布した組織を有するＶ分散ＶＯ_Ｍ層からなる上部層、以上（ａ）〜（ｄ）で構成された硬質被覆層を形成してなる。 （もっと読む）

【課題】 ルツボ６内の蒸着材料５の蒸気１０や、電子ビーム８でイオン化されたイオン１３が、電子銃７に到達することを防止した蒸着装置を提供する。
【解決手段】 被蒸着物である高分子フィルム１が巻き付けられた冷却キャン２の斜め下方に蒸着材料５を配設し、該蒸着材料５の斜め上方に、垂下方向にビーム照射する電子銃７を配設し、該電子銃７の斜め下方であり、電子銃７と蒸着材料５の略中間高さ位置に偏向器１９を配設し、電子銃７および蒸着材料５を直線で結ぶ経路を遮蔽する遮蔽板２１と、偏向器１９および蒸着材料５を直線で結ぶ経路を遮蔽する遮蔽板２２とを配設する。偏向器１９の偏向により、電子ビーム８は、蒸気発生濃度が薄く、電子ビーム散乱の発生度合いが小さい、蒸着材料５の横方向から照射することができる。また蒸気１０は遮蔽板２１、２２により遮蔽され、電子銃７および偏向器１９にダメージを与えない。 （もっと読む）

【課題】 非晶質炭素膜の成膜速度を向上し得、非晶質炭素膜を高速で成膜し得る非晶質炭素膜の成膜方法を提供する。
【解決手段】 アンバランストマグネトロンスパッタリング蒸発源を２個以上、または、アンバランストマグネトロンスパッタリング蒸発源および磁場印可方式のアーク放電式蒸発源を各々１個以上設け、これらの蒸発源の中、少なくとも１個のアンバランストマグネトロンスパッタリング蒸発源のスパッタリングターゲット材に固体炭素を用い、雰囲気をスパッタ用不活性ガスと炭素含有ガスの混合ガス雰囲気とし、非晶質炭素膜を成膜する非晶質炭素膜の成膜方法であって、前記蒸発源のそれぞれの磁場を隣の蒸発源の磁場と逆極にし、且つ、前記アンバランストマグネトロンスパッタリング蒸発源に周波数５０〜４００ＫＨｚのパルス電位を付与することを特徴とする非晶質炭素膜の成膜方法等。 （もっと読む）

【課題】高硬度、耐高温酸化性の優れる硬質皮膜においても密着性を犠牲にすること無く、特に靭性を改善し、高温状態での耐溶着性、潤滑特性も改善し、例えば切削加工などにおける乾式化、高速化、高送り化に対応可能な硬質皮膜を提供する。
【解決手段】物理蒸着法により基体表面に形成された硬質皮膜であって、該硬質皮膜は４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ、Ｂから選択される１種以上の金属元素とＳｉを含み、Ｃ、Ｎ、Ｏから選択される１種以上の非金属元素からなり、該硬質皮膜は柱状組織を有し、該柱状組織中の結晶粒はＳｉ含有量に差がある複数の層からなる多層構造を有し、該層間の境界領域では少なくとも結晶格子縞が連続している領域が存在し、各層の厚みＴ（ｎｍ）が０．１≦Ｔ≦１００、であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】原料粉を基板に噴射することにより原料粉を堆積させるＡＤ法において、原料粉の凝集を抑制することにより高品質な膜を形成できる成膜方法を提供する。
【解決手段】原料粉をガスによって分散させることによりエアロゾルを生成する工程（ａ）と、工程（ａ）において生成されたエアロゾルを、基板が配置された成膜室に導入する工程（ｂ）と、該成膜室に設けられたノズルからエアロゾルを基板に向けて噴射することにより、原料粉を基板上に堆積させる工程（ｃ）とを具備し、工程（ａ）が、原料粉として、界面活性剤によって被覆され、圧縮度が３０％以下である粉体を用いることを含む。 （もっと読む）