ディスプレイ用光学フィルタの製造方法、それに用いるレーザ加工装置、及びディスプレイ用光学フィルタ。
【課題】電磁波シールド性を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法であって、導電層の露出工程を低コストで、且つ高い生産効率で行うことができる製造方法及びディスプレイ用光学フィルタを提供する。
【解決手段】透明基板、その表面全体に形成された導電層、及び導電層表面全体に形成された少なくとも１層の機能層を含む積層体の当該機能層表面の側端部又は側端部近傍に沿って、レーザ光を間欠的に照射しながら走査し、照射領域の機能層を除去して導電層を露出させる工程を含むディスプレイ用光学フィルタの製造方法であって、前記レーザ光の照射を、複数の集光光４１が前記機能層表面で、前記走査方向に対して所定の角度Ｒを持って傾斜する直線的に配列されるように行なうことを特徴とする製造方法及びそれにより得られるディスプレイ用光学フィルタ。
【解決手段】透明基板、その表面全体に形成された導電層、及び導電層表面全体に形成された少なくとも１層の機能層を含む積層体の当該機能層表面の側端部又は側端部近傍に沿って、レーザ光を間欠的に照射しながら走査し、照射領域の機能層を除去して導電層を露出させる工程を含むディスプレイ用光学フィルタの製造方法であって、前記レーザ光の照射を、複数の集光光４１が前記機能層表面で、前記走査方向に対して所定の角度Ｒを持って傾斜する直線的に配列されるように行なうことを特徴とする製造方法及びそれにより得られるディスプレイ用光学フィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイなどのディスプレイの画像表示部に用いられ、電磁波シールド性を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法、その製造方法に使用されるレーザ加工装置、及びその製造方法により製造されたディスプレイ用光学フィルタに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、ＰＤＰ等のディスプレイから発生する不要な電磁波の輻射や赤外線リモコン等の誤作動の原因となる赤外線の輻射を遮蔽するディスプレイ用フィルタとして、フィルタ内にメッシュ状の導電層を設けた、電磁波シールド性および光透過性を有するディスプレイ用光学フィルタが開発されている。
【０００３】
上記ディスプレイ用光学フィルタにおいては、導電層による電磁波シールド性が良好に発揮するように導電層とディスプレイ本体の導電面との間で、均一に導通を図る必要がある。そのため、ディスプレイ用光学フィルタからメッシュ状の導電層を外部にはみ出させ、ディスプレイ用光学フィルタの裏側に折り込ませて導通させるか、導電層に接触するように導電性粘着テープを挟み込み外部への導通を図る等の手段が用いられている。
【０００４】
また、上記ディスプレイ用光学フィルタには、１枚の基材フィルム上にメッシュ状の導電層を形成し、その上にハードコート層や反射防止層等の機能層を積層させているものも開発されている。この様な光学フィルタにおいては、導電層から外部への導通を図る場合に、例えば、形成した機能層の一部（一般にフィルタの側端部又は側端部近傍）をレーザ照射等により除去して導電層を露出させる手段が用いられている（特許文献１、２）。
【０００５】
レーザ照射による光学フィルタの導電層の露出は、表面の機能層のみを除去し、導電層に損傷を与えることがないような微細加工が必要である。導電層が断線したり、剥離したりすると、電磁波シールド性が損なわれるからである。そのため、以下のようなレーザ加工方法が行われる。
【０００６】
（１）ＵＶガスレーザ（エキシマレーザ）を用い、ビーム形状をアパーチャグリルで整え、極めて短時間のパルス幅で所定の回数照射することで、表面の機能層のみをアブレーション（瞬間除去）する方法。
【０００７】
エキシマレーザによる加工は光化学反応によるもので、非熱加工とも呼ばれ、発熱をほとんど伴わないため、下層部の導電層に影響を与えずに加工可能である。
【０００８】
（２）ＣＯ2レーザ等の赤外線レーザを用い、ビームのエネルギー出力及びスポットサイズを小さく絞り、表面の機能層の側端部近傍に、繰り返して密に照射することで、スポット状の露出部が密に配置された間欠的露出帯を形成する方法。
【０００９】
赤外線レーザの場合は、熱加工であり、一度に大面積の加工を行うと、熱伝導によって下層部の導電層までダメージを与えてしまうため、上述のような小さいスポットサイズで加工する方法が有効である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００７−２４３１５８号公報
【特許文献２】特開２００８−１９７５３９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、（１）の方法において、エキシマレーザはレーザ媒質のガスを高速循環させるガス再生装置やハロゲン除去装置を要するため、設備コストやランニングコストが他のレーザ加工装置に比べて大きく、製造コストが高いという問題がある。また、エキシマレーザ加工装置は、一般にレーザ光源を固定し、ワーク（被加工物）を搭載した加工テーブルをＸ−Ｙ方向に移動するワーク移動方式である。従って、大型の光学フィルタを加工する場合に大型のワークが移動するスペースが必要な点でスペース生産性が大幅に低下するという問題もある。
【００１２】
一方、（２）の方法において、ＣＯ2レーザ等の赤外線レーザは他のレーザ加工装置に比べて設備コスト及びランニングコストが低いので、コスト面の問題はない。また、赤外線レーザは繰り返し発振が可能であり、ワークを固定し、反射ミラー及び集光レンズを高速移動させる光移動方式により、ワークの表面にスポット状にレーザを繰り返して照射しながら走査することができるので、スペース生産性の面でも問題はない。しかしながら、１度の照射による露出部は小さいスポット状であるため、露出帯を一定の幅を持たせるために、複数回の往復走査が必要になり、露出部の形成に長時間を要するという問題がある。
【００１３】
そこで、本発明の目的は、高品質な電磁波シールド性を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法であって、導電層の露出工程を低コストで、且つ高い時間的生産効率で行うことができる製造方法を提供することにある。
【００１４】
また、本発明の目的は、その製造方法に使用されるレーザ加工装置を提供することにある。
【００１５】
更に、本発明の目的は、その製造方法で製造されたディスプレイ用光学フィルタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記目的は、透明基板、その表面全体に形成された導電層、及び導電層表面全体に形成された少なくとも１層の機能層を含む積層体の当該機能層表面の側端部又は側端部近傍に沿って、レーザ光を間欠的に照射しながら走査し、照射領域の機能層を除去して導電層を露出させる工程を含むディスプレイ用光学フィルタの製造方法であって、前記レーザ光の照射を、複数の集光光が、前記機能層表面で前記走査方向に対して所定の角度を持って傾斜する直線的に配列されるように行なうことを特徴とする製造方法によって達成される。即ち、前記レーザ光の１度の照射が、走査方向に直交する方向に一定の幅を持ったレーザ集光光の配列により行われるので、前記導電層を露出させる工程（以下、導電層露出工程と略す）は、レーザ光を間欠的に照射しながら１度の走査で完了することができる。また、前記機能層表面のコーナー部分において走査方向を転換する際、レーザ集光光の配列方向を転換しなくても、転換された走査方向に直交する方向にも一定の幅をもったレーザ集光光の配列とすることができるので、レーザ集光光の配列方向を、レーザ光を分岐、成形する光学素子を含む部分（以下、レーザ光成形部と略す）の回転等によって転換することなく走査を続けることができる。以上により、高い時間的生産効率で導電層露出工程を行うことができる。
【００１７】
更に、本発明に係る導電層露出工程は、設備コスト及びランニングコストが安価なＣＯ2レーザ等の赤外線レーザを好適に使用することができるので、低コストの製造方法とすることができる。
【００１８】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法の好ましい態様は以下の通りである。
（１）前記光学フィルタの形状が矩形状である。
（２）前記所定の角度が走査方向に対して３０〜６０度である。これにより、前記レーザ光の照射の第一方向への走査、及び走査方向を転換した際の第二方向への走査、どちらの場合においても、走査方向に直交する方向に、より有効な幅を持ったレーザ集光光の配列とすることができる。所定の角度は４０〜５０度がより好ましく、４５度が特に好ましい。所定の角度が４５度であれば、走査方向を９０度転換した際に、走査方向に直交する方向の幅が変化しないレーザ集光光の配列にすることができる。
（３）レーザの波長が０．２〜３０μｍの範囲、更には５〜１５μｍの範囲である。
（４）前記レーザ集光光の１個の直径が０．４〜１．０ｍｍである。
（５）前記レーザ集光光を重複して照射しない。レーザ集光光を重複して照射すると、機能層の下層である導電層にダメージを与えることになるため、走査方向の転換の際等に、前記レーザ集光光がすでに照射された位置では、レーザ集光光の照射を停止する等により重複照射を避けるのが好ましい。
（６）前記導電層が、メッシュ状金属導電層である。
（７）前記少なくとも１層の機能層がハードコート層である。
（８）透明基板が、プラスチック基板、特にポリエチレンテレフタレートフィルムである。
【００１９】
また、上記目的は、本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法に使用されるレーザ加工装置であって、レーザ光源からレーザ光を出射するためのレーザ発振器を含むレーザ発振手段、レーザ発振手段から出射するレーザ光を次のレーザ照射手段に導くための反射ミラーを含むレーザ案内手段、レーザ案内手段により導かれたレーザ光を前記積層体の機能層表面の側端部又は側端部近傍に沿って集光するための集光レンズを含むレーザ照射手段、及びレーザ照射手段を縦横方向に移動可能な走査手段を含み、且つ前記レーザ案内手段及び／又はレーザ照射手段は、レーザ光の照射を複数の集光光が前記機能層表面で、前記走査方向に対して所定の角度を持って傾斜する直線的に配列されるように行なうレーザ光成形手段を有することを特徴とするレーザ加工装置によっても達成される。
【００２０】
本発明のレーザ加工装置の好ましい態様は以下の通りである。
（１）前記所定の角度が走査方向に対して３０〜６０度である。
（２）前記レーザ発振手段がＣＯ2レーザ発振器を含む。
（３）前記レーザ光成形手段が、回折型光学素子（ＤＯＥ）を含む。
【００２１】
更に、上記目的は本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法により得られるディスプレイ用光学フィルタによっても達成される。
【発明の効果】
【００２２】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法によれば、導電層露出工程において、レーザ光の照射は、複数の集光光が、前記走査方向に対して所定の角度を持って傾斜する直線的に配列されるように行なわれている。即ち、前記レーザ光の１度の照射が、走査方向に直交する方向に一定の幅を持ったレーザ集光光の配列により行われるので、導電層露出工程は、レーザ光を間欠的に照射しながら１度の走査で完了することができる。また、前記走査方向を転換する際、レーザ集光光の配列方向を転換せずに、転換した走査方向に直交する方向にも一定の幅をもったレーザ集光光の配列とすることができるので、レーザ光成形部の回転等により、レーザ集光光の配列方向を転換することなく走査を続けることができる。以上により、高い時間的生産効率で導電層露出工程を行うことができる。なお、レーザ光成形部の回転やスイッチング機構が不要になるため、レーザ光成形部を含むレーザ光を照射しながら走査する部分（以下、レーザ加工光学系と略す）の軽量化が図られ、走査速度の向上も図ることができる。
【００２３】
更に、本発明に係る導電層露出工程は、設備コスト及びランニングコストが安価なＣＯ2レーザ等の赤外線レーザを好適に使用することができるので、低コストの製造方法とすることができる。
【００２４】
また、本発明のレーザ加工装置は、レーザ光の照射を、複数のレーザ集光光が前記走査方向に対して所定の角度を持って傾斜する直線的に配列するようにレーザ光を分岐、成形して行うために有利なレーザ加工装置である。
【００２５】
更に、本発明のディスプレイ用光学フィルタは、本発明の製造方法により製造されているので、生産性に優れ、安価で高品質な電磁波シールド性を有するディスプレイ用光学フィルタであると言える。従って、ＰＤＰ、ＣＲＴディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイなどのディスプレイに対して、好適に利用できる光学ディスプレイであると言える。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法の代表的な１例を説明するための概略断面図である。
【図２】本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法の代表的な１例を説明するための概略平面図であり、図２（ａ）が本発明の製造方法により導電層が露出された光学フィルタの全体を示し、図２（ｂ）がレーザ集光光の形状を示す図である。
【図３】本発明の製造方法で使用される本発明のレーザ加工装置の１例を示す概略図である。
【図４】本発明の製造方法で得られた本発明のディスプレイ用光学フィルタの好適態様の１例を示す図であり、図４（ａ）は概略断面図であり、図４（ｂ）は概略平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法について、図面を参照しながら説明する。図１及び図２は本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法の代表的な１例を説明するための図であり、図１が概略断面図であり、図２は概略平面図である。
【００２８】
矩形状の透明基板１２の表面の全域に、メッシュ状の導電層１３を形成し（１）（導電層形成工程）、次いで、メッシュ状の導電層１３の全域に機能層として合成樹脂からなるハードコート層１６を形成する（２）（機能層形成工程）。機能層としては何らかの機能を示す合成樹脂を含む層であればどのようなものでも良い。図１の例においては、ハードコート層１６のみであるが、例えば、ハードコート層１６の上に反射防止性を得るために、ハードコート層より屈折率の低い低屈折率層や屈折率層の高い高屈折率層を形成しても良い（図示していない）。また、例えば、透明基板１２が長尺状の場合、ロール・ツー・ロール方式でこのような積層体を形成しても良い。この場合、得られた積層体のロールから連続的に長尺状の積層体を送り出し、矩形状に裁断して次工程に用いる。
【００２９】
次に、得られた矩形状の積層体のハードコート層１６の側端部近傍に沿って、レーザ集光光を間欠的に照射しながら全周囲を走査する（３）（導電層露出工程）。これにより、レーザ照射領域の側端部近傍のハードコート層１６が除去され、導電層１３が露出し、導電層露出領域１３’が形成される（４）。この際、レーザ光を、図２（ｂ）に示すように、複数のレーザ集光光４１が矢印で示す走査方向に対して所定の角度Ｒを持って傾斜する直線Ｇ上に配列するように照射する。その結果、図２（ａ）に示すように、点Ａ（走査開始点）から点Ｂ（走査方向転換点）までの間は、走査方向に直交する方向に幅Ｌの導電層露出領域１３’（本発明においては複数のレーザ集光光の照射により形成されたスポット状の導電層の露出部が密に配置された（スポット状の露出部が一部で重なっていても良い）間欠的露出領域である）が形成される。また、点Ｂにて走査方向を９０度転換する場合、レーザ集光光の配列方向を転換せずに、走査方向に対して９０度−Ｒの角度を持つレーザ集光光の配列となるので、点Ｂから点Ｃの間は走査方向に直交する幅Ｌ’の導電層露出領域１３’が形成される。
【００３０】
レーザ集光光の配列方向を転換するには、後述するレーザ光成形部を回転させたり、２組のレーザ光成形部をスイッチングにより切り換えたりする機構が必要になり、加工精度の低下やレーザ加工光学系の重量が大きくなり、走査する際の加速、減速時間が多く必要になるため走査速度が低下することになる。本発明の方法であれば、上記のような機構が必要でないため、レーザ照射部の軽量化が図られ走査速度を高めることができる。
【００３１】
角度Ｒは走査方向に対して傾斜していれば（０度及び９０度以外であれば）、特に制限はない。但し、上述のように走査方向を転換した場合に、レーザ集光光の配列方向を転換せずに、上述の幅Ｌ及び幅Ｌ’がより有効な幅を持ったレーザ集光光の配列とするため、角度Ｒは３０〜６０度が好ましく、４０〜５０度がより好ましく、特に４５度が好ましい。角度Ｒが４５度であれば、走査方向を９０度転換した場合に、上述の幅Ｌ及び幅Ｌ’は同一となる。
【００３２】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの形状は、特に制限はなく、三角形以上の多角形でも円形でも良い。本発明の製造方法は、特に大型のディスプレイ用光学フィルタに有効であるため、大型製品の需要が高い、図１及び図２に示したような矩形状が好ましい。
【００３３】
図１及び図２の例においては、レーザ照射は側端部には照射しないように行っている。これにより、透明基板１２の側端部にレーザが照射されなかったハードコート層が残り、端部ハードコート層１６’が形成される。この両縁部の細い帯状の導電層露出領域１３’の幅（図１（４）のＬ又は図２（ａ）のＬ及びＬ’）は、一般に１〜１００ｍｍ、特に２〜５０ｍｍが好ましい。また端部ハードコート層１６’の細い帯状の領域の幅は、一般に０．１〜２０ｍｍであり、特に０．５〜５ｍｍが好ましい。導電層露出工程において、導電層露出領域１３’の外側に端部ハードコート層１６’を形成させず、側端部に導電層露出領域１３’を形成するように側端部に沿ってレーザ照射してハードコート層１６を除去しても良い。
【００３４】
本発明において、複数のレーザ集光光の照射により露出したスポット状の導電層の密度は、特に制限はないが、導電層露出領域１３’の全面積に対して、露出したスポット状の導電層の個数が２５〜２５０個／ｃｍ2、好ましくは５０〜２００個／ｃｍ2で、露出したスポット状の導電層の面積率が１５〜５０％、好ましくは２０〜４０％が好ましい。これにより、導電層の断線や剥離等のダメージを抑制しながら、ハードコート層１６を除去することができ、欠陥のない光学フィルタを製造することができる。また、このような導電層の露出面積率があれば、導電層露出領域１３’から外部へ導通させ、十分な電磁波シールド性を有する光学フィルタとすることができる。
【００３５】
また、導電層露出領域１３’を構成するスポットの形状は、図２（ａ）及び（ｂ）においては、円形のスポットで示しているが、矩形、楕円形、円形、多角形等どのような形状でも良い。全てのスポットの大きさは同じでも相互に異なっていても良い。一般に同じ大きさである。これらの形状は後述するレーザ光成形部により成形されるレーザ集光光の形状によって決定される。１個のスポットの面積は、一般に、０．１〜３０ｍｍ2、好ましくは０．１〜５ｍｍ2であり、スポット形状が円形の場合、その直径は０．３〜１．０ｍｍが好ましい。
【００３６】
本発明における導電層露出工程において、上述のようにレーザ集光光を間欠的に照射しながら全周囲に走査する際、レーザ集光光を重複して照射しないことが好ましい。重複して照射すると露出した導電層部分に、レーザ集光光が照射することになり、導電層に断線等の損傷が生じるからである。従って、図２（ａ）に示すように、レーザ照射の走査が点Ｃ（照射停止点）に達したときレーザ照射を一時停止し、その状態でレーザ集光光のスポットが重複しない点Ｄ（照射再開点）まで、レーザ加工光学系が移動させてからレーザ照射を再開するのが好ましい。その後、点Ｅ（走査方向転換点）を経て、点Ｆ（走査終了点）まで継続して走査できる。なお、点Ａ及び点Ｆ近傍におけるレーザ集光光についても重複しないように、予め、点Ａの位置を調整しておくのが好ましい。点Ｃ近傍の導電層露出領域１３’と点Ｄ近傍の導電層露出領域１３’の間隙、及び点Ａ近傍の導電層露出領域１３’と点Ｆ近傍の導電層露出領域１３’間隙の距離は０．３〜２０ｍｍが好ましく、１〜１０ｍｍがより好ましい。この距離であれば、安定した電磁波シールド性を得ることができる。
【００３７】
また、本発明において、導電層露出領域１３’の上に、導電性粘着テープを貼り付け、外部への導通を良好にさせても良い。導電性粘着テープは銀箔、銅箔等の導電性を有するテープ状の部材に金属粉体等の導電性粒子を分散させた粘着剤からなる粘着層を設けたものであればどのようなものでも使用可能である。
【００３８】
以上の説明では、透明基板１２、導電層１３、ハードコート層１６からなる積層体にレーザ照射して光学フィルタを得たが、後述するように、ディスプレイ用光学フィルタは、好適にガラス基板に貼付し使用されるので、上記積層体を得た後、後述の粘着剤層等により、ガラス基板に貼付し、その後上記の導電層露出工程を行うこともできる。この場合、積層体がガラス基板上に固定されることから、積層体の位置ズレや積層体の浮きが発生しないため、レーザの照射を所定の位置に確実に行うことができる点で好ましい。
【００３９】
本発明の製造方法に使用するレーザはＣＯ2レーザ、ＹＡＧレーザ（基本波、２倍波、３倍波）、エキシマレーザ、ルビーレーザ、半導体レーザ、アルゴンレーザ等どのようなものでも良いが、間欠的に照射しながら走査するので、ハードコート層１６の照射領域の下層の導電層１３の熱的損傷を回避できるため、熱加工に使用されるＣＯ2レーザ等の高出力の赤外線レーザが好適に使用できる。ＣＯ2レーザは設備コスト、ランニングコストが安価であるため、本発明の製造方法は低コストの製造方法であると言える。
【００４０】
本発明における導電層露出工程（３）に使用するレーザ加工装置について、図３を用いて詳しく説明する。図３は本発明のレーザ加工装置の１例を示す概略図である。図示のように、レーザ加工装置４５は、主としてレーザ光３１を出射するレーザ発振器３０、レーザ光３１を伝送する反射ミラー３２ａ〜３２ｃ及び３３、レーザ光３１を成形してレーザ集光光４１を照射する、レーザ光成形部４０（図３においては回折型光学素子（ＤＯＥ）３４及び集光レンズ３５を含む）、被加工物（ワーク）を保持する加工テーブル３６で構成される。回折型光学素子（ＤＯＥ）は、表面にミクロン単位の微細な凹凸を付けることにより光の回折現象を利用した光学素子であり、レーザ光の分岐、成形、ホモジナイズ等の応用が可能である。
【００４１】
レーザ発振器３０（レーザ発振手段）から出射されたレーザ光３１は、反射ミラー群３２ａ〜３２ｃ（必要に応じて移動可能になっており、必要に応じて反射ミラーが追加されていても良い）により導かれ、反射ミラー３３で９０度折り曲げられる。レーザ光３１はＤＯＥ３４で複数に分岐、成形され、集光レンズ３５で、上述の積層体のハードコート層１６の表面に、複数のレーザ集光光４１が前記走査方向に対して所定の角度を持って傾斜する直線的に配列されるように照射される（レーザ照射手段（レーザ光成形手段を有する））。
【００４２】
反射ミラー３２ａ〜３２ｃ及び３３は、一般にレーザ案内手段を構成している。反射ミラー３３及びレーザ光成形部４０は、レーザ加工光学系４２を構成し、一緒に矢印方向（Ｘ及びＹ方向）に移動可能になっている（一般にＸ−Ｙプロッターのアーム上に取り付けられる）。レーザ加工光学系４２の移動方向と、その他の反射ミラー３２ａ〜３２ｃの移動の組合せにより、レーザ加工光学系４２はハードコート層１６のレーザ照射領域全域（全周囲の側端部又は側端部近傍）を移動し、走査することができる（走査手段）。
【００４３】
レーザ光成形部４０によるレーザ光３１の分岐及び成形は、上述のような複数のレーザ集光光４１に成形できればどのような方法でも良い。光の位相を直接制御でき、精度の高い成形が可能なため、図示のようなＤＯＥ３４による分岐で複数のレーザ集光光に成形するのが好ましい。ＤＯＥとしては、位相変換回折格子、ビームスプリッタ−、ビーム光束多分割素子、ビーム整形光学素子、回折型球面収差補正ハイブリッド集光レンズ、回折型長焦点深度集光レンズ、２波長補正集光レンズ、回折型線状集光レンズ、回折型マイクロレンズアレイ等を挙げることができる。ＤＯＥは複数のスポットを走査方向に対して、正確に所定の角度の直線上に配置するため、丸形形状の一部を切り欠くような構造とするのが好ましい。これにより角度の位置決めが容易となる。レーザ光成形部４０はレーザ照射手段の前段のレーザ案内手段に有していても良い。
【００４４】
レーザ集光光４１の数は特に制限はなく、一般に５〜２０個、好ましくは８〜１５個である。上述のように、複数のレーザ集光光を走査方向に対して所定の角度、好ましくは３０〜６０度、より好ましくは４０〜５０度、特に４５度で傾斜する直線的に配列することにより、コーナー部分で走査方向を９０度転換する場合に、レーザ光成形部４０は回転させずにレーザ加工光学系４２の移動方向のみ転換することで走査を続けることができる。レーザ集光光の配列方向が走査方向に対して、傾斜していない（即ち直交している）場合、走査方向の転換に応じて、レーザ集光光の配列方向も転換する必要があるため、レーザ光成形部４０を回転させたり、レーザ光成形部４０を複数設けてスイッチングにより切り換えたりする機構が必要になる。そうすると、駆動部の振動等による加工精度の低下やレーザ加工光学系４２の重量が大きくなり、走査する際の加速、減速時間が多く必要になるため走査速度が低下することになる。本発明のレーザ加工装置であれば、上記のような機構が必要でないため、レーザ照射部４２の軽量化が図られ、走査速度を高めることができる。
【００４５】
本発明のレーザ加工装置において、レーザ発振器は連続波レーザでもパルスレーザでも良い。但し、連続波レーザは照射部分に過剰な熱が付与されやすい傾向にあるため、ハードコート層１６のレーザ照射領域の下層の導電層１３に熱的損傷が生じ易い。パルスレーザは照射時間のコントロールし易く、熱的損傷の回避が容易な点で好ましい。パルスレーザの波長は特に制限はないが、０．２〜３０μｍ、更には５〜１５μｍの範囲が好ましい。短波長のレーザは、熱的損傷が生じ難いが、加工に時間がかかり過ぎるため、長波長のレーザ（赤外線レーザ）を用いて短時間照射し、ショット間隔を大きくとって熱的損傷を回避する方が好ましい。パルスレーザ発振器としては、ＣＯ2レーザ、ＹＡＧレーザ（２倍波、３倍波）、ルビーレーザ、エキシマレーザ、半導体レーザ、アルゴンレーザ等の発振器を用いることができる。本発明のレーザ加工装置においては、高出力の赤外線レーザが好ましく、特に高出力で、且つ設備コスト、ランニングコストが安価なＣＯ2レーザ発振器を使用するのが好ましい。この場合、パルスレーザのパルス幅は１〜１０００マイクロ秒、更には１００〜８００マイクロ秒であることが好ましい。レーザの間欠的な照射はレーザのパルス自体を利用しても良いが（その場合パルス幅は一般に数百マイクロ秒である）、短パルス（一般に百マイクロ秒未満）の場合は、特定数のパルス群でオン−オフすることにより行っても良い。パルスレーザの出力は５〜５ｋＷ、相対移動速度１〜３０００ｍｍ／秒で行うことが好ましい。
【００４６】
図４は本発明の製造方法で得られた本発明のディスプレイ用光学フィルタの代表的な１例を示す図であり、図４（ａ）が概略断面図であり、図４（ｂ）が概略平面図である。
【００４７】
図４（ａ）に示すように、本発明のディスプレイ用光学フィルタは、矩形状の透明基板２２の一方の表面全域に、メッシュ状の導電層２３が形成され、導電層２３の表面全域にハードコート層２６が形成されている。ハードコート層２６の側端部近傍には全周囲に渡り、レーザ照射によりハードコート層２６が除去され、導電層が露出した導電層露出領域２３’が形成され、その外側はハードコート層２６が残存した端部ハードコート層２６’が形成されている。導電層露出領域２３’の外側に端部ハードコート層２６’がなく、光学フィルタの側端部に沿って導電層露出領域２３’があっても良い。
【００４８】
本発明のディスプレイ用光学フィルタは、本発明の製造方法により得られているので、図４（ｂ）に示すように、導電層露出領域２３’は複数のレーザ集光光の照射により形成されたスポット状の導電層の露出部が密に配置された間欠的露出領域である。露出したスポット状の導電層の密度は、特に制限はないが、導電層露出領域２３’の全面積に対して、露出したスポット状の導電層の個数が２５〜２５０個／ｃｍ2、好ましくは５０〜２００個／ｃｍ2で、露出したスポット状の導電層の面積率が１５〜５０％、好ましくは２０〜４０％が好ましい。また、このような導電層の露出面積率があれば、導電層露出領域１３’から外部へ導通させ、十分な電磁波シールド性を有する光学フィルタとすることができる。
【００４９】
また、導電層露出領域２３’を構成するスポットの形状は、図４（ｂ）においては、円形のスポットで示しているが、矩形、楕円形、円形、多角形等どのような形状でも良い。全てのスポットの大きさは同じでも相互に異なっていても良い。一般に同じ大きさである。これらの形状は上述のレーザ光成形部により成形されるレーザ集光光の形状によって決定される。１個のスポットの面積は、一般に、０．１〜３０ｍｍ2、好ましくは０．１〜５ｍｍ2であり、スポット形状が円形の場合、その直径は０．３〜１．０ｍｍが好ましい。
【００５０】
更に、導電層露出領域２３’は、図４（ｂ）に示すように矩形状の光学フィルタのコーナー部分（図４（ｂ）中において破線で囲んだ部分）において、光学フィルタの辺に対して所定の角度で傾斜した直線上にある端部で途切れた形状を有するのが好ましい。導電層露出領域２３’の間隙の距離は、好ましくは０．３〜２０ｍｍ、より好ましくは１〜１０ｍｍである。この距離であれば、安定した電磁波シールド性を得ることができる。
【００５１】
帯状の導電層露出領域２３’の幅（図４のＬ及びＬ’）は一般に１〜１００ｍｍ、特に２〜５０ｍｍが好ましい。また端部ハードコート層２６’の帯状の領域の幅は一般に０．１〜２０ｍｍ、特に０．５〜５ｍｍが好ましい。図４（ｂ）における幅Ｌ及びＬ’は、上述の製造方法における、レーザ集光光のスポット配列の走査方向に対する角度によって、同一の場合も、異なっている場合もありうる。安定した電磁波シールド性のためには幅Ｌ及びＬ’は同一である（この場合、上記走査方向に対する角度が４５度である）のが好ましい。
【００５２】
本発明においては、上述のように導電層露出領域の上に、導電性粘着テープを貼付けた構成とし、外部への導通を良好にさせても良い。
【００５３】
本発明において、機能層としては、何らかの機能を示す合成樹脂を含む層であれば、どのようなものでも良い。図４（ａ）においては、導電層２３の上にはハードコート層２６のみであるが、ハードコート層とハードコート層より屈折率の低い低屈折率層とからなるか（この場合、ハードコート層が導電層と接している）又は、ハードコート層、ハードコート層より屈折率の高い高屈折率層、及びハードコート層より屈折率の低い低屈折率層からなる機能層としても良い。層が多いほど、より良好な反射防止性が得られる。ハードコート層に防眩機能を設けて、防眩層としても良い。また、別の機能層を設けても良い。一般に、近赤外線吸収層、ネオンカット層又は粘着剤層、或いはこれらの層の２層以上の組合せである。図４（ａ）においては、透明基板２２の導電層２３を形成した面と反対側の表面全域に、別の機能層として近赤外線吸収層２４及びその上に粘着剤層２５が形成されている。別の機能層としては近赤外線吸収機能及びネオンカット層を有する粘着剤層、ネオンカット機能を有する近赤外線吸収層及び粘着剤層（この順で透明基板上に設けられている）、或いは近赤外線吸収層、ネオンカット層及び粘着剤層（この順で透明基板上に設けられている）としても良い。
【００５４】
本発明のディスプレイ用光学フィルタは、一般に粘着剤層２５を介して、ＰＤＰ等のディスプレイパネルの表示面に貼付したり、ガラス基板に貼付し、ＰＤＰ等のディスプレイパネルの前面に配置したりして使用する。その際、導電層露出領域２３’からディスプレイ本体の筺体等へ導通させ、アースをとることで、電磁波シールド性を達成することができる。
【００５５】
本発明のディスプレイ用光学フィルタは、本発明の製造方法により得られているので、安価で電磁波シールド性に優れた光学フィルタである。
【００５６】
本発明のディスプレイ用光学フィルタは本発明の製造方法により得られていれば良く、その他の構成は必要に応じて従来技術等を組合せることができる。
【００５７】
本発明のディスプレイ用光学フィルタに使用される材料について以下に説明する。
【００５８】
本発明における透明基板は、一般に、透明なプラスチックフィルムである。その材料としては、透明（「可視光に対して透明」を意味する。）であれば特に制限はない。プラスチックフィルムの例としては、ポリエステル｛例、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート｝、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中でも、加工時の負荷（熱、溶剤、折り曲げ等）に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等が好ましい。特に、ＰＥＴが、加工性に優れているので好ましい。
【００５９】
透明基板の厚さとしては、光学フィルタの用途等によっても異なるが、一般に１μｍ〜１０ｍｍ、１μｍ〜５ｍｍ、特に２５〜２５０μｍが好ましい。
【００６０】
本発明における導電層は、一般に１０Ω／□以下、好ましくは０．００１〜５Ω／□の範囲、特に０．００５〜５Ω／□のとなるように設定される。メッシュ状の導電層も好ましい。或いは、導電層は、気相成膜法により得られる層（金属酸化物（ＩＴＯ等）の透明導電薄膜）でも良い。さらに、ＩＴＯ等の金属酸化物の誘電体膜とＡｇ等の金属層との交互積層体（例、ＩＴＯ／銀／ＩＴＯ／銀／ＩＴＯの積層体）であっても良い。
【００６１】
メッシュ状の導電層としては金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属を網状にしたもの、透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等を挙げることができる。
【００６２】
メッシュ状の導電層の場合、メッシュとしては、金属繊維及び／又は金属被覆有機繊維よりなる線径１μｍ〜１ｍｍ、開口率４０〜９５％のものが好ましい。より好ましい線径は１０〜５００μｍ、開口率は５０〜９５％である。メッシュ状の導電層において、線径が１ｍｍを超えると電磁波シールド性が向上するが、開口率が低下し両立させることができない。１μｍ未満では、メッシュとしての強度が下がり取扱いが困難となる。また開口率が９５％を超えるとメッシュとしての形状を維持することが困難であり、４０％未満では光透過性が低下し、ディスプレイからの光量も低下する。
【００６３】
なお、メッシュの開口率とは、当該メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。
【００６４】
メッシュ状の導電層を構成する金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、鉛、鉄、銀、炭素又はこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、ニッケルが用いられる。
【００６５】
金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポリエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラミド、ビニロン、セルロース等が用いられる。
【００６６】
金属箔等の導電性の箔をパターンエッチングしたもの場合、金属箔の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。
【００６７】
金属箔の厚さは、薄過ぎると取扱い性やパターンエッチングの作業性等の面で好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルムの厚さに影響を及ぼし、エッチング工程の所要時間が長くなることから、１〜２００μｍ程度とするのが好ましい。
【００６８】
エッチングパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の孔が形成された格子状の金属箔や、円形、六角形、三角形又は楕円形の孔が形成されたパンチングメタル状の金属箔等が挙げられる。また、孔は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この金属箔の投影面における開口部分の面積割合は、２０〜９５％であることが好ましい。
【００６９】
上記の他に、メッシュ状の導電層として、フィルム面に、溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成し、フィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料からなる導電材料層を形成し、フィルム面を溶剤と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去することによって得られるメッシュ状の導電層を用いても良い。
【００７０】
導電層上に、さらに金属メッキ層を、導電性を向上させるためは設けても良い（特に、上記溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成する方法の場合）。金属メッキ層は、公知の電解メッキ法、無電解メッキ法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、アルミ、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。
【００７１】
また、防眩性能を付与させても良い。この防眩化処理を行う場合、（メッシュ）導電層の表面に黒化処理を行っても良い。例えば、金属膜の酸化処理、クロム合金等の黒色メッキ、黒又は暗色系のインクの塗布等を行うことができる。
【００７２】
本発明における導電層の上に形成する機能層は、一般にハードコート層とその上に設けられたハードコート層より屈折率の低い低屈折率層との複合膜であるか、或いはハードコート層と低屈折率層との間にさらに高屈折率層が設けられた複合膜である。反射防止のためには基板フィルムより屈折率の低いハードコート層のみであっても有効である。但し、基材フィルムの屈折率が低い場合、基材フィルムより屈折率の高いハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜、或いは低屈折率層上にさらに高屈折率層が設けられた複合膜としても良い。
【００７３】
ハードコート層は、アクリル樹脂層、エポキシ樹脂層、ウレタン樹脂層、シリコン樹脂層等の合成樹脂を主成分とする層である。なお、本発明において、ハードコート層とは、ＪＩＳ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験でＨ以上の硬度を有するものをいう。通常、ハードコート層の厚さは１〜５０μｍ、好ましくは１〜２０μｍである。合成樹脂は、一般にフェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、シリコン樹脂などの熱硬化性樹脂、又は紫外線硬化性樹脂であり、紫外線硬化性樹脂が好ましい。紫外線硬化性樹脂は、短時間で硬化させることができ、生産性に優れ、またレーザーにより除去し易い点からも好ましい。
【００７４】
紫外線硬化性樹脂を用いる場合は、紫外線硬化性樹脂組成物（紫外線硬化性樹脂、光重合開始剤等からなる）として使用する。
【００７５】
紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）としては、例えば、フェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、ベヘニル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルサクシネート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化２−メチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート等の（メタ）アクリレートモノマー類；ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等）と有機ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４′−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４′−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２′−４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物であるポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら化合物は１種又は２種以上、混合して使用することができる。これらの紫外線硬化性樹脂を、熱重合開始剤とともに用いて熱硬化性樹脂として使用してもよい。
【００７６】
ハードコート層とするには、上記の紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）の内、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。
【００７７】
紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤として、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１などのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。特に１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア１８４）が好ましい。
【００７８】
光重合開始剤の量は、樹脂組成物に対して一般に０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。
【００７９】
さらに、ハードコート層は、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいても良い。特に、紫外線吸収剤（例、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤又はベンゾフェノン系紫外線吸収剤）を含むことが好ましく、これによりフィルタの黄変等の防止が効率的に行うことができる。その量は、樹脂組成物に対して一般に０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。
【００８０】
ハードコート層は、透明基板より屈折率層が低いことが好ましく、上記紫外線硬化性樹脂を用いることにより、一般に透明基板より低い屈折率を得られやすい。従って、透明ｋ場としてはＰＥＴ等の高い屈折率の材料を用いることが好ましい。このため、ハードコート層は、屈折率を１．６０以下にすることが好ましい。層厚は上述の通りである。
【００８１】
機能層に高屈折率層を設ける場合は、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に、ＩＴＯ，ＡＴＯ，Ｓｂ2Ｏ3，ＳｂＯ2，Ｉｎ2Ｏ3，ＳｎＯ2，ＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2等の導電性金属酸化物微粒子（無機化合物）が分散した層（硬化層）とすることが好ましい。金属酸化物微粒子としては、平均粒径１０〜１００００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍのものが好ましい。特にＩＴＯ（特に平均粒径１０〜５０ｎｍのもの）が好ましい。層厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。
【００８２】
機能層に低屈折率層を設ける場合は、シリカ、フッ素樹脂等の微粒子、好ましくは中空シリカを１０〜４０重量％（好ましくは１０〜３０質量％）がポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に分散した層（硬化層）であることが好ましい。層厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。中空シリカとしては、平均粒径１０〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍ、比重０．５〜１．０、好ましくは０．８〜０．９のものが好ましい。
【００８３】
機能層のハードコート層は、可視光線透過率が８５％以上であることが好ましい。高屈折率層及び低屈折率層の可視光線透過率も、いずれも８５％以上であることが好ましい。
【００８４】
機能層がハードコート層と上記２層より構成される場合、例えば、ハードコート層の厚さは２〜２０μｍ、高屈折率層の厚さは５０〜１５０ｎｍ、低屈折率層の厚さは５０〜１５０ｎｍであることが好ましい。
【００８５】
機能層の、各層を形成するには、例えば、前記の通り、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）に必要に応じ上記の微粒子を配合し、得られた塗工液を、前記の矩形透明基板表面に塗工し、次いで乾燥した後、紫外線照射して硬化すればよい。この場合、各層を１層ずつ塗工し硬化させてもよく、全層を塗工した後、まとめて硬化させてもよい。
【００８６】
塗工の具体的な方法としては、アクリル系モノマー等を含む紫外線硬化性樹脂をトルエン等の溶媒で溶液にした塗工液をグラビアコータ等によりコーティングし、その後乾燥し、次いで紫外線により硬化する方法を挙げることができる。このウェットコーティング法であれば、高速で均一に且つ安価に成膜できるという利点がある。このコーティング後に例えば紫外線を照射して硬化することにより密着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が得られる。
【００８７】
紫外線硬化の場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。また、硬化促進のために、予め積層体を４０〜１２０℃に加熱し、これに紫外線を照射してもよい。
【００８８】
前述のように、機能層としてハードコート層の代わりに防眩層を設けることもできる。これにより反射防止効果が大きいものが得られやすい。防眩層は、例えば、バインダ（インクメジウム）に顔料微粒子（例、カーボンブラック、黒色酸化鉄等）を分散させた液、又はポリマー微粒子（例、アクリルビーズ）等の透明フィラー（好ましくは平均粒径１〜１０μｍ）をバインダに分散させた液を塗布、乾燥することにより、或いは金属層を硫化処理等の黒化処理により金属硫化物よりなる防眩層を形成する。特に、前述のハードコート層形成用材料に透明フィラーを加えた液を塗布、硬化させた、ハードコート機能を有する防眩層が好ましい。防眩層の層厚は、一般に０．０１〜１μｍの範囲である。
【００８９】
導電層露出領域の上に導電性粘着テープを貼り付ける場合は、上述のように、導電性粘着テープは導電性を有するテープ状の部材に導電性粒子を分散させた粘着剤からなる粘着層を設けたものであればどのようなものでも使用可能である。テープ状部材は例えば、銀箔、銅箔、ニッケル箔、アルミニウム箔、ステンレス箔又は鉛箔等の金属箔や、導電性樹脂フィルムを用いることができる。テープ状部剤の厚さは通常１〜１００μｍ程度である。また粘着剤は、例えば、アクリル系、ゴム系、シリコン系粘着剤やエポキシ系、フェノール系樹脂に硬化剤を配合したものを用いることができる。粘着剤に分散させる導電性粒子としては電気的に良好な導体であれば良く、種々のものを使用することができる。例えば、銅、銀、ニッケル等の金属粉体、これらの金属で被覆された樹脂又はセラミック粉体等を使用することができる。導電性粒子の形状には特に制限はなく、例えば、鱗片状、粒状、樹枝状等の任意の形状で使用できる。また、導電性粒子の平均粒径は１〜１００μｍが好ましく、配合量は粘着剤に対して０．１〜１５容量％が好ましい。これらの材料を均一に混合し、テープ状部材にロールコーター、ダイコーター、ナイフコーター、マイカバーコーター、フローコーター、スプレーコーター等により粘着層を塗工することにより、導電性粘着テープを形成することができる。粘着層の厚さは特に制限はないが、５〜１００μｍ程度が通常である。
【００９０】
透明基板の導電層と反対側に形成される機能層として近赤外線吸収層を設ける場合は、一般に、基板フィルムの表面に色素等を含む層を形成することにより得られる。近赤外線吸収層は、例えば上記色素及びバインダ樹脂等を含む塗工液を塗工、必要により乾燥、そして硬化させることにより得られる。或いは上記色素及びバインダ樹脂等を含む塗工液を塗工、そして単に乾燥させることによっても得られる。フィルムとして使用する場合は、一般に近赤外線カットフィルムであり、例えば色素等を含有するフィルムである。色素としては、一般に８００〜１２００ｎｍの波長に吸収極大を有するもので、例としては、フタロシアニン系色素、金属錯体系色素、ニッケルジチオレン錯体系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポリメチン系色素、アゾメチン系色素、アゾ系色素、ポリアゾ系色素、ジイモニウム系色素、アミニウム系色素、アントラキノン系色素、を挙げることができ、特にシアニン系色素又、フタロシアニン系色素、ジイモニウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。バインダ樹脂の例としては、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂を挙げることができる。
【００９１】
近赤外線吸収層に、ネオン発光の吸収機能（ネオンカット機能）を付与することにより色調の調節機能を持たせても良い。このために、ネオン発光の吸収層（ネオンカット層）を設けても良いが、近赤外線吸収層にネオン発光の選択吸収色素を含有させても良い。
【００９２】
ネオン発光の選択吸収色素としては、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ポリアゾ系色素、アズレニウム系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素を挙げることができる。このような選択吸収色素は、５８５ｎｍ付近のネオン発光の選択吸収性とそれ以外の可視光波長において吸収が小さいことが必要であるため、吸収極大波長が５７５〜５９５ｎｍであり、吸収スペクトル半値幅が４０ｎｍ以下であるものが好ましい。
【００９３】
また、近赤外線やネオン発光の吸収色素を複数種組み合わせる場合、色素の溶解性に問題がある場合、混合による色素間の反応ある場合、耐熱性、耐湿性等の低下が認められる場合には、すべての近赤外線吸収色素を同一の層に含有させる必要はなく、別の層に含有させても良い。また、光学特性に大きな影響を与えない限り、さらに着色用の色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤等を加えても良い。
【００９４】
なお、安定性等に問題がない場合は、近赤外線吸収機能及び／又はネオンカット機能を有する色素を、後述の粘着剤層に加えて、近赤外線吸収機能及び／又はネオンカット機能が付与された粘着剤層としても良い。
【００９５】
近赤外線吸収特性としては、８５０〜１０００ｎｍの透過率を、２０％以下、さらに１５％するのが好ましい。また選択吸収性としては、５８５ｎｍの透過率が５０％以下であることが好ましい。特に前者の場合には、周辺機器のリモコン等の誤作動が指摘されている波長領域の透過度を減少させる効果があり、後者の場合は、５７５〜５９５ｎｍにピークを持つオレンジ色が色再現性を悪化させる原因であることから、このオレンジ色の波長を吸収させる効果があり、これにより真赤性を高めて色の再現性を向上させたものである。近赤外線吸収層の層厚は、０．５〜５０μｍが一般的である。
【００９６】
機能層として粘着剤層を設ける場合は、本発明の光学フィルムをディスプレイパネル又はガラス基板に接着する機能を有するものであればどのような樹脂でも使用することができる。例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、ブチルアクリレート等から形成されたアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ（スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン）及びＳＢＳ（スチレン／ブタジエン／スチレン）等の熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）を主成分とするＴＰＥ系粘着剤及び接着剤等も用いることができる。前記粘着剤層の材料として、ＥＶＡを使用する場合、ＥＶＡとしては酢酸ビニル含有量が５〜５０重量％、好ましくは１５〜４０重量％のものが使用される。酢酸ビニル含有量が５重量％より少ないと透明性に問題があり、また４０重量％を超すと機械的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィルム相互のブロッキングが生じ易い。ＥＶＡを使用する場合は、必要に応じて有機過酸化物等の架橋剤、物性改良のための各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及びアリル基含有化合物、光増感剤、シランカップリング剤等の接着促進剤を添加して使用する。
【００９７】
また、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場合によってはカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を少量含んでも良い。
【００９８】
粘着剤層の層厚は、一般に５〜５００μｍ、特に１０〜１００μｍの範囲が好ましい。
【００９９】
光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイパネルのガラス板に圧着することにより装備することができる。もしくは、ガラス基板に圧着し、これをディスプレイの前面に設置し、光学フィルタとしても良い。
【０１００】
上記粘着剤層は、例えばＥＶＡと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形することにより製造される。
【０１０１】
粘着剤層上には、必要に応じて使用時まで粘着剤層を保護する剥離シートを設けても良い。剥離シートの材料としては、ガラス転移温度が５０℃以上の透明のポリマーが好ましく、このような材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等のポリマーを主成分とする樹脂を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが好適に用いることができる。厚さは１０〜２００μｍが好ましく、特に３０〜１００μｍが好ましい。
【実施例】
【０１０２】
以下、本発明を実施例により説明する。
【０１０３】
（１）メッシュ状導電層の形成
表面に易接着層（ポリエステルポリウレタン；厚さ２０ｎｍ）を有する厚さ１００μｍの長尺状ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（幅：６００ｍｍ、長さ１００ｍ）の易接着層上に、ポリビニルアルコールの２０％水溶液をドット状に印刷した。ドット１個の大きさは１辺が２３４μｍの正方形状であり、ドット同士間の間隔は２０μｍであり、ドット配列は正方格子状である。印刷厚さは、乾燥後で約５μｍである。
【０１０４】
その上に、銅を平均膜厚４μｍとなるように真空蒸着した。次いで、常温の水に浸漬し、スポンジで擦ることによりドット部分を溶解除去し、次いで水でリンスした後、乾燥してＰＥＴフィルムの全面にメッシュ状導電層を形成した（図１（１）参照）。
【０１０５】
このフィルム表面の導電層は、正確にドットのネガパターンに対応した正方格子状のものであり、線幅は２０μｍ、開口率は７７％であった。また、導電層（銅層）の平均厚さは４μｍであった。
【０１０６】
（２）ハードコート層（機能層）の形成
下記の配合：
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ） ８０質量部
ＩＴＯ（平均粒径１５０ｎｍ） ２０質量部
メチルエチルケトン １００質量部
トルエン １００質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製） ４質量部
を混合して得た塗工液を、上記メッシュ状導電層の全面に、バーコータにより塗布し（図１（２）参照）、紫外線照射により硬化させた。これにより、メッシュ状導電層上に厚さ５μｍのハードコート層を形成した（屈折率１．５２）。
【０１０７】
（３）低屈折率層の形成
下記の配合
オプスターＪＮ−７２１２（日本合成ゴム（株）製） １００質量部
メチルエチルケトン １１７質量部
メチルイソブチルケトン １１７質量部
を混合して得た塗工液を、上記ハードコート層上にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させ、次いで紫外線照射により硬化させた。これによりハードコート層上に厚さ９０ｎｍの低屈折率層（屈折率１．４２）を形成した。
【０１０８】
（４）近赤外線吸収層（ネオンカット機能を有する）の形成
下記の配合：
ポリメチルメタクリレート ３０質量部
ＴＡＰ−２（山田化学工業（株）製） ０．４質量部
Ｐｌａｓｔ Ｒｅｄ ８３８０（有本化学工業（株）製） ０．１質量部
ＣＩＲ−１０８５（日本カーリット（株）製） １．３質量部
ＩＲ−１０Ａ（（株）日本触媒製） ０．６質量部
メチルエチルケトン １５２質量部
メチルイソブチルケトン １８質量部
を混合して得た塗工液を、上記ＰＥＴフィルムの導電層を形成した面と反対側の表面面全面にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、ＰＥＴフィルム上に厚さ７μｍの近赤外線吸収層（ネオンカット機能を有する）を形成した。
【０１０９】
（５）粘着剤層の形成
下記の配合：
ＳＫダイン１８１１Ｌ（綜研化学（株）製） １００質量部
硬化剤Ｌ−４５（綜研化学（株）製） ０．４５質量部
トルエン １５質量部
酢酸エチル ４質量部
を混合して得た塗工液を、上記近赤外線吸収層上にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、近赤外線吸収層上に厚さ２５μｍの粘着剤層を形成した。
【０１１０】
（６）導電層露出工程
得られた積層体を矩形状（６００ｍｍ×４００ｍｍ）に裁断し、粘着剤層を介してガラス基板に貼付した。
【０１１１】
次いで図３に示すレーザ加工装置（ＣＯ2レーザー発振器を使用）を使用して、ガラス基板上の積層体の低屈折率層の周囲の縁部に、図１（３）及び図２に示した導電層露出工程に従って、レーザ照射して導電層露出領域を形成した。
【０１１２】
即ち、ＣＯ2パルスレーザ（パルス幅として３００マイクロ秒、波長；１０．６μｍ、パルスエネルギー；１００ｍＪ）を用いて出射したレーザ光を、レーザ光成形部（ＤＯＥ及び集光レンズ）により、焦点位置において、直径０．５５ｍｍの円形の集光光が走査方向に対して、４５度傾斜した直線上に１２個配列するように、間欠的（オン／オフの各間隔１ミリ秒）に照射した。レーザ照射は矩形状のコーナー部から開始して走査し、コーナー部毎に停止して、レーザ光成形部自体は回転させることなく９０度進行方向を転換して走査した。第二のコーナー部では、一度レーザ集光光が照射された部分では、レーザ照射を一時停止してレーザ加工光学系を移動させ、その後レーザ照射を再開して走査を継続した（図２）。コーナー部付近では走査速度を減速、加速させるので、焦点位置でのエネルギーが一定になるように出力等を制御した。走査速度の最大値は１０００ｍｍ／秒であった。
【０１１３】
低屈折率層の側端部近傍にスポット状の導電層露出部が連続した帯状の導電層露出領域（幅４．２５ｍｍ）及び、この領域を介してその外側の端部低屈折率層（幅０．５ｍｍ）が形成された。
【０１１４】
得られたディスプレイ用光学フィルタは、実際にＰＤＰに貼付して使用した場合、良好な電磁波シールド性、透明性を示し、従来のものと遜色ないものであった。
【０１１５】
なお、本発明は上記の実施の形態の構成及び実施例に限定されるものではなく、発明の要旨の範囲内で種々変形が可能である。
【産業上の利用可能性】
【０１１６】
本発明により、安価で高品質な電磁波シールド性を有するディスプレイ用光学フィルタを提供することができる。
【符号の説明】
【０１１７】
１２、２２ 透明基板
１３、２３ 導電層
１３’、２３’ 導電層露出領域
１６、２６ ハードコート層
１６’、２６’ 端部ハードコート層
２４ 近赤外線吸収層
２５ 粘着剤層
３０ レーザ発振器
３１ レーザ光
３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、３３ 反射ミラー
３４ 回折型光学素子（ＤＯＥ）
３５ 集光レンズ
３６ 加工テーブル
４０ レーザ光成形部
４１ レーザ集光光
４２ レーザ加工光学系
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイなどのディスプレイの画像表示部に用いられ、電磁波シールド性を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法、その製造方法に使用されるレーザ加工装置、及びその製造方法により製造されたディスプレイ用光学フィルタに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、ＰＤＰ等のディスプレイから発生する不要な電磁波の輻射や赤外線リモコン等の誤作動の原因となる赤外線の輻射を遮蔽するディスプレイ用フィルタとして、フィルタ内にメッシュ状の導電層を設けた、電磁波シールド性および光透過性を有するディスプレイ用光学フィルタが開発されている。
【０００３】
上記ディスプレイ用光学フィルタにおいては、導電層による電磁波シールド性が良好に発揮するように導電層とディスプレイ本体の導電面との間で、均一に導通を図る必要がある。そのため、ディスプレイ用光学フィルタからメッシュ状の導電層を外部にはみ出させ、ディスプレイ用光学フィルタの裏側に折り込ませて導通させるか、導電層に接触するように導電性粘着テープを挟み込み外部への導通を図る等の手段が用いられている。
【０００４】
また、上記ディスプレイ用光学フィルタには、１枚の基材フィルム上にメッシュ状の導電層を形成し、その上にハードコート層や反射防止層等の機能層を積層させているものも開発されている。この様な光学フィルタにおいては、導電層から外部への導通を図る場合に、例えば、形成した機能層の一部（一般にフィルタの側端部又は側端部近傍）をレーザ照射等により除去して導電層を露出させる手段が用いられている（特許文献１、２）。
【０００５】
レーザ照射による光学フィルタの導電層の露出は、表面の機能層のみを除去し、導電層に損傷を与えることがないような微細加工が必要である。導電層が断線したり、剥離したりすると、電磁波シールド性が損なわれるからである。そのため、以下のようなレーザ加工方法が行われる。
【０００６】
（１）ＵＶガスレーザ（エキシマレーザ）を用い、ビーム形状をアパーチャグリルで整え、極めて短時間のパルス幅で所定の回数照射することで、表面の機能層のみをアブレーション（瞬間除去）する方法。
【０００７】
エキシマレーザによる加工は光化学反応によるもので、非熱加工とも呼ばれ、発熱をほとんど伴わないため、下層部の導電層に影響を与えずに加工可能である。
【０００８】
（２）ＣＯ2レーザ等の赤外線レーザを用い、ビームのエネルギー出力及びスポットサイズを小さく絞り、表面の機能層の側端部近傍に、繰り返して密に照射することで、スポット状の露出部が密に配置された間欠的露出帯を形成する方法。
【０００９】
赤外線レーザの場合は、熱加工であり、一度に大面積の加工を行うと、熱伝導によって下層部の導電層までダメージを与えてしまうため、上述のような小さいスポットサイズで加工する方法が有効である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００７−２４３１５８号公報
【特許文献２】特開２００８−１９７５３９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、（１）の方法において、エキシマレーザはレーザ媒質のガスを高速循環させるガス再生装置やハロゲン除去装置を要するため、設備コストやランニングコストが他のレーザ加工装置に比べて大きく、製造コストが高いという問題がある。また、エキシマレーザ加工装置は、一般にレーザ光源を固定し、ワーク（被加工物）を搭載した加工テーブルをＸ−Ｙ方向に移動するワーク移動方式である。従って、大型の光学フィルタを加工する場合に大型のワークが移動するスペースが必要な点でスペース生産性が大幅に低下するという問題もある。
【００１２】
一方、（２）の方法において、ＣＯ2レーザ等の赤外線レーザは他のレーザ加工装置に比べて設備コスト及びランニングコストが低いので、コスト面の問題はない。また、赤外線レーザは繰り返し発振が可能であり、ワークを固定し、反射ミラー及び集光レンズを高速移動させる光移動方式により、ワークの表面にスポット状にレーザを繰り返して照射しながら走査することができるので、スペース生産性の面でも問題はない。しかしながら、１度の照射による露出部は小さいスポット状であるため、露出帯を一定の幅を持たせるために、複数回の往復走査が必要になり、露出部の形成に長時間を要するという問題がある。
【００１３】
そこで、本発明の目的は、高品質な電磁波シールド性を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法であって、導電層の露出工程を低コストで、且つ高い時間的生産効率で行うことができる製造方法を提供することにある。
【００１４】
また、本発明の目的は、その製造方法に使用されるレーザ加工装置を提供することにある。
【００１５】
更に、本発明の目的は、その製造方法で製造されたディスプレイ用光学フィルタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記目的は、透明基板、その表面全体に形成された導電層、及び導電層表面全体に形成された少なくとも１層の機能層を含む積層体の当該機能層表面の側端部又は側端部近傍に沿って、レーザ光を間欠的に照射しながら走査し、照射領域の機能層を除去して導電層を露出させる工程を含むディスプレイ用光学フィルタの製造方法であって、前記レーザ光の照射を、複数の集光光が、前記機能層表面で前記走査方向に対して所定の角度を持って傾斜する直線的に配列されるように行なうことを特徴とする製造方法によって達成される。即ち、前記レーザ光の１度の照射が、走査方向に直交する方向に一定の幅を持ったレーザ集光光の配列により行われるので、前記導電層を露出させる工程（以下、導電層露出工程と略す）は、レーザ光を間欠的に照射しながら１度の走査で完了することができる。また、前記機能層表面のコーナー部分において走査方向を転換する際、レーザ集光光の配列方向を転換しなくても、転換された走査方向に直交する方向にも一定の幅をもったレーザ集光光の配列とすることができるので、レーザ集光光の配列方向を、レーザ光を分岐、成形する光学素子を含む部分（以下、レーザ光成形部と略す）の回転等によって転換することなく走査を続けることができる。以上により、高い時間的生産効率で導電層露出工程を行うことができる。
【００１７】
更に、本発明に係る導電層露出工程は、設備コスト及びランニングコストが安価なＣＯ2レーザ等の赤外線レーザを好適に使用することができるので、低コストの製造方法とすることができる。
【００１８】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法の好ましい態様は以下の通りである。
（１）前記光学フィルタの形状が矩形状である。
（２）前記所定の角度が走査方向に対して３０〜６０度である。これにより、前記レーザ光の照射の第一方向への走査、及び走査方向を転換した際の第二方向への走査、どちらの場合においても、走査方向に直交する方向に、より有効な幅を持ったレーザ集光光の配列とすることができる。所定の角度は４０〜５０度がより好ましく、４５度が特に好ましい。所定の角度が４５度であれば、走査方向を９０度転換した際に、走査方向に直交する方向の幅が変化しないレーザ集光光の配列にすることができる。
（３）レーザの波長が０．２〜３０μｍの範囲、更には５〜１５μｍの範囲である。
（４）前記レーザ集光光の１個の直径が０．４〜１．０ｍｍである。
（５）前記レーザ集光光を重複して照射しない。レーザ集光光を重複して照射すると、機能層の下層である導電層にダメージを与えることになるため、走査方向の転換の際等に、前記レーザ集光光がすでに照射された位置では、レーザ集光光の照射を停止する等により重複照射を避けるのが好ましい。
（６）前記導電層が、メッシュ状金属導電層である。
（７）前記少なくとも１層の機能層がハードコート層である。
（８）透明基板が、プラスチック基板、特にポリエチレンテレフタレートフィルムである。
【００１９】
また、上記目的は、本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法に使用されるレーザ加工装置であって、レーザ光源からレーザ光を出射するためのレーザ発振器を含むレーザ発振手段、レーザ発振手段から出射するレーザ光を次のレーザ照射手段に導くための反射ミラーを含むレーザ案内手段、レーザ案内手段により導かれたレーザ光を前記積層体の機能層表面の側端部又は側端部近傍に沿って集光するための集光レンズを含むレーザ照射手段、及びレーザ照射手段を縦横方向に移動可能な走査手段を含み、且つ前記レーザ案内手段及び／又はレーザ照射手段は、レーザ光の照射を複数の集光光が前記機能層表面で、前記走査方向に対して所定の角度を持って傾斜する直線的に配列されるように行なうレーザ光成形手段を有することを特徴とするレーザ加工装置によっても達成される。
【００２０】
本発明のレーザ加工装置の好ましい態様は以下の通りである。
（１）前記所定の角度が走査方向に対して３０〜６０度である。
（２）前記レーザ発振手段がＣＯ2レーザ発振器を含む。
（３）前記レーザ光成形手段が、回折型光学素子（ＤＯＥ）を含む。
【００２１】
更に、上記目的は本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法により得られるディスプレイ用光学フィルタによっても達成される。
【発明の効果】
【００２２】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法によれば、導電層露出工程において、レーザ光の照射は、複数の集光光が、前記走査方向に対して所定の角度を持って傾斜する直線的に配列されるように行なわれている。即ち、前記レーザ光の１度の照射が、走査方向に直交する方向に一定の幅を持ったレーザ集光光の配列により行われるので、導電層露出工程は、レーザ光を間欠的に照射しながら１度の走査で完了することができる。また、前記走査方向を転換する際、レーザ集光光の配列方向を転換せずに、転換した走査方向に直交する方向にも一定の幅をもったレーザ集光光の配列とすることができるので、レーザ光成形部の回転等により、レーザ集光光の配列方向を転換することなく走査を続けることができる。以上により、高い時間的生産効率で導電層露出工程を行うことができる。なお、レーザ光成形部の回転やスイッチング機構が不要になるため、レーザ光成形部を含むレーザ光を照射しながら走査する部分（以下、レーザ加工光学系と略す）の軽量化が図られ、走査速度の向上も図ることができる。
【００２３】
更に、本発明に係る導電層露出工程は、設備コスト及びランニングコストが安価なＣＯ2レーザ等の赤外線レーザを好適に使用することができるので、低コストの製造方法とすることができる。
【００２４】
また、本発明のレーザ加工装置は、レーザ光の照射を、複数のレーザ集光光が前記走査方向に対して所定の角度を持って傾斜する直線的に配列するようにレーザ光を分岐、成形して行うために有利なレーザ加工装置である。
【００２５】
更に、本発明のディスプレイ用光学フィルタは、本発明の製造方法により製造されているので、生産性に優れ、安価で高品質な電磁波シールド性を有するディスプレイ用光学フィルタであると言える。従って、ＰＤＰ、ＣＲＴディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイなどのディスプレイに対して、好適に利用できる光学ディスプレイであると言える。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法の代表的な１例を説明するための概略断面図である。
【図２】本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法の代表的な１例を説明するための概略平面図であり、図２（ａ）が本発明の製造方法により導電層が露出された光学フィルタの全体を示し、図２（ｂ）がレーザ集光光の形状を示す図である。
【図３】本発明の製造方法で使用される本発明のレーザ加工装置の１例を示す概略図である。
【図４】本発明の製造方法で得られた本発明のディスプレイ用光学フィルタの好適態様の１例を示す図であり、図４（ａ）は概略断面図であり、図４（ｂ）は概略平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法について、図面を参照しながら説明する。図１及び図２は本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法の代表的な１例を説明するための図であり、図１が概略断面図であり、図２は概略平面図である。
【００２８】
矩形状の透明基板１２の表面の全域に、メッシュ状の導電層１３を形成し（１）（導電層形成工程）、次いで、メッシュ状の導電層１３の全域に機能層として合成樹脂からなるハードコート層１６を形成する（２）（機能層形成工程）。機能層としては何らかの機能を示す合成樹脂を含む層であればどのようなものでも良い。図１の例においては、ハードコート層１６のみであるが、例えば、ハードコート層１６の上に反射防止性を得るために、ハードコート層より屈折率の低い低屈折率層や屈折率層の高い高屈折率層を形成しても良い（図示していない）。また、例えば、透明基板１２が長尺状の場合、ロール・ツー・ロール方式でこのような積層体を形成しても良い。この場合、得られた積層体のロールから連続的に長尺状の積層体を送り出し、矩形状に裁断して次工程に用いる。
【００２９】
次に、得られた矩形状の積層体のハードコート層１６の側端部近傍に沿って、レーザ集光光を間欠的に照射しながら全周囲を走査する（３）（導電層露出工程）。これにより、レーザ照射領域の側端部近傍のハードコート層１６が除去され、導電層１３が露出し、導電層露出領域１３’が形成される（４）。この際、レーザ光を、図２（ｂ）に示すように、複数のレーザ集光光４１が矢印で示す走査方向に対して所定の角度Ｒを持って傾斜する直線Ｇ上に配列するように照射する。その結果、図２（ａ）に示すように、点Ａ（走査開始点）から点Ｂ（走査方向転換点）までの間は、走査方向に直交する方向に幅Ｌの導電層露出領域１３’（本発明においては複数のレーザ集光光の照射により形成されたスポット状の導電層の露出部が密に配置された（スポット状の露出部が一部で重なっていても良い）間欠的露出領域である）が形成される。また、点Ｂにて走査方向を９０度転換する場合、レーザ集光光の配列方向を転換せずに、走査方向に対して９０度−Ｒの角度を持つレーザ集光光の配列となるので、点Ｂから点Ｃの間は走査方向に直交する幅Ｌ’の導電層露出領域１３’が形成される。
【００３０】
レーザ集光光の配列方向を転換するには、後述するレーザ光成形部を回転させたり、２組のレーザ光成形部をスイッチングにより切り換えたりする機構が必要になり、加工精度の低下やレーザ加工光学系の重量が大きくなり、走査する際の加速、減速時間が多く必要になるため走査速度が低下することになる。本発明の方法であれば、上記のような機構が必要でないため、レーザ照射部の軽量化が図られ走査速度を高めることができる。
【００３１】
角度Ｒは走査方向に対して傾斜していれば（０度及び９０度以外であれば）、特に制限はない。但し、上述のように走査方向を転換した場合に、レーザ集光光の配列方向を転換せずに、上述の幅Ｌ及び幅Ｌ’がより有効な幅を持ったレーザ集光光の配列とするため、角度Ｒは３０〜６０度が好ましく、４０〜５０度がより好ましく、特に４５度が好ましい。角度Ｒが４５度であれば、走査方向を９０度転換した場合に、上述の幅Ｌ及び幅Ｌ’は同一となる。
【００３２】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの形状は、特に制限はなく、三角形以上の多角形でも円形でも良い。本発明の製造方法は、特に大型のディスプレイ用光学フィルタに有効であるため、大型製品の需要が高い、図１及び図２に示したような矩形状が好ましい。
【００３３】
図１及び図２の例においては、レーザ照射は側端部には照射しないように行っている。これにより、透明基板１２の側端部にレーザが照射されなかったハードコート層が残り、端部ハードコート層１６’が形成される。この両縁部の細い帯状の導電層露出領域１３’の幅（図１（４）のＬ又は図２（ａ）のＬ及びＬ’）は、一般に１〜１００ｍｍ、特に２〜５０ｍｍが好ましい。また端部ハードコート層１６’の細い帯状の領域の幅は、一般に０．１〜２０ｍｍであり、特に０．５〜５ｍｍが好ましい。導電層露出工程において、導電層露出領域１３’の外側に端部ハードコート層１６’を形成させず、側端部に導電層露出領域１３’を形成するように側端部に沿ってレーザ照射してハードコート層１６を除去しても良い。
【００３４】
本発明において、複数のレーザ集光光の照射により露出したスポット状の導電層の密度は、特に制限はないが、導電層露出領域１３’の全面積に対して、露出したスポット状の導電層の個数が２５〜２５０個／ｃｍ2、好ましくは５０〜２００個／ｃｍ2で、露出したスポット状の導電層の面積率が１５〜５０％、好ましくは２０〜４０％が好ましい。これにより、導電層の断線や剥離等のダメージを抑制しながら、ハードコート層１６を除去することができ、欠陥のない光学フィルタを製造することができる。また、このような導電層の露出面積率があれば、導電層露出領域１３’から外部へ導通させ、十分な電磁波シールド性を有する光学フィルタとすることができる。
【００３５】
また、導電層露出領域１３’を構成するスポットの形状は、図２（ａ）及び（ｂ）においては、円形のスポットで示しているが、矩形、楕円形、円形、多角形等どのような形状でも良い。全てのスポットの大きさは同じでも相互に異なっていても良い。一般に同じ大きさである。これらの形状は後述するレーザ光成形部により成形されるレーザ集光光の形状によって決定される。１個のスポットの面積は、一般に、０．１〜３０ｍｍ2、好ましくは０．１〜５ｍｍ2であり、スポット形状が円形の場合、その直径は０．３〜１．０ｍｍが好ましい。
【００３６】
本発明における導電層露出工程において、上述のようにレーザ集光光を間欠的に照射しながら全周囲に走査する際、レーザ集光光を重複して照射しないことが好ましい。重複して照射すると露出した導電層部分に、レーザ集光光が照射することになり、導電層に断線等の損傷が生じるからである。従って、図２（ａ）に示すように、レーザ照射の走査が点Ｃ（照射停止点）に達したときレーザ照射を一時停止し、その状態でレーザ集光光のスポットが重複しない点Ｄ（照射再開点）まで、レーザ加工光学系が移動させてからレーザ照射を再開するのが好ましい。その後、点Ｅ（走査方向転換点）を経て、点Ｆ（走査終了点）まで継続して走査できる。なお、点Ａ及び点Ｆ近傍におけるレーザ集光光についても重複しないように、予め、点Ａの位置を調整しておくのが好ましい。点Ｃ近傍の導電層露出領域１３’と点Ｄ近傍の導電層露出領域１３’の間隙、及び点Ａ近傍の導電層露出領域１３’と点Ｆ近傍の導電層露出領域１３’間隙の距離は０．３〜２０ｍｍが好ましく、１〜１０ｍｍがより好ましい。この距離であれば、安定した電磁波シールド性を得ることができる。
【００３７】
また、本発明において、導電層露出領域１３’の上に、導電性粘着テープを貼り付け、外部への導通を良好にさせても良い。導電性粘着テープは銀箔、銅箔等の導電性を有するテープ状の部材に金属粉体等の導電性粒子を分散させた粘着剤からなる粘着層を設けたものであればどのようなものでも使用可能である。
【００３８】
以上の説明では、透明基板１２、導電層１３、ハードコート層１６からなる積層体にレーザ照射して光学フィルタを得たが、後述するように、ディスプレイ用光学フィルタは、好適にガラス基板に貼付し使用されるので、上記積層体を得た後、後述の粘着剤層等により、ガラス基板に貼付し、その後上記の導電層露出工程を行うこともできる。この場合、積層体がガラス基板上に固定されることから、積層体の位置ズレや積層体の浮きが発生しないため、レーザの照射を所定の位置に確実に行うことができる点で好ましい。
【００３９】
本発明の製造方法に使用するレーザはＣＯ2レーザ、ＹＡＧレーザ（基本波、２倍波、３倍波）、エキシマレーザ、ルビーレーザ、半導体レーザ、アルゴンレーザ等どのようなものでも良いが、間欠的に照射しながら走査するので、ハードコート層１６の照射領域の下層の導電層１３の熱的損傷を回避できるため、熱加工に使用されるＣＯ2レーザ等の高出力の赤外線レーザが好適に使用できる。ＣＯ2レーザは設備コスト、ランニングコストが安価であるため、本発明の製造方法は低コストの製造方法であると言える。
【００４０】
本発明における導電層露出工程（３）に使用するレーザ加工装置について、図３を用いて詳しく説明する。図３は本発明のレーザ加工装置の１例を示す概略図である。図示のように、レーザ加工装置４５は、主としてレーザ光３１を出射するレーザ発振器３０、レーザ光３１を伝送する反射ミラー３２ａ〜３２ｃ及び３３、レーザ光３１を成形してレーザ集光光４１を照射する、レーザ光成形部４０（図３においては回折型光学素子（ＤＯＥ）３４及び集光レンズ３５を含む）、被加工物（ワーク）を保持する加工テーブル３６で構成される。回折型光学素子（ＤＯＥ）は、表面にミクロン単位の微細な凹凸を付けることにより光の回折現象を利用した光学素子であり、レーザ光の分岐、成形、ホモジナイズ等の応用が可能である。
【００４１】
レーザ発振器３０（レーザ発振手段）から出射されたレーザ光３１は、反射ミラー群３２ａ〜３２ｃ（必要に応じて移動可能になっており、必要に応じて反射ミラーが追加されていても良い）により導かれ、反射ミラー３３で９０度折り曲げられる。レーザ光３１はＤＯＥ３４で複数に分岐、成形され、集光レンズ３５で、上述の積層体のハードコート層１６の表面に、複数のレーザ集光光４１が前記走査方向に対して所定の角度を持って傾斜する直線的に配列されるように照射される（レーザ照射手段（レーザ光成形手段を有する））。
【００４２】
反射ミラー３２ａ〜３２ｃ及び３３は、一般にレーザ案内手段を構成している。反射ミラー３３及びレーザ光成形部４０は、レーザ加工光学系４２を構成し、一緒に矢印方向（Ｘ及びＹ方向）に移動可能になっている（一般にＸ−Ｙプロッターのアーム上に取り付けられる）。レーザ加工光学系４２の移動方向と、その他の反射ミラー３２ａ〜３２ｃの移動の組合せにより、レーザ加工光学系４２はハードコート層１６のレーザ照射領域全域（全周囲の側端部又は側端部近傍）を移動し、走査することができる（走査手段）。
【００４３】
レーザ光成形部４０によるレーザ光３１の分岐及び成形は、上述のような複数のレーザ集光光４１に成形できればどのような方法でも良い。光の位相を直接制御でき、精度の高い成形が可能なため、図示のようなＤＯＥ３４による分岐で複数のレーザ集光光に成形するのが好ましい。ＤＯＥとしては、位相変換回折格子、ビームスプリッタ−、ビーム光束多分割素子、ビーム整形光学素子、回折型球面収差補正ハイブリッド集光レンズ、回折型長焦点深度集光レンズ、２波長補正集光レンズ、回折型線状集光レンズ、回折型マイクロレンズアレイ等を挙げることができる。ＤＯＥは複数のスポットを走査方向に対して、正確に所定の角度の直線上に配置するため、丸形形状の一部を切り欠くような構造とするのが好ましい。これにより角度の位置決めが容易となる。レーザ光成形部４０はレーザ照射手段の前段のレーザ案内手段に有していても良い。
【００４４】
レーザ集光光４１の数は特に制限はなく、一般に５〜２０個、好ましくは８〜１５個である。上述のように、複数のレーザ集光光を走査方向に対して所定の角度、好ましくは３０〜６０度、より好ましくは４０〜５０度、特に４５度で傾斜する直線的に配列することにより、コーナー部分で走査方向を９０度転換する場合に、レーザ光成形部４０は回転させずにレーザ加工光学系４２の移動方向のみ転換することで走査を続けることができる。レーザ集光光の配列方向が走査方向に対して、傾斜していない（即ち直交している）場合、走査方向の転換に応じて、レーザ集光光の配列方向も転換する必要があるため、レーザ光成形部４０を回転させたり、レーザ光成形部４０を複数設けてスイッチングにより切り換えたりする機構が必要になる。そうすると、駆動部の振動等による加工精度の低下やレーザ加工光学系４２の重量が大きくなり、走査する際の加速、減速時間が多く必要になるため走査速度が低下することになる。本発明のレーザ加工装置であれば、上記のような機構が必要でないため、レーザ照射部４２の軽量化が図られ、走査速度を高めることができる。
【００４５】
本発明のレーザ加工装置において、レーザ発振器は連続波レーザでもパルスレーザでも良い。但し、連続波レーザは照射部分に過剰な熱が付与されやすい傾向にあるため、ハードコート層１６のレーザ照射領域の下層の導電層１３に熱的損傷が生じ易い。パルスレーザは照射時間のコントロールし易く、熱的損傷の回避が容易な点で好ましい。パルスレーザの波長は特に制限はないが、０．２〜３０μｍ、更には５〜１５μｍの範囲が好ましい。短波長のレーザは、熱的損傷が生じ難いが、加工に時間がかかり過ぎるため、長波長のレーザ（赤外線レーザ）を用いて短時間照射し、ショット間隔を大きくとって熱的損傷を回避する方が好ましい。パルスレーザ発振器としては、ＣＯ2レーザ、ＹＡＧレーザ（２倍波、３倍波）、ルビーレーザ、エキシマレーザ、半導体レーザ、アルゴンレーザ等の発振器を用いることができる。本発明のレーザ加工装置においては、高出力の赤外線レーザが好ましく、特に高出力で、且つ設備コスト、ランニングコストが安価なＣＯ2レーザ発振器を使用するのが好ましい。この場合、パルスレーザのパルス幅は１〜１０００マイクロ秒、更には１００〜８００マイクロ秒であることが好ましい。レーザの間欠的な照射はレーザのパルス自体を利用しても良いが（その場合パルス幅は一般に数百マイクロ秒である）、短パルス（一般に百マイクロ秒未満）の場合は、特定数のパルス群でオン−オフすることにより行っても良い。パルスレーザの出力は５〜５ｋＷ、相対移動速度１〜３０００ｍｍ／秒で行うことが好ましい。
【００４６】
図４は本発明の製造方法で得られた本発明のディスプレイ用光学フィルタの代表的な１例を示す図であり、図４（ａ）が概略断面図であり、図４（ｂ）が概略平面図である。
【００４７】
図４（ａ）に示すように、本発明のディスプレイ用光学フィルタは、矩形状の透明基板２２の一方の表面全域に、メッシュ状の導電層２３が形成され、導電層２３の表面全域にハードコート層２６が形成されている。ハードコート層２６の側端部近傍には全周囲に渡り、レーザ照射によりハードコート層２６が除去され、導電層が露出した導電層露出領域２３’が形成され、その外側はハードコート層２６が残存した端部ハードコート層２６’が形成されている。導電層露出領域２３’の外側に端部ハードコート層２６’がなく、光学フィルタの側端部に沿って導電層露出領域２３’があっても良い。
【００４８】
本発明のディスプレイ用光学フィルタは、本発明の製造方法により得られているので、図４（ｂ）に示すように、導電層露出領域２３’は複数のレーザ集光光の照射により形成されたスポット状の導電層の露出部が密に配置された間欠的露出領域である。露出したスポット状の導電層の密度は、特に制限はないが、導電層露出領域２３’の全面積に対して、露出したスポット状の導電層の個数が２５〜２５０個／ｃｍ2、好ましくは５０〜２００個／ｃｍ2で、露出したスポット状の導電層の面積率が１５〜５０％、好ましくは２０〜４０％が好ましい。また、このような導電層の露出面積率があれば、導電層露出領域１３’から外部へ導通させ、十分な電磁波シールド性を有する光学フィルタとすることができる。
【００４９】
また、導電層露出領域２３’を構成するスポットの形状は、図４（ｂ）においては、円形のスポットで示しているが、矩形、楕円形、円形、多角形等どのような形状でも良い。全てのスポットの大きさは同じでも相互に異なっていても良い。一般に同じ大きさである。これらの形状は上述のレーザ光成形部により成形されるレーザ集光光の形状によって決定される。１個のスポットの面積は、一般に、０．１〜３０ｍｍ2、好ましくは０．１〜５ｍｍ2であり、スポット形状が円形の場合、その直径は０．３〜１．０ｍｍが好ましい。
【００５０】
更に、導電層露出領域２３’は、図４（ｂ）に示すように矩形状の光学フィルタのコーナー部分（図４（ｂ）中において破線で囲んだ部分）において、光学フィルタの辺に対して所定の角度で傾斜した直線上にある端部で途切れた形状を有するのが好ましい。導電層露出領域２３’の間隙の距離は、好ましくは０．３〜２０ｍｍ、より好ましくは１〜１０ｍｍである。この距離であれば、安定した電磁波シールド性を得ることができる。
【００５１】
帯状の導電層露出領域２３’の幅（図４のＬ及びＬ’）は一般に１〜１００ｍｍ、特に２〜５０ｍｍが好ましい。また端部ハードコート層２６’の帯状の領域の幅は一般に０．１〜２０ｍｍ、特に０．５〜５ｍｍが好ましい。図４（ｂ）における幅Ｌ及びＬ’は、上述の製造方法における、レーザ集光光のスポット配列の走査方向に対する角度によって、同一の場合も、異なっている場合もありうる。安定した電磁波シールド性のためには幅Ｌ及びＬ’は同一である（この場合、上記走査方向に対する角度が４５度である）のが好ましい。
【００５２】
本発明においては、上述のように導電層露出領域の上に、導電性粘着テープを貼付けた構成とし、外部への導通を良好にさせても良い。
【００５３】
本発明において、機能層としては、何らかの機能を示す合成樹脂を含む層であれば、どのようなものでも良い。図４（ａ）においては、導電層２３の上にはハードコート層２６のみであるが、ハードコート層とハードコート層より屈折率の低い低屈折率層とからなるか（この場合、ハードコート層が導電層と接している）又は、ハードコート層、ハードコート層より屈折率の高い高屈折率層、及びハードコート層より屈折率の低い低屈折率層からなる機能層としても良い。層が多いほど、より良好な反射防止性が得られる。ハードコート層に防眩機能を設けて、防眩層としても良い。また、別の機能層を設けても良い。一般に、近赤外線吸収層、ネオンカット層又は粘着剤層、或いはこれらの層の２層以上の組合せである。図４（ａ）においては、透明基板２２の導電層２３を形成した面と反対側の表面全域に、別の機能層として近赤外線吸収層２４及びその上に粘着剤層２５が形成されている。別の機能層としては近赤外線吸収機能及びネオンカット層を有する粘着剤層、ネオンカット機能を有する近赤外線吸収層及び粘着剤層（この順で透明基板上に設けられている）、或いは近赤外線吸収層、ネオンカット層及び粘着剤層（この順で透明基板上に設けられている）としても良い。
【００５４】
本発明のディスプレイ用光学フィルタは、一般に粘着剤層２５を介して、ＰＤＰ等のディスプレイパネルの表示面に貼付したり、ガラス基板に貼付し、ＰＤＰ等のディスプレイパネルの前面に配置したりして使用する。その際、導電層露出領域２３’からディスプレイ本体の筺体等へ導通させ、アースをとることで、電磁波シールド性を達成することができる。
【００５５】
本発明のディスプレイ用光学フィルタは、本発明の製造方法により得られているので、安価で電磁波シールド性に優れた光学フィルタである。
【００５６】
本発明のディスプレイ用光学フィルタは本発明の製造方法により得られていれば良く、その他の構成は必要に応じて従来技術等を組合せることができる。
【００５７】
本発明のディスプレイ用光学フィルタに使用される材料について以下に説明する。
【００５８】
本発明における透明基板は、一般に、透明なプラスチックフィルムである。その材料としては、透明（「可視光に対して透明」を意味する。）であれば特に制限はない。プラスチックフィルムの例としては、ポリエステル｛例、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート｝、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中でも、加工時の負荷（熱、溶剤、折り曲げ等）に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等が好ましい。特に、ＰＥＴが、加工性に優れているので好ましい。
【００５９】
透明基板の厚さとしては、光学フィルタの用途等によっても異なるが、一般に１μｍ〜１０ｍｍ、１μｍ〜５ｍｍ、特に２５〜２５０μｍが好ましい。
【００６０】
本発明における導電層は、一般に１０Ω／□以下、好ましくは０．００１〜５Ω／□の範囲、特に０．００５〜５Ω／□のとなるように設定される。メッシュ状の導電層も好ましい。或いは、導電層は、気相成膜法により得られる層（金属酸化物（ＩＴＯ等）の透明導電薄膜）でも良い。さらに、ＩＴＯ等の金属酸化物の誘電体膜とＡｇ等の金属層との交互積層体（例、ＩＴＯ／銀／ＩＴＯ／銀／ＩＴＯの積層体）であっても良い。
【００６１】
メッシュ状の導電層としては金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属を網状にしたもの、透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等を挙げることができる。
【００６２】
メッシュ状の導電層の場合、メッシュとしては、金属繊維及び／又は金属被覆有機繊維よりなる線径１μｍ〜１ｍｍ、開口率４０〜９５％のものが好ましい。より好ましい線径は１０〜５００μｍ、開口率は５０〜９５％である。メッシュ状の導電層において、線径が１ｍｍを超えると電磁波シールド性が向上するが、開口率が低下し両立させることができない。１μｍ未満では、メッシュとしての強度が下がり取扱いが困難となる。また開口率が９５％を超えるとメッシュとしての形状を維持することが困難であり、４０％未満では光透過性が低下し、ディスプレイからの光量も低下する。
【００６３】
なお、メッシュの開口率とは、当該メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。
【００６４】
メッシュ状の導電層を構成する金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、鉛、鉄、銀、炭素又はこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、ニッケルが用いられる。
【００６５】
金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポリエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラミド、ビニロン、セルロース等が用いられる。
【００６６】
金属箔等の導電性の箔をパターンエッチングしたもの場合、金属箔の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。
【００６７】
金属箔の厚さは、薄過ぎると取扱い性やパターンエッチングの作業性等の面で好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルムの厚さに影響を及ぼし、エッチング工程の所要時間が長くなることから、１〜２００μｍ程度とするのが好ましい。
【００６８】
エッチングパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の孔が形成された格子状の金属箔や、円形、六角形、三角形又は楕円形の孔が形成されたパンチングメタル状の金属箔等が挙げられる。また、孔は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この金属箔の投影面における開口部分の面積割合は、２０〜９５％であることが好ましい。
【００６９】
上記の他に、メッシュ状の導電層として、フィルム面に、溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成し、フィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料からなる導電材料層を形成し、フィルム面を溶剤と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去することによって得られるメッシュ状の導電層を用いても良い。
【００７０】
導電層上に、さらに金属メッキ層を、導電性を向上させるためは設けても良い（特に、上記溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成する方法の場合）。金属メッキ層は、公知の電解メッキ法、無電解メッキ法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、アルミ、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。
【００７１】
また、防眩性能を付与させても良い。この防眩化処理を行う場合、（メッシュ）導電層の表面に黒化処理を行っても良い。例えば、金属膜の酸化処理、クロム合金等の黒色メッキ、黒又は暗色系のインクの塗布等を行うことができる。
【００７２】
本発明における導電層の上に形成する機能層は、一般にハードコート層とその上に設けられたハードコート層より屈折率の低い低屈折率層との複合膜であるか、或いはハードコート層と低屈折率層との間にさらに高屈折率層が設けられた複合膜である。反射防止のためには基板フィルムより屈折率の低いハードコート層のみであっても有効である。但し、基材フィルムの屈折率が低い場合、基材フィルムより屈折率の高いハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜、或いは低屈折率層上にさらに高屈折率層が設けられた複合膜としても良い。
【００７３】
ハードコート層は、アクリル樹脂層、エポキシ樹脂層、ウレタン樹脂層、シリコン樹脂層等の合成樹脂を主成分とする層である。なお、本発明において、ハードコート層とは、ＪＩＳ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験でＨ以上の硬度を有するものをいう。通常、ハードコート層の厚さは１〜５０μｍ、好ましくは１〜２０μｍである。合成樹脂は、一般にフェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、シリコン樹脂などの熱硬化性樹脂、又は紫外線硬化性樹脂であり、紫外線硬化性樹脂が好ましい。紫外線硬化性樹脂は、短時間で硬化させることができ、生産性に優れ、またレーザーにより除去し易い点からも好ましい。
【００７４】
紫外線硬化性樹脂を用いる場合は、紫外線硬化性樹脂組成物（紫外線硬化性樹脂、光重合開始剤等からなる）として使用する。
【００７５】
紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）としては、例えば、フェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、ベヘニル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルサクシネート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化２−メチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート等の（メタ）アクリレートモノマー類；ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等）と有機ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４′−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４′−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２′−４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物であるポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら化合物は１種又は２種以上、混合して使用することができる。これらの紫外線硬化性樹脂を、熱重合開始剤とともに用いて熱硬化性樹脂として使用してもよい。
【００７６】
ハードコート層とするには、上記の紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）の内、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。
【００７７】
紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤として、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１などのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。特に１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア１８４）が好ましい。
【００７８】
光重合開始剤の量は、樹脂組成物に対して一般に０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。
【００７９】
さらに、ハードコート層は、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいても良い。特に、紫外線吸収剤（例、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤又はベンゾフェノン系紫外線吸収剤）を含むことが好ましく、これによりフィルタの黄変等の防止が効率的に行うことができる。その量は、樹脂組成物に対して一般に０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。
【００８０】
ハードコート層は、透明基板より屈折率層が低いことが好ましく、上記紫外線硬化性樹脂を用いることにより、一般に透明基板より低い屈折率を得られやすい。従って、透明ｋ場としてはＰＥＴ等の高い屈折率の材料を用いることが好ましい。このため、ハードコート層は、屈折率を１．６０以下にすることが好ましい。層厚は上述の通りである。
【００８１】
機能層に高屈折率層を設ける場合は、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に、ＩＴＯ，ＡＴＯ，Ｓｂ2Ｏ3，ＳｂＯ2，Ｉｎ2Ｏ3，ＳｎＯ2，ＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2等の導電性金属酸化物微粒子（無機化合物）が分散した層（硬化層）とすることが好ましい。金属酸化物微粒子としては、平均粒径１０〜１００００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍのものが好ましい。特にＩＴＯ（特に平均粒径１０〜５０ｎｍのもの）が好ましい。層厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。
【００８２】
機能層に低屈折率層を設ける場合は、シリカ、フッ素樹脂等の微粒子、好ましくは中空シリカを１０〜４０重量％（好ましくは１０〜３０質量％）がポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に分散した層（硬化層）であることが好ましい。層厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。中空シリカとしては、平均粒径１０〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍ、比重０．５〜１．０、好ましくは０．８〜０．９のものが好ましい。
【００８３】
機能層のハードコート層は、可視光線透過率が８５％以上であることが好ましい。高屈折率層及び低屈折率層の可視光線透過率も、いずれも８５％以上であることが好ましい。
【００８４】
機能層がハードコート層と上記２層より構成される場合、例えば、ハードコート層の厚さは２〜２０μｍ、高屈折率層の厚さは５０〜１５０ｎｍ、低屈折率層の厚さは５０〜１５０ｎｍであることが好ましい。
【００８５】
機能層の、各層を形成するには、例えば、前記の通り、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）に必要に応じ上記の微粒子を配合し、得られた塗工液を、前記の矩形透明基板表面に塗工し、次いで乾燥した後、紫外線照射して硬化すればよい。この場合、各層を１層ずつ塗工し硬化させてもよく、全層を塗工した後、まとめて硬化させてもよい。
【００８６】
塗工の具体的な方法としては、アクリル系モノマー等を含む紫外線硬化性樹脂をトルエン等の溶媒で溶液にした塗工液をグラビアコータ等によりコーティングし、その後乾燥し、次いで紫外線により硬化する方法を挙げることができる。このウェットコーティング法であれば、高速で均一に且つ安価に成膜できるという利点がある。このコーティング後に例えば紫外線を照射して硬化することにより密着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が得られる。
【００８７】
紫外線硬化の場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。また、硬化促進のために、予め積層体を４０〜１２０℃に加熱し、これに紫外線を照射してもよい。
【００８８】
前述のように、機能層としてハードコート層の代わりに防眩層を設けることもできる。これにより反射防止効果が大きいものが得られやすい。防眩層は、例えば、バインダ（インクメジウム）に顔料微粒子（例、カーボンブラック、黒色酸化鉄等）を分散させた液、又はポリマー微粒子（例、アクリルビーズ）等の透明フィラー（好ましくは平均粒径１〜１０μｍ）をバインダに分散させた液を塗布、乾燥することにより、或いは金属層を硫化処理等の黒化処理により金属硫化物よりなる防眩層を形成する。特に、前述のハードコート層形成用材料に透明フィラーを加えた液を塗布、硬化させた、ハードコート機能を有する防眩層が好ましい。防眩層の層厚は、一般に０．０１〜１μｍの範囲である。
【００８９】
導電層露出領域の上に導電性粘着テープを貼り付ける場合は、上述のように、導電性粘着テープは導電性を有するテープ状の部材に導電性粒子を分散させた粘着剤からなる粘着層を設けたものであればどのようなものでも使用可能である。テープ状部材は例えば、銀箔、銅箔、ニッケル箔、アルミニウム箔、ステンレス箔又は鉛箔等の金属箔や、導電性樹脂フィルムを用いることができる。テープ状部剤の厚さは通常１〜１００μｍ程度である。また粘着剤は、例えば、アクリル系、ゴム系、シリコン系粘着剤やエポキシ系、フェノール系樹脂に硬化剤を配合したものを用いることができる。粘着剤に分散させる導電性粒子としては電気的に良好な導体であれば良く、種々のものを使用することができる。例えば、銅、銀、ニッケル等の金属粉体、これらの金属で被覆された樹脂又はセラミック粉体等を使用することができる。導電性粒子の形状には特に制限はなく、例えば、鱗片状、粒状、樹枝状等の任意の形状で使用できる。また、導電性粒子の平均粒径は１〜１００μｍが好ましく、配合量は粘着剤に対して０．１〜１５容量％が好ましい。これらの材料を均一に混合し、テープ状部材にロールコーター、ダイコーター、ナイフコーター、マイカバーコーター、フローコーター、スプレーコーター等により粘着層を塗工することにより、導電性粘着テープを形成することができる。粘着層の厚さは特に制限はないが、５〜１００μｍ程度が通常である。
【００９０】
透明基板の導電層と反対側に形成される機能層として近赤外線吸収層を設ける場合は、一般に、基板フィルムの表面に色素等を含む層を形成することにより得られる。近赤外線吸収層は、例えば上記色素及びバインダ樹脂等を含む塗工液を塗工、必要により乾燥、そして硬化させることにより得られる。或いは上記色素及びバインダ樹脂等を含む塗工液を塗工、そして単に乾燥させることによっても得られる。フィルムとして使用する場合は、一般に近赤外線カットフィルムであり、例えば色素等を含有するフィルムである。色素としては、一般に８００〜１２００ｎｍの波長に吸収極大を有するもので、例としては、フタロシアニン系色素、金属錯体系色素、ニッケルジチオレン錯体系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポリメチン系色素、アゾメチン系色素、アゾ系色素、ポリアゾ系色素、ジイモニウム系色素、アミニウム系色素、アントラキノン系色素、を挙げることができ、特にシアニン系色素又、フタロシアニン系色素、ジイモニウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。バインダ樹脂の例としては、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂を挙げることができる。
【００９１】
近赤外線吸収層に、ネオン発光の吸収機能（ネオンカット機能）を付与することにより色調の調節機能を持たせても良い。このために、ネオン発光の吸収層（ネオンカット層）を設けても良いが、近赤外線吸収層にネオン発光の選択吸収色素を含有させても良い。
【００９２】
ネオン発光の選択吸収色素としては、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ポリアゾ系色素、アズレニウム系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素を挙げることができる。このような選択吸収色素は、５８５ｎｍ付近のネオン発光の選択吸収性とそれ以外の可視光波長において吸収が小さいことが必要であるため、吸収極大波長が５７５〜５９５ｎｍであり、吸収スペクトル半値幅が４０ｎｍ以下であるものが好ましい。
【００９３】
また、近赤外線やネオン発光の吸収色素を複数種組み合わせる場合、色素の溶解性に問題がある場合、混合による色素間の反応ある場合、耐熱性、耐湿性等の低下が認められる場合には、すべての近赤外線吸収色素を同一の層に含有させる必要はなく、別の層に含有させても良い。また、光学特性に大きな影響を与えない限り、さらに着色用の色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤等を加えても良い。
【００９４】
なお、安定性等に問題がない場合は、近赤外線吸収機能及び／又はネオンカット機能を有する色素を、後述の粘着剤層に加えて、近赤外線吸収機能及び／又はネオンカット機能が付与された粘着剤層としても良い。
【００９５】
近赤外線吸収特性としては、８５０〜１０００ｎｍの透過率を、２０％以下、さらに１５％するのが好ましい。また選択吸収性としては、５８５ｎｍの透過率が５０％以下であることが好ましい。特に前者の場合には、周辺機器のリモコン等の誤作動が指摘されている波長領域の透過度を減少させる効果があり、後者の場合は、５７５〜５９５ｎｍにピークを持つオレンジ色が色再現性を悪化させる原因であることから、このオレンジ色の波長を吸収させる効果があり、これにより真赤性を高めて色の再現性を向上させたものである。近赤外線吸収層の層厚は、０．５〜５０μｍが一般的である。
【００９６】
機能層として粘着剤層を設ける場合は、本発明の光学フィルムをディスプレイパネル又はガラス基板に接着する機能を有するものであればどのような樹脂でも使用することができる。例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、ブチルアクリレート等から形成されたアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ（スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン）及びＳＢＳ（スチレン／ブタジエン／スチレン）等の熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）を主成分とするＴＰＥ系粘着剤及び接着剤等も用いることができる。前記粘着剤層の材料として、ＥＶＡを使用する場合、ＥＶＡとしては酢酸ビニル含有量が５〜５０重量％、好ましくは１５〜４０重量％のものが使用される。酢酸ビニル含有量が５重量％より少ないと透明性に問題があり、また４０重量％を超すと機械的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィルム相互のブロッキングが生じ易い。ＥＶＡを使用する場合は、必要に応じて有機過酸化物等の架橋剤、物性改良のための各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及びアリル基含有化合物、光増感剤、シランカップリング剤等の接着促進剤を添加して使用する。
【００９７】
また、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場合によってはカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を少量含んでも良い。
【００９８】
粘着剤層の層厚は、一般に５〜５００μｍ、特に１０〜１００μｍの範囲が好ましい。
【００９９】
光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイパネルのガラス板に圧着することにより装備することができる。もしくは、ガラス基板に圧着し、これをディスプレイの前面に設置し、光学フィルタとしても良い。
【０１００】
上記粘着剤層は、例えばＥＶＡと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形することにより製造される。
【０１０１】
粘着剤層上には、必要に応じて使用時まで粘着剤層を保護する剥離シートを設けても良い。剥離シートの材料としては、ガラス転移温度が５０℃以上の透明のポリマーが好ましく、このような材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等のポリマーを主成分とする樹脂を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが好適に用いることができる。厚さは１０〜２００μｍが好ましく、特に３０〜１００μｍが好ましい。
【実施例】
【０１０２】
以下、本発明を実施例により説明する。
【０１０３】
（１）メッシュ状導電層の形成
表面に易接着層（ポリエステルポリウレタン；厚さ２０ｎｍ）を有する厚さ１００μｍの長尺状ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（幅：６００ｍｍ、長さ１００ｍ）の易接着層上に、ポリビニルアルコールの２０％水溶液をドット状に印刷した。ドット１個の大きさは１辺が２３４μｍの正方形状であり、ドット同士間の間隔は２０μｍであり、ドット配列は正方格子状である。印刷厚さは、乾燥後で約５μｍである。
【０１０４】
その上に、銅を平均膜厚４μｍとなるように真空蒸着した。次いで、常温の水に浸漬し、スポンジで擦ることによりドット部分を溶解除去し、次いで水でリンスした後、乾燥してＰＥＴフィルムの全面にメッシュ状導電層を形成した（図１（１）参照）。
【０１０５】
このフィルム表面の導電層は、正確にドットのネガパターンに対応した正方格子状のものであり、線幅は２０μｍ、開口率は７７％であった。また、導電層（銅層）の平均厚さは４μｍであった。
【０１０６】
（２）ハードコート層（機能層）の形成
下記の配合：
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ） ８０質量部
ＩＴＯ（平均粒径１５０ｎｍ） ２０質量部
メチルエチルケトン １００質量部
トルエン １００質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製） ４質量部
を混合して得た塗工液を、上記メッシュ状導電層の全面に、バーコータにより塗布し（図１（２）参照）、紫外線照射により硬化させた。これにより、メッシュ状導電層上に厚さ５μｍのハードコート層を形成した（屈折率１．５２）。
【０１０７】
（３）低屈折率層の形成
下記の配合
オプスターＪＮ−７２１２（日本合成ゴム（株）製） １００質量部
メチルエチルケトン １１７質量部
メチルイソブチルケトン １１７質量部
を混合して得た塗工液を、上記ハードコート層上にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させ、次いで紫外線照射により硬化させた。これによりハードコート層上に厚さ９０ｎｍの低屈折率層（屈折率１．４２）を形成した。
【０１０８】
（４）近赤外線吸収層（ネオンカット機能を有する）の形成
下記の配合：
ポリメチルメタクリレート ３０質量部
ＴＡＰ−２（山田化学工業（株）製） ０．４質量部
Ｐｌａｓｔ Ｒｅｄ ８３８０（有本化学工業（株）製） ０．１質量部
ＣＩＲ−１０８５（日本カーリット（株）製） １．３質量部
ＩＲ−１０Ａ（（株）日本触媒製） ０．６質量部
メチルエチルケトン １５２質量部
メチルイソブチルケトン １８質量部
を混合して得た塗工液を、上記ＰＥＴフィルムの導電層を形成した面と反対側の表面面全面にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、ＰＥＴフィルム上に厚さ７μｍの近赤外線吸収層（ネオンカット機能を有する）を形成した。
【０１０９】
（５）粘着剤層の形成
下記の配合：
ＳＫダイン１８１１Ｌ（綜研化学（株）製） １００質量部
硬化剤Ｌ−４５（綜研化学（株）製） ０．４５質量部
トルエン １５質量部
酢酸エチル ４質量部
を混合して得た塗工液を、上記近赤外線吸収層上にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、近赤外線吸収層上に厚さ２５μｍの粘着剤層を形成した。
【０１１０】
（６）導電層露出工程
得られた積層体を矩形状（６００ｍｍ×４００ｍｍ）に裁断し、粘着剤層を介してガラス基板に貼付した。
【０１１１】
次いで図３に示すレーザ加工装置（ＣＯ2レーザー発振器を使用）を使用して、ガラス基板上の積層体の低屈折率層の周囲の縁部に、図１（３）及び図２に示した導電層露出工程に従って、レーザ照射して導電層露出領域を形成した。
【０１１２】
即ち、ＣＯ2パルスレーザ（パルス幅として３００マイクロ秒、波長；１０．６μｍ、パルスエネルギー；１００ｍＪ）を用いて出射したレーザ光を、レーザ光成形部（ＤＯＥ及び集光レンズ）により、焦点位置において、直径０．５５ｍｍの円形の集光光が走査方向に対して、４５度傾斜した直線上に１２個配列するように、間欠的（オン／オフの各間隔１ミリ秒）に照射した。レーザ照射は矩形状のコーナー部から開始して走査し、コーナー部毎に停止して、レーザ光成形部自体は回転させることなく９０度進行方向を転換して走査した。第二のコーナー部では、一度レーザ集光光が照射された部分では、レーザ照射を一時停止してレーザ加工光学系を移動させ、その後レーザ照射を再開して走査を継続した（図２）。コーナー部付近では走査速度を減速、加速させるので、焦点位置でのエネルギーが一定になるように出力等を制御した。走査速度の最大値は１０００ｍｍ／秒であった。
【０１１３】
低屈折率層の側端部近傍にスポット状の導電層露出部が連続した帯状の導電層露出領域（幅４．２５ｍｍ）及び、この領域を介してその外側の端部低屈折率層（幅０．５ｍｍ）が形成された。
【０１１４】
得られたディスプレイ用光学フィルタは、実際にＰＤＰに貼付して使用した場合、良好な電磁波シールド性、透明性を示し、従来のものと遜色ないものであった。
【０１１５】
なお、本発明は上記の実施の形態の構成及び実施例に限定されるものではなく、発明の要旨の範囲内で種々変形が可能である。
【産業上の利用可能性】
【０１１６】
本発明により、安価で高品質な電磁波シールド性を有するディスプレイ用光学フィルタを提供することができる。
【符号の説明】
【０１１７】
１２、２２ 透明基板
１３、２３ 導電層
１３’、２３’ 導電層露出領域
１６、２６ ハードコート層
１６’、２６’ 端部ハードコート層
２４ 近赤外線吸収層
２５ 粘着剤層
３０ レーザ発振器
３１ レーザ光
３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、３３ 反射ミラー
３４ 回折型光学素子（ＤＯＥ）
３５ 集光レンズ
３６ 加工テーブル
４０ レーザ光成形部
４１ レーザ集光光
４２ レーザ加工光学系
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板、その表面全体に形成された導電層、及び導電層表面全体に形成された少なくとも１層の機能層を含む積層体の当該機能層表面の側端部又は側端部近傍に沿って、レーザ光を間欠的に照射しながら走査し、照射領域の機能層を除去して導電層を露出させる工程を含むディスプレイ用光学フィルタの製造方法であって、
前記レーザ光の照射を、複数の集光光が前記機能層表面で、前記走査方向に対して所定の角度を持って傾斜する直線的に配列されるように行なうことを特徴とする製造方法。
【請求項２】
前記光学フィルタの形状が矩形状である請求項１に記載のディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項３】
前記所定の角度が走査方向に対して３０〜６０度である請求項１又は２に記載のディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタの製造方法に使用されるレーザ加工装置であって、
レーザ光源からレーザ光を出射するためのレーザ発振器を含むレーザ発振手段、
レーザ発振手段から出射するレーザ光を次のレーザ照射手段に導くための反射ミラーを含むレーザ案内手段、
レーザ案内手段により導かれたレーザ光を前記積層体の機能層表面の側端部又は側端部近傍に沿って集光するための集光レンズを含むレーザ照射手段、及び
レーザ照射手段を縦横方向に移動可能な走査手段を含み、且つ
前記レーザ案内手段及び／又はレーザ照射手段は、レーザ光の照射を複数の集光光が前記機能層表面で、前記走査方向に対して所定の角度を持って傾斜する直線的に配列されるように行なうレーザ光成形手段を有することを特徴とするレーザ加工装置。
【請求項５】
前記所定の角度が走査方向に対して３０〜６０度である請求項４に記載のレーザ加工装置。
【請求項６】
前記レーザ発振手段がＣＯ2レーザ発振器を含む請求項４又は５に記載のレーザ加工装置。
【請求項７】
請求項１〜３のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタの製造方法により得られるディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１】
透明基板、その表面全体に形成された導電層、及び導電層表面全体に形成された少なくとも１層の機能層を含む積層体の当該機能層表面の側端部又は側端部近傍に沿って、レーザ光を間欠的に照射しながら走査し、照射領域の機能層を除去して導電層を露出させる工程を含むディスプレイ用光学フィルタの製造方法であって、
前記レーザ光の照射を、複数の集光光が前記機能層表面で、前記走査方向に対して所定の角度を持って傾斜する直線的に配列されるように行なうことを特徴とする製造方法。
【請求項２】
前記光学フィルタの形状が矩形状である請求項１に記載のディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項３】
前記所定の角度が走査方向に対して３０〜６０度である請求項１又は２に記載のディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタの製造方法に使用されるレーザ加工装置であって、
レーザ光源からレーザ光を出射するためのレーザ発振器を含むレーザ発振手段、
レーザ発振手段から出射するレーザ光を次のレーザ照射手段に導くための反射ミラーを含むレーザ案内手段、
レーザ案内手段により導かれたレーザ光を前記積層体の機能層表面の側端部又は側端部近傍に沿って集光するための集光レンズを含むレーザ照射手段、及び
レーザ照射手段を縦横方向に移動可能な走査手段を含み、且つ
前記レーザ案内手段及び／又はレーザ照射手段は、レーザ光の照射を複数の集光光が前記機能層表面で、前記走査方向に対して所定の角度を持って傾斜する直線的に配列されるように行なうレーザ光成形手段を有することを特徴とするレーザ加工装置。
【請求項５】
前記所定の角度が走査方向に対して３０〜６０度である請求項４に記載のレーザ加工装置。
【請求項６】
前記レーザ発振手段がＣＯ2レーザ発振器を含む請求項４又は５に記載のレーザ加工装置。
【請求項７】
請求項１〜３のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタの製造方法により得られるディスプレイ用光学フィルタ。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２０１１−３５２８０（Ｐ２０１１−３５２８０Ａ）
【公開日】平成２３年２月１７日（２０１１．２．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−１８２０６９（Ｐ２００９−１８２０６９）
【出願日】平成２１年８月５日（２００９．８．５）
【出願人】（０００００５２７８）株式会社ブリヂストン (11,469)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年２月１７日（２０１１．２．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年８月５日（２００９．８．５）
【出願人】（０００００５２７８）株式会社ブリヂストン (11,469)
【Ｆターム（参考）】
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