【課題】 同一チャンバ内で基板ステージ上の処理基板に対し、ＡＬＤ法による成膜とスパッタリング法による成膜とを行い得るように成膜装置を構成する場合に、ターゲットが、ＡＬＤ法を行う際に導入する原料ガスや反応ガスによって汚染されないようにする。
【解決手段】 真空チャンバ１１内に基板ステージ１２を配置し、ターゲットを有するスパッタリング成膜手段４を、ターゲット４１ａと処理基板とを相互に対向させて設ける。真空チャンバをターゲットが存する第１空間５１と基板ステージが存する第２空間５２とに仕切る仕切り板５を設け、仕切り板に処理基板が臨む開口部５ａを形成し、開口部を覆って第１空間及び第２空間相互の隔絶を可能とする閉位置と、開口部を開放する開位置との間で移動自在な遮蔽手段６を配置する。化学的成膜法により成膜を行い得る化学的成膜手段を第２空間に設ける。 （もっと読む）

【課題】 厚さの薄い基板に光学多層膜を形成する場合でも、片面のみの成膜で基板の反りを防止し、光学多層膜の光学特性を長期間安定させ、また、生産コストを低減させることが可能な光学多層膜の形成方法を提供すること。
【解決手段】 真空槽１１内に基板保持部材１４が配設され、該基板保持部材１４に取り付けられた基板２上に、屈折率の異なる低屈折率層と高屈折率層とを交互に積層する光学多層膜の形成方法において、少なくとも高屈折率層を形成する際に、真空槽１１内にプロセスガスを導入し、真空槽１１内の成膜真空度を０．０６Ｐａ以上０．１５Ｐａ未満になるようにプロセスガスの導入量を制御する工程と、基板２に対向して設けられたプラズマガン２１よりプラズマを発生させる工程とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】剥離がなく耐スパッタ性の高い保護膜を実現し高輝度で長寿命なＰＤＰを提供する。
【解決手段】前面ガラス基板１１上に表示電極１２と誘電体層１３と第一の保護膜１４と第二の保護膜１５とを備えた前面板１０と、背面ガラス基板２１上にアドレス電極２２と下地誘電体層２３と隔壁２４と蛍光体層２５とを備えた背面板２０とが、放電空間３０を介して対向配置され、第一の保護膜１４の膜密度と第二の保護膜１５の膜密度とを異ならせている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ターゲットの消耗量を減らすことができ、被蒸着物と蒸着膜との密着力を向上させることができる蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明による蒸着装置は、前記被蒸着物を収容する第１真空チャンバーと；前記第１真空チャンバー内に設けられ前記被蒸着物に蒸着粒子を放出するターゲットと；前記ターゲットを支持し前記ターゲットから前記蒸着粒子を放出させるスパッタソースと；前記第１真空チャンバーと連通するように設けられる第２真空チャンバーと；前記第２真空チャンバーに結合され前記被蒸着物にイオンビームを放出するイオンビームソースと；を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、プラズマを用いて機能要素の化学的に官能化された表面および／または界面を製造する方法に関する。 （もっと読む）

【課題】レンズ表面に真空蒸着法により膜形成するレンズへの膜形成方法及び装置であって、レンズの膜形成対象表面に、膜厚均一性に優れ、緻密性等の膜質の点でも優れた膜を密着性良好に形成することができるレンズへの膜形成方法及び装置を提供する。
【解決手段】成膜室１０内に膜形成対象レンズ６をレンズ光軸Ｌが蒸着源４０からの蒸着物質垂直上昇方向αに対し傾斜する姿勢で配置し、該レンズ６を自転駆動しつつ蒸着源４０から蒸着物質をレンズ６に蒸着させるとともにイオン又はプラズマをレンズ６に対し照射し、イオン又はプラズマの照射をレンズ光軸方向及び（又は）略レンズ光軸方向から照射する。 （もっと読む）

【課題】 電子ビーム蒸着法をはじめとする真空蒸着法を使用して基板上にＭｇＯ膜を成膜するためにターゲット材として使用する単結晶ＭｇＯ焼結体であって、得られたＭｇＯ膜の密度及び耐スパッタ性を低下させることなく、優れた膜特性、例えば、ＰＤＰ用保護膜として使用した場合の放電特性などを向上させること。また、その単結晶ＭｇＯ焼結体をターゲット材として得られたＰＤＰ用保護膜を提供することである。
【解決手段】 粒径２００μm以上の粒子を含有するとともに、Ｘ線回折法により測定した（２００）面のＸ線強度及び（１１１）面のＸ線強度を、それぞれａカウント毎秒及びｂカウント毎秒としたとき、２０＜ａ／ｂ＜３００であることを特徴とする単結晶ＭｇＯ焼結体、及び、この単結晶ＭｇＯ焼結体をターゲット材として使用し、電子ビーム蒸着法、イオン照射蒸着法、又はスパッタリング法により製造したＰＤＰ用保護膜である。 （もっと読む）

【課題】 耐擦傷性及び撥水性の耐久性により優れた光学部材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 プラスチック基材と、このプラスチック基材上に真空蒸着法で形成された多層反射防止膜と、この多層反射防止膜上に形成された撥水層とを有する光学部材であって、前記多層反射防止膜の最外層が、二酸化ケイ素を含有する無機物質と、有機ケイ素化合物及び／又はケイ素非含有有機化合物とを蒸着原料として真空蒸着法で形成され、かつ酸素及び／又はアルゴンイオンが照射されてなるハイブリッド層であり、前記撥水層が、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を含む撥水原料が電子銃による加熱処理で、前記最外層に蒸着されてなる層である光学部材である。 （もっと読む）

【課題】基材との密着性に優れ、精密金型としての寸法精度、離型性に優れた含フッ素薄膜撥が得られる。
【解決手段】 基材表面に形成され、該含フッ素薄膜は基材表面に蒸着法によって堆積できる含フッ素有機物質と、イオンビームスパッタ法によって堆積できる物質とが同時に堆積されてなり、上記含フッ素有機物質がパーフルオロ系高分子であり、該高分子は、少なくとも１個の二重結合もしくは三重結合炭素、−ＣＯＯＨ基、または、−Ｓｉ（ＯＲ）₃基（Ｒはアルキル基を表す）を分子内に含み、上記含フッ素有機物質が非晶質パーフルオロ樹脂である。 （もっと読む）

【課題】基体表面にプラズマ密度の異なる少なくとも２種以上の物理蒸着源を併用することより、硬質皮膜の耐酸化性及び耐摩耗性を向上させることである。
【解決手段】基体表面にプラズマ密度の異なる少なくとも２種以上の物理蒸着源を併用することよって被覆した硬質皮膜の製造方法において、該硬質皮膜を電子顕微鏡により観察した際に、複数の層が存在し、第１の層は、該プラズマ密度の高い蒸発源により形成され、且つ、連続的に結晶成長し、第２の層は、該プラズマ密度の低い蒸発源により形成され、更に、第１の層と第２の層とは、界面を形成することなく成膜されていることを特徴とする硬質皮膜の製造方法である。 （もっと読む）