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国際特許分類[H01L21/673]の内容

国際特許分類[H01L21/673]に分類される特許

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【課題】搬送ロボット等により吸着された反りのあるウェーハでも破損させることなく収納する。
【解決手段】ウェーハ収納カセット10であって、ウェーハWの周縁部W1を厚さ方向両側から押圧可能なウェーハ固定板11とウェーハ固定板をウェーハ厚さとなる方向に略平行状態に移動可能とする位置規制手段とからなり、ウェーハ固定板には収納するウェーハ口径に対応してウェーハ周縁部以外にウェーハ固定板が当接しないように開口部11cが設けられ、位置規制手段は、複数のウェーハ固定板に設けた貫通孔11a,11bを貫く位置規制棒15,16と、隣接するウェーハ固定板にそれぞれ両端が回動可能に接続されたリンク棒12,13とを有し、ウェーハの搬出入時にはウェーハの両側のウェーハ固定板の間隔を広げ、ウェーハの収納時にはウェーハ固定板でウェーハを押圧してウェーハの反り変形を矯正する。 (もっと読む)


【課題】ウエハ収納容器を誤って横向きに落下させてしまったような場合でも、その内部に収納されている半導体ウエハが破損し難いウエハ収納容器を提供すること。
【解決手段】複数の半導体ウエハ(W)が格納された状態のウエハ収納容器に複数の半導体ウエハ(W)の自重の35倍の荷重が側方から半導体ウエハ(W)の面と平行方向に作用したときに、ウエハ仮置部(10)が半導体ウエハ(W)との当接部(12A)において変位量2.5mm〜10mmの範囲で弾性変形するよう、ウエハ仮置部(10)の弾性変形量を増大させるための弾性変形幇助部(11X,12X)がウエハ仮置部(10)に形成されている。 (もっと読む)


【課題】内部空間の雰囲気を仕切ることによって、相互汚染が生じるのを抑制することができる基板収容器を提供する。
【解決手段】FOUP1に仕切り板DP1を装着すると、収容器本体3の内部空間5を複数の雰囲気(第1の空間SP1,第2の空間SP2)に仕切ることができる。したがって、内部空間5の仕切られた各雰囲気を使い分けることにより、基板の相互汚染を抑制することができる。また、特殊なFOUP1ではなく、規格化された標準的なFOUP1を用いることができるので、コストの上昇を仕切り板DP1に相当する分だけですませることができる。したがって、FOUP1内における内部空間5の雰囲気を容易に低コストで分離することができる。 (もっと読む)


【課題】長期に亘って、サポート治具の着脱を容易に行えると共に、サポート治具を取付けた場合、そのサポート治具を高い位置精度をもって保持できる基板収納容器を提供する。
【解決手段】サポート治具30を、上下動については、支持部材25を第1、第2係合片部33、34で上下に挟持することにより、後方動については、サポート治具30と進入規制部10、28b、36との当接関係により、前方動については、支持部材25の段差面29と第2係合片部34bとの当接関係により、規制することで高い位置精度をもって保持する。支持部材25への取付けは、撓み性を利用して第2係合片部34bを、段部27を乗り越えて支承部26の一方の板面に当接させ、支持部材25からの取り外しは、把持し易い一対の係合支持板部31を互いに近づくようサポート治具30を縮径させて、第2係合片部34bと段差面29との当接関係を解除することで、着脱を容易に行える。 (もっと読む)


【課題】供給側と排気側の何れにも用いることができるパージ用の開閉バルブを備えた基板収納容器及びこれを用いた気体の置換方法を提供する。
【解決手段】貫通孔42が形成された円筒状のボール開閉弁40を、下筒10に回転自在に軸支し、ボール開閉弁40を収容する保持筒30を、下筒10に対して軸線方向に移動可能に収容し、保持筒30の内壁に、下筒10を軸線方向に案内する第一カム溝44と、下筒10の移動に伴いボール開閉弁42を回転させる第二カム溝45とを形成する。そして、第一カム溝44及び第二カム溝45の案内によりボール開閉弁40を回転させ、通常時は、貫通孔42が軸線方向に対して垂直な方向を向かせることで、容器内部を気密に保持し、保持筒30に対して下筒10が容器内部側に移動させて、貫通孔42が軸線方向に対して平行な方向を向かせることで、容器内外を連通させる。 (もっと読む)


【課題】大径基板に対応した搬送系を構成する基板収容器(フープ)に、サイズダウンした基板を格納できるようにする。
【解決手段】8インチウェーハを支持し得る第1支持溝16eに支持される上部板401および下部板402と、上部板401および下部板402に設けられ、2インチウェーハであるウェーハ14(必要に応じて、ウェーハホルダ100およびホルダ部材405を介して)を支持し得る第2支持溝404を有する各保持柱403a〜403cとを備える。8インチウェーハに対応したポッド16に、2インチウェーハであるウェーハ14を格納でき、搬送系であるポッド16を共通化して半導体製造装置のコストを削減できる。各ガス供給ノズルから各ウェーハ14までを遠ざけて、各ウェーハ14に到達する前に反応ガスを充分に混合させることができ、各ウェーハ14への成膜精度を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】基板を一部はみ出させた状態で支持し、該基板の側面に接して囲むように、主面に保持部を設けたトレイが備えられた、半導体製造装置を提供する。
【解決手段】プロセス処理を行うチャンバ101と、チャンバ101内に配され、平坦な一面102Sを有する支持台102と、一方の主面103Sが、支持台の一面102Sに接して重なるように載置される、一枚の平板状のトレイ103と、を有し、トレイの他方の主面103Tに複数のウェハ状の基板104が載置され、基板104の非処理面104Bの一部が少なくともトレイの他方の主面103Tと非接触の領域R2をなすように、トレイ103の形状が規定され、トレイの他方の主面103Tのうち、基板の非処理面104Bが接していない領域に、基板の側面に接して囲むように基板の保持部105が設けられている、ことを特徴とする半導体製造装置100。 (もっと読む)


【課題】 蓋体の開閉時に容器本体と蓋体とが擦れやすくなるのを抑制し、パーティクル等の塵埃が基板を汚染するおそれを有効に排除できる基板収納容器を提供する。
【解決手段】 複数枚の半導体ウェーハWを整列収納する容器本体1の開口した正面2に蓋体10を着脱自在に嵌合し、容器本体1の正面内周に蓋体10の周壁を接触させる基板収納容器であり、容器本体1の正面内周と蓋体10の周壁の少なくともいずれか一方に、断面視で略半紡錘形あるいは略台形の回避部30を凹み形成し、この回避部30により、容器本体1の正面内周と蓋体10の周壁との擦れに伴うパーティクルの発生を抑制する。例え基板収納容器の内部が減圧状態になっても、容器本体1正面2の変形し易い上部中央、下部中央、両側部中央がそれぞれ内側に湾曲して反るのを抑制防止することができる。 (もっと読む)


【課題】半導体ウエハを傷つけることなく容器内に収納、取り出しをすることができ、また、搬送時や保管時に外部から衝撃が加わった場合でも収納されている半導体ウエハが破損することを効果的に回避することができる半導体ウエハ収納容器、半導体ウエハの収納方法、および、半導体ウエハ収納体を提供すること。
【解決手段】半導体ウエハ2が載置される領域11aを介して少なくとも一部が対向して形成された支柱12と、前記支柱12の前記半導体ウエハ2が載置される領域11aに面する側面に設けられたウエハ保持部13とを備え、前記ウエハ保持部13の前記支柱12との間に形成された気密室16の容積が、周囲が減圧されることにより増大して、前記ウエハ保持部13の保持面が載置された前記半導体ウエハ2の側面を保持する。 (もっと読む)


【課題】設備費を抑えつつ、様々なサイズの複数枚のパネルを収容することが可能なパネル収容ケースを提供する。
【解決手段】複数枚のパネルPを互いに間隔をあけて保持した状態に収容するパネル収容ケース10であって、上部が開口部とされ、内部がパネルPの収容空間とされた有底のケース本体20と、ケース本体20の上部に被せられてケース本体20の開口部を塞ぐ蓋体と、パネルPの側縁部を係合可能な上下方向に沿う複数の保持溝61が間隔をあけて形成された一対の溝ユニット53と、一対の溝ユニット53をケース本体20内における対向位置に保持することにより保持溝61同士を対向させてパネルPの両側縁部を係合可能とする保持ユニット81とを備え、一対の溝ユニット53は、保持ユニット81によって、互いの間隔が調整可能とされている。 (もっと読む)


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