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国際特許分類[C25D7/00]の内容

化学;冶金 (1,075,549) | 電気分解または電気泳動方法;そのための装置 (15,555) | 電気分解または電気泳動による被覆方法;電鋳 (10,553) | 被覆される物品に特徴のある電気鍍金 (2,030)

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【課題】
メッキ高さが高く多段段差形状を有するメッキ形成物の形成を可能にする。
【解決手段】
ネガ型ホトレジスト組成物を、(a)アルカリ可溶性樹脂、(b)酸発生剤、(c)その他の成分を含有するネガ型ホトレジスト組成物とし、
(A)ネガ型ホトレジスト組成物の層を形成し、加熱後、露光する。
(B)前記工程(A)を2回以上繰り返してネガ型ホトレジスト層を積み重ねた後、全ての層を同時に現像することで多層レジストパターンを形成する。
(C)多層レジストパターンにメッキ処理を行うことによりメッキ形成物を形成する。 (もっと読む)


【課題】めっき中に被めっき微粒子が凝集することなく、また、めっき剥がれが生じることがなく、粒径の小さい被めっき微粒子に対して均一なめっき層を形成することができる導電性微粒子の製造装置、導電性微粒子の製造方法、及び導電性微粒子を提供する。
【解決手段】表面に電気めっき層が形成された導電性微粒子の製造装置であって、めっき槽とめっき槽内に浸漬した状態で回転可能なバレル(5)と陰極と陽極とを備え、陰極(9)はバレルの内壁に配設され、バレルは容量が10〜300mlであり、めっき液のみが通過可能なように被めっき微粒子の粒径未満の孔径のフィルター(7)を有し、バレル内にめっき液を強制的に供給しながら又はバレル内からめっき液を強制的に抜き出しながら電気めっきを行い得る手段を有する導電性微粒子の製造装置、好ましくは陰極(9)はバレルの回転軸(20)と平行に設けられたバレル側面の内壁に配設される製造装置。 (もっと読む)


本発明は、電気的接続のための部材上にSnリッチ堆積層を有する電子部品であって、Snリッチ堆積層が、堆積表面に対して平行な方向におけるサイズよりも堆積表面に対して垂直な方向におけるサイズの方が小さい粒子からなる微細粒Snリッチ堆積層である電子部品に関する。本発明はまた、電気的接続のための部材上にSnリッチ堆積層を形成するために電子部品をメッキするプロセスであって、開始添加物及び光輝性添加物が含まれているスズメッキ溶液の組成を調整するステップと、前記スズメッキ溶液中を通して前記電子部品を動かして、電気的接続のための前記部材上に前記Snリッチ堆積層を形成するステップと、を含むプロセスに関する。従来の技術と比較すると、本発明は、低コストで且つ信頼できる特性をもってウィスカ成長を有効に抑制することができる。
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【課題】組立時にコネクタ端子の表面に傷などが生じても耐腐食性の低下を防ぐ。
【解決手段】組立工程においては端子部2並びに保持部4のところで圧入治具50とコネクタ端子1とが接触しているために当該接触部位にて封孔処理剤の被膜やめっき等に傷が付きやすい。また端子部2の切断面では銅素材が露出してしまうために切断面を含めた上記傷の部分で腐食が発生しやすなる。そこで、組立工程の後に第2の封孔処理工程を行い、傷によってめっきが露出している部位や銅素材が露出している切断面に封孔処理剤を塗布して封孔処理を施す。すなわち、めっきや銅素材が露出した部位を封孔処理剤の被膜で覆うことによって耐腐食性の低下を防ぐことができる。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、表面が平滑でかつ耐熱性を有する銅合金箔にNiめっきを施したプリント配線基板用金属材料を提供することにある。
【解決手段】300℃で1時間加熱しても軟化しない圧延銅合金箔の少なくとも一方の面を光沢面に仕上げ、その面に0.3μm以上のNiもしくはNi合金めっきを施すことを特徴とするプリント配線基板用材料である。また、耐熱性銅合金箔としてSn入り銅箔やCrおよびZr入り銅箔が好ましく、光沢面に施したNiめっきは60度鏡面光沢度が40%以上の表面を有し、光沢Niめっきが好ましい。 (もっと読む)


電解液槽は、200から250g/lの硫酸クロムカリウムと、30から35g/lのシュウ酸ナトリウムまたはシュウ酸カリウムと、100から110g/lの硫酸アルミニウムと、15から20g/lの弗化ナトリウムと、を含み、46℃から48℃の温度と1.1から1.3のpHとを有する。電解鍍金方法は、少なくとも1つの陽極、基板の表面の少なくとも一部を支持するように構成された陰極、及び、50から500g/lの三価クロムと、10から100g/lのシュウ酸塩と、20から150g/lの硫酸アルミニウムと、5から30g/lの弗化ナトリウムと、を含む電解液を含む電解液槽を準備する段階と、前記電解液槽内に配置された前記陽極から前記陰極に向かって前記電解液槽に電流を流す段階と、前記電解液の温度及びpHを保持する段階と、前記基板の前記表面上に前記三価クロムを堆積する段階と、を含む。
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金属支持体(2)を有し、その上にコンタクト層(3)が勾配層の形で設けられている電気コンタクト、特に差込接続の電気コンタクトが提案されている。この勾配層(3)は、少なくとも2種の元素から形成されていて、その一方は銀であり、かつ第2の元素のためのマトリックスを形成するかもしくは第2の元素と合金されているか、又はその一方はニッケルであり、かつその他方はリンであるか、又はその一方はインジウムであり、かつその他方はスズである。
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鉛含有銅合金を溶液中にクロム酸を含まずリン酸化合物を含む酸性溶液に浸漬し、表面の鉛を除去することを特徴とする鉛含有銅合金の鉛溶出低減処理方法及び鉛含有銅合金製水道用器具であるため、酸性のリン酸化合物による若干のエッチング効果と微小なリン酸皮膜が形成されるのみであるので大きな変色を伴うことなく、商品価値も低下しない。また、塩化ナトリウムを添加してもよく、鉛溶出低減についても十分効果がある。前工程として、鉛含有銅合金をアルカリ性のエッチング液に浸漬して表面の鉛を除去してもよい。これらの鉛含有銅合金は外部表面が、ニッケルクロムめっきをはじめとするめっきが施されていても問題はない。
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【課題】 FPC端子部におけるコネクタ嵌合部でのウイスカの発生を抑制し、かつ部品実装部に於いては半田濡れ性を十分に確保できるFPCを提供すること、またFPC端子部の配線回路の好ましい電解めっき処理方法を提供することにある。
【解決手段】 FPC端子部におけるコネクタ嵌合部の配線回路には、厚さ0.5〜2μmの鉛フリー半田めっき層が形成され、かつFPCの部品実装部の配線回路には、厚さが2μm以上の鉛フリー半田めっき層が形成されると共に、前記鉛フリー半田めっき層には、140℃以上180℃以下の温度で1時間以上の熱処理が施されるか、或いは鉛フリー半田めっきの融点以上の温度で0.1秒以上の熱処理が施されたFPCとすることによって、解決される。 (もっと読む)


化学的及び電解的に加工物(1)を処理する装置及び方法は、一方の面でのブリッジ(短絡)又は他方の面でのプリント回路基盤の開路だけでなく、微細導電性構造、パッド及びランドの不規則な外形の回避を図って提案される。装置は、加工物処理用の処理タンク(2)とその運搬用のコンベア装置を有する。コンベア装置は、少なくとも1つの運搬キャリッジ(18)、少なくとも1つの保持要素(14、25)及び運搬キャリッジと保持要素との間の少なくとも1つの接続手段(12、13、35)を有する。処理タンクはクリーンルームゾーン(3)と隣接している。加工物は、コンベヤ装置を使用してクリーンルームゾーンを通って運ばれる。
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