レーザ装置、極端紫外光生成装置、およびメンテナンス方法
【課題】メンテナンス時の作業スペースを確保しつつ有限のスペース内に収めることを可能にする。
【解決手段】収容スペース１００内に設置され、収容スペース１００外に配置されたチャンバ内に供給された極端紫外光の発生源となるターゲットに照射するレーザ光を出力するレーザ装置１は、マスタオシレータ１１から出力されたレーザ光を増幅する第３〜第５増幅器ユニットＰＡ３〜ＰＡ５と、第３〜第５増幅器ユニットに励起エネルギーを供給する第３〜第５電源ユニットＤ３〜Ｄ５と、外部電力を第３〜第５電源ユニットＤ３〜Ｄ５へ配電する配電盤５０と、第４電源ユニットＤ４および第５電源ユニットＤ５を配電盤５０に対して移動可能にするレールＲ１およびＲ２と、を備える。
【解決手段】収容スペース１００内に設置され、収容スペース１００外に配置されたチャンバ内に供給された極端紫外光の発生源となるターゲットに照射するレーザ光を出力するレーザ装置１は、マスタオシレータ１１から出力されたレーザ光を増幅する第３〜第５増幅器ユニットＰＡ３〜ＰＡ５と、第３〜第５増幅器ユニットに励起エネルギーを供給する第３〜第５電源ユニットＤ３〜Ｄ５と、外部電力を第３〜第５電源ユニットＤ３〜Ｄ５へ配電する配電盤５０と、第４電源ユニットＤ４および第５電源ユニットＤ５を配電盤５０に対して移動可能にするレールＲ１およびＲ２と、を備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、レーザ装置、極端紫外光生成装置、およびメンテナンス方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体プロセスの微細化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、７０ｎｍ〜４５ｎｍの微細加工、さらには３２ｎｍ以下の微細加工が要求されるようになる。このため、たとえば３２ｎｍ以下の微細加工の要求に応えるべく、波長１３ｎｍ程度の極端紫外光光源装置と縮小投影反射光学系とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。
【０００３】
ＥＵＶ光源装置としては、ターゲット物質にレーザビームを照射することによって生成されるプラズマを用いたＬＰＰ（Ｌａｓｅｒ Ｐｒｏｄｕｃｅｄ Ｐｌａｓｍａ：レーザ励起プラズマ）光源装置と、放電によって生成されるプラズマを用いたＤＰＰ（Ｄｉｓｃｈａｒｇｅ Ｐｒｏｄｕｃｅｄ Ｐｌａｓｍａ）光源装置と、軌道放射光を用いたＳＲ（Ｓｙｎｃｈｒｏｔｒｏｎ Ｒａｄｉａｔｉｏｎ）光源装置との３種類がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−１２８１５７号公報
【概要】
【０００５】
本開示の一態様によるレーザ装置は、所定空間内に、かつ所定の床面積範囲内に配置されるレーザ装置であって、マスタオシレータと、前記マスタオシレータから出力されたレーザ光を増幅する、少なくとも１つの増幅器ユニットと、前記少なくとも１つの増幅器ユニットのそれぞれに励起エネルギーを供給する少なくとも１つの電源ユニットと、前記少なくとも１つ増幅器ユニットおよび前記少なくとも１つの電源ユニットの少なくともいずれか一方を床と略平行な方向へ移動可能にする移動機構と、を備えてもよい。
【０００６】
本開示の他の態様による極端紫外光生成装置は、マスタオシレータ、前記マスタオシレータから出力されたレーザ光を増幅する少なくとも１つの増幅器ユニット、前記少なくとも１つの増幅器ユニットのそれぞれに励起エネルギーを供給する少なくとも１つの電源ユニット、外部電力を前記少なくとも１つの電源ユニットへ配電する配電盤、前記少なくとも１つ増幅器ユニット及び前記少なくとも１つの電源ユニットの少なくともいずれか一方を前記配電盤に対して移動可能にする移動機構、を含む、所定空間内に配置されるレーザ装置と、前記所定空間外に配置され、その内部で極端紫外光の発生源となるターゲットに前記レーザ装置から出力されたレーザ光が照射されるチャンバと、を備えてもよい。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】図１は、本開示の一実施の形態によるレーザ装置の概略構成を示すブロック図である。
【図２】図２は、本実施の形態による配電盤の構成例を示す模式図である。
【図３】図３は、本実施の形態による収容スペース内に収容されたレーザ装置の稼働時のレイアウト例を示す斜視図である。
【図４】図４は、本実施の形態による収容スペース内に収容されたレーザ装置の稼働時のレイアウト例を上から見た図である。
【図５Ａ】図５Ａは、本実施の形態による収容スペース内に収容されたレーザ装置のメンテナンス時のレイアウト例を上から見た図である（その１）。
【図５Ｂ】図５Ｂは、本実施の形態による収容スペース内に収容されたレーザ装置のメンテナンス時のレイアウト例を上から見た図である（その２）。
【図６】図６は、本実施の形態による収容スペース内に収容されたレーザ装置の他のレイアウト例を上から見た図である。
【図７】図７は、本実施の形態による収容スペース内に収容されたレーザ装置の他のレイアウト例を上から見た図である。
【図８Ａ】図８Ａは、本実施の形態による収容スペース内に収容されたレーザ装置の他のレイアウト例を上から見た図である（その１）。
【図８Ｂ】図８Ｂは、本実施の形態による収容スペース内に収容されたレーザ装置の他のレイアウト例を上から見た図である（その２）。
【図９Ａ】図９Ａは、本実施の形態による第４および第５電源ユニットならびに移動機構をこれの移動方向から見た側面図である。
【図９Ｂ】図９Ｂは、本実施の形態による第４および第５電源ユニットならびに移動機構をこれの移動方向と垂直な方向から見た側面図である。
【図１０】図１０は、本実施の形態の変形例による第４および第５電源ユニットならびに移動機構をこれの移動方向と垂直な方向から見た側面図である。
【図１１】図１１は、本実施の形態による移動補助機構の第１の構成例を示す側面図である。
【図１２】図１２は、本実施の形態による移動補助機構の第２の構成例を示す側面図である。
【図１３】図１３は、本実施の形態による移動補助機構の第３の構成例を示す側面図である。
【図１４Ａ】図１４Ａは、本実施の形態による光学ユニットを床面に固定した場合の構成例を示す上視図である。
【図１４Ｂ】図１４Ｂは、本実施の形態による光学ユニットを床面に固定した場合の構成例を示す側視図（その１）である。
【図１４Ｃ】図１４Ｃは、本実施の形態による光学ユニットを床面に固定した場合の構成例を示す側視図（その２）である。
【図１５】図１５は、本実施の形態による光学ユニットをＯＳＣユニット等に固定した場合の構成例を示す側視図である。
【図１６】図１６は、本実施の形態による光学ユニットを第４および第５増幅器ユニットに固定した場合の構成例を示す側視図である。
【図１７Ａ】図１７Ａは、本実施の形態による光学ユニットの概略構成を示す側面図である。
【図１７Ｂ】図１７Ｂは、本実施の形態による光学ユニットの概略構成を示す背面図である。
【図１８Ａ】図１８Ａは、本実施の形態による光学ユニットにおける第１リレー光学系の構成例を示す図である。
【図１８Ｂ】図１８Ｂは、本実施の形態による光学ユニットにおける第２リレー光学系の構成例を示す図である。
【図１８Ｃ】図１８Ｃは、本実施の形態による光学ユニットにおける第３リレー光学系の構成例を示す図である。
【図１９】図１９は、本実施の形態による光学ユニットの他の概略構成を示す外観図である。
【図２０】図２０は、本実施の形態による光学ユニットにおける第２リレー光学系の他の構成例を示す図である。
【図２１】図２１は、本実施の形態による光学ユニットの他の概略構成を示す外観図である。
【図２２】図２２は、本実施の形態による光学ユニットにおける第１リレー光学系の他の構成例を示す図である。
【図２３】図２３は、本実施の形態による光学ユニットの他の概略構成を示す外観図である。
【図２４】図２４は、本実施の形態による光学ユニットにおける第３リレー光学系の他の構成例を示す図である。
【図２５】図２５は、本実施の形態における第４増幅器ユニットおよび第５増幅器ユニットからの出力をモニタリングする構成の一例を示す模式図である。
【図２６】図２６は、本実施の形態による第４増幅器ユニットまたは第５増幅器ユニットの外観構成を示す斜視図である。
【図２７】図２７は、本実施の形態による第４増幅器ユニットの内部概略構成を示す側視図である。
【図２８】図２８は、図２７に示す第４増幅器ユニットの分解図である。
【図２９】図２９は、図２７に示す第４増幅器ユニットの上段に位置するガス流路の概略構成を示す上視図である。
【図３０】図３０は、図２７に示す第４増幅器ユニットの中段に位置する増幅光路の概略構成を示す上視図である。
【図３１Ａ】図３１Ａは、本実施の形態による増幅器内部の振動防止機構の一例を示す内部側視図である。
【図３１Ｂ】図３１Ｂは、本実施の形態による増幅器内部の振動防止機構の一例を示す一部配置図である。
【図３１Ｃ】図３１Ｃは、本実施の形態による増幅器内部の振動防止機構の一例を示す部分断面図である。
【図３２】図３２は、本実施の形態において２段に縦積みされた第４および第５増幅器ユニットの概略構成を示す斜視図である。
【図３３】図３３は、本実施の形態によるフレームの概略構成を示す斜視図である。
【図３４Ａ】図３４Ａは、図３３に示すフレームの上面図である。
【図３４Ｂ】図３４Ｂは、図３３に示すフレームの前面図である。
【図３４Ｃ】図３４Ｃは、図３３に示すフレームの側面図である。
【図３５Ａ】図３５Ａは、本実施の形態における光学ユニットと第４および第５増幅器ユニットとの接続を示す上面図である。
【図３５Ｂ】図３５Ｂは、本実施の形態における光学ユニットと第４および第５増幅器ユニットとの接続を示す正面図である。
【図３５Ｃ】図３５Ｃは、本実施の形態における光学ユニットと第４および第５増幅器ユニットとの接続を示す側面図である。
【図３５Ｄ】図３５Ｄは、本実施の形態における光学ユニットと第４および第５増幅器ユニットとの接続を示す背面図である。
【図３６Ａ】図３６Ａは、本実施の形態における光学ユニットと第４および第５増幅器ユニットとの他の接続を示す上面図である。
【図３６Ｂ】図３６Ｂは、本実施の形態における光学ユニットと第４および第５増幅器ユニットとの他の接続を示す側面図である。
【図３７】図３７は、本実施の形態において増幅器を３段に縦積みした場合の構成例を示す斜視図である。
【図３８】図３８は、本実施の形態において増幅器を３段に縦積みした場合の構成例を示す正面図である。
【図３９】図３９は、本実施の形態における稼働時からのメンテナンス手順を示す。
【実施の形態】
【０００８】
以下、本開示を実施するための形態を図面を参照に詳細に説明する。なお、以下の説明において、各図は本開示の内容を理解でき得る程度に形状、大きさ、および位置関係を概略的に示してあるに過ぎず、従って、本開示は各図で例示された形状、大きさ、および位置関係のみに限定されるものではない。また、各図では、構成の明瞭化のため、断面におけるハッチングの一部が省略されている。さらに、後述において例示する数値は、本開示の好適な例に過ぎず、従って、本開示は例示された数値に限定されるものではない。
【０００９】
以下、本開示の一実施の形態によるレーザ装置、極端紫外光生成装置、およびメンテナンス方法を、図面を参照して詳細に説明する。図１は、本実施の形態によるレーザ装置の概略構成を示すブロック図である。図１に示すように、本実施の形態によるレーザ装置１は、共振器（ＯＳＣ）ユニット１０と、プリアンプＰＡと、多段のメインアンプＭＡと、光学ユニット３０と、を備える。また、レーザ装置１は、ＯＳＣ電源Ｄ１と、第３〜第５電源ユニットＤ３〜Ｄ５と、配電盤５０と、を備える。レーザ装置１における各ユニットは、レーザガス、光路パージガス、空圧機器用ガスおよび温調または冷却用の冷却水を必要とする場合がある。この場合、レーザ装置１はこれらを各ユニットへ分配するガス・冷却水分配器６０（たとえば図３参照）をさらに備えてもよい。
【００１０】
ＯＳＣユニット１０は、パルス状のレーザ光をシード光ＬＳとして出力する。プリアンプＰＡは、ＯＳＣユニット１０から出力されたシード光ＬＳを増幅してレーザ光Ｌ１として出力する第３増幅器ユニットＰＡ３を含んでもよい。多段のメインアンプＭＡは、プリアンプＰＡから出力されたレーザ光Ｌ１を増幅してレーザ光Ｌ２として出力する第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５を含んでもよい。光学ユニット３０は、第３〜第５増幅器ユニットＰＡ３〜ＰＡ５から出力されたレーザ光Ｌ１およびＬ２をそれぞれ下流側の増幅器（第４／第５増幅器ユニットＰＡ４／ＰＡ５）または不図示のチャンバへ導く。ＯＳＣ電源Ｄ１および第３〜第５電源ユニットＤ３〜Ｄ５は、ＯＳＣユニット１０、プリアンプＰＡおよびメインアンプＭＡそれぞれへ励起エネルギーを供給する。配電盤５０は、ＯＳＣ電源Ｄ１および第３〜第５電源ユニットＤ３〜Ｄ５へ電力を分配する。
【００１１】
ここで、ＣＯ２ガスを増幅媒体とする場合、励起エネルギーの供給は、ＣＯ２ガスを含むガス中で電極に高電圧を印加することで行われる。電極に高電圧が印加されると、電極間で放電が発生する。これにより、ＣＯ２ガスが励起される。なお、ＣＯ２ガス中で高周波放電させるための電極に高周波を印加させてもよい。また、ＣＯ２ＴＥＡレーザの場合は、電極に高電圧パルスを印加してもよい。
【００１２】
ＯＳＣユニット１０は、マスタオシレータ１１と、第１増幅器ＰＡ１および第２増幅器ＰＡ２と、を一体化したユニットである。マスタオシレータ１１は、特定波長のレーザ光をシード光ＬＳとして出力する。第１増幅器ＰＡ１および第２増幅器ＰＡ２は、このマスタオシレータ１１から出力されたシード光ＬＳを増幅する。
【００１３】
ＯＳＣユニット１０のうちマスタオシレータ１１は、ＯＳＣ電源Ｄ１から供給された電気エネルギーによってシングル縦モードまたはマルチ縦モードでシード光ＬＳを発振する。このシード光ＬＳは、下流側の各増幅器（ＰＡ１〜ＰＡ５）におけるパルス幅や繰返し周波数を決定する。なお、シード光ＬＳに含まれるそれぞれの波長成分は、下流側の増幅器（ＰＡ１〜ＰＡ５）における１つ以上の増幅ラインのいずれかに対応する。このようなシード光ＬＳを出力可能なマスタオシレータ１１としては、量子カスケードレーザなどの半導体レーザや、ＣＯ２ガスレーザや、固体レーザなどが存在する。
【００１４】
第１増幅器ＰＡ１および第２増幅器ＰＡ２は、マスタオシレータ１１から出力された特定波長のシード光ＬＳを順次増幅する。ＯＳＣユニット１０の第２増幅器ＰＡ２から出力されたシード光ＬＳは、下流側のプリアンプＰＡに入力される。プリアンプＰＡにおける第３増幅器ユニットＰＡ３は、ＯＳＣユニット１０から出力されたシード光ＬＳを増幅する。増幅後のシード光ＬＳは、レーザ光Ｌ１としてプリアンプＰＡから出力される。
【００１５】
プリアンプＰＡから出力されたレーザ光Ｌ１は、たとえば光学ユニット３０を介して下流側のメインアンプＭＡに入力される。なお、光学ユニット３０は、たとえば高反射ミラー３１〜３３の他、部分反射ミラーや軸外放物面ミラーや可飽和吸収体や波面補正器や光品位計測装置など（不図示）を含んでもよい。可飽和吸収体は、チャンバから戻ってくるレーザ光（戻り光）やメインアンプＭＡからの寄生発振光や自励発振光等を吸収する。これにより、プリアンプＰＡやＯＳＣユニット１０の破損を防止できる。波面補正器は、レーザ光Ｌ１のビーム角度と波面の曲率とがメインアンプＭＡにおいて高効率で増幅されるのに有効なビーム角度と波面の曲率となるように、レーザ光Ｌ１のビーム径を拡大するとともにビームプロファイルを整える。以上のように、可飽和吸収体や波面補正器等の光学素子を光学ユニット３０に設けることで、増幅対象のレーザ光の波面を補正することが可能となる。これにより、たとえばメインアンプＭＡでの増幅効率を向上させることが可能となる。この結果、高出力のレーザ光Ｌ２を得ることが可能となる。
【００１６】
光学ユニット３０を介してメインアンプＭＡに入力されたレーザ光Ｌ１は、まず、第４増幅器ユニットＰＡ４において増幅される。第４増幅ユニットＰＡ４で増幅されたレーザ光Ｌ１は、つぎに第５増幅器ユニットＰＡ５において増幅される。この結果、第５増幅器ユニットＰＡ５からは、たとえば、波長が１０．６μｍ、エネルギーが１００〜２００ｍＪ、パワーが１０ｋＷ〜２０ｋＷのシングル横モードのレーザ光Ｌ２が出力される。レーザ光Ｌ２は、たとえば繰返し周波数が１００ｋＨｚのパルス状のレーザ光である。
【００１７】
第５増幅器ユニットＰＡ５から出力されたレーザ光Ｌ２は、たとえば光学ユニット３０を介してチャンバに導かれ、その後、チャンバ内に供給されたターゲット物質に照射される。これにより、レーザ光Ｌ２が照射されたターゲット物質が励起されてプラズマ化する。この生成されたプラズマからは、ＥＵＶ光が放出される。このようなチャンバは、たとえばレーザ装置１が設置される収容スペース１００（たとえば図３参照）の上階の部屋に設けられる。
【００１８】
各増幅器（ＰＡ１〜ＰＡ５）は、少なくともＣＯ２ガスを成分とするＣＯ２ガス増幅媒体ＡＧ１が充填された増幅領域を有する。この増幅領域には、それぞれの増幅器（ＰＡ１〜ＰＡ５）に接続されたＯＳＣ電源Ｄ１および第３〜第５電源ユニットＤ３〜Ｄ５から供給された高周波電力を用いて所定の電位差が与えられる。シード光ＬＳおよびレーザ光Ｌ１は、所定の電位差が与えられた増幅領域中を通過する際に増幅される。
【００１９】
たとえばマスタオシレータ１１を半導体レーザとした場合、ＯＳＣユニット１０が電流制御アクチュエータ（不図示）を備えることが好ましい。この電流制御アクチュエータは、マスタオシレータ１１を発振させるための電流信号を生成し、この電流信号をマスタオシレータ１１に入力する。このように、マスタオシレータ１１に半導体レーザを用いた場合、半導体レーザに供給される電流の波形および電流値を電流制御アクチュエータによって制御することで、マスタオシレータ１１から出力されるシード光ＬＳのパルス幅や波形や強度や周波数を容易に制御することが可能となる。この結果、所望のレーザ光を容易に得ることが可能となる。
【００２０】
以上のような構成において、ＯＳＣ電源Ｄ１、第３〜第５電源ユニットＤ３〜Ｄ５には、配電盤５０を介して電力が分配される。ここで図２に、本実施の形態による配電盤の構成例を示す。図２に示すように、配電盤５０は、たとえば両開きの扉５１Ａおよび５１Ｂにて開閉可能なキャビネット５１を備える。キャビネット５１内には、トランス５４ｂおよび５６ｂや、ブレーカ５３、５４ａ、５４ｃ、５６ａ、５６ｃおよび５６ｄや、不図示のコンタクタなどが設けられる。この配電盤５０には、外部の工場設備などの電源から配線５２を介して外部電力が供給される。供給された外部電力は、各電源（Ｄ１、Ｄ３〜Ｄ５）にそれぞれ対応付けられた配線５２上のトランス５４ｂおよび５６ｂによって適宜昇圧される。その後、昇圧された外部電力は、配線５７を介して各電源（Ｄ１、Ｄ３〜Ｄ５）へ供給される。各電源（Ｄ１、Ｄ３〜Ｄ５）は、配線５７を介して供給された電力を所定の電圧まで昇圧および変調する。この昇圧・変調された電力は、各増幅器（ＰＡ１〜ＰＡ５）へ供給される。
【００２１】
配電盤５０の前（扉５１Ａおよび５１Ｂ側）には、少なくとも停止またはメンテナンス時に、ブレーカを落とすなどの作業をするための作業スペースＳＰを確保しておくことが要求される（たとえばＮＦＰＡ７０（米国電気工事基準）参照）。以下の説明では、簡略化のため、この要求される作業スペースＳＰの幅を１ｍとする。一方、レーザ装置１を設置する空間（部屋）の大きさ（床面積や容積）は有限である。このため、配電盤５０の前に幅１ｍの作業スペースＳＰを確保しつつ全ユニットを収めることが困難な場合が存在する。特に、高スループットおよび高出力を実現するために個々のユニットが大型化されている場合、各ユニットをメンテナンスするための作業スペースを確保しつつ有限の収容スペース１００内にレーザ装置１を収めることが非常に困難である場合が存在する。
【００２２】
そこで本実施の形態では、少なくとも配電盤５０の前に配置されるユニットを移動可能にする。これにより、収容スペース１００内の空き領域でそれらのユニットを移動させることが可能となる。この結果、必要に応じて配電盤５０の前に作業スペースＳＰを確保することが可能となる。以下、これを、図面を参照して詳細に説明する。図３は、本実施の形態による収容スペース内に収容されたレーザ装置の稼働時のレイアウト例を示す斜視図である。図４は、本実施の形態による収容スペース内に収容されたレーザ装置の稼働時のレイアウト例を上から見た図である。図５Ａは、本実施の形態による収容スペース内に収容されたレーザ装置のメンテナンス時のレイアウト例を上から見た図である（その１）。図５Ｂは、本実施の形態による収容スペース内に収容されたレーザ装置のメンテナンス時の別のレイアウト例を上から見た図である（その２）。
【００２３】
図３〜図５Ｂに示すレイアウト例において、配電盤５０、ガス・冷却水分配器６０、ＯＳＣ電源Ｄ１および第４増幅器ユニットＰＡ４は、たとえば収容スペース１００内の床に固定される。光学ユニット３０は、収容スペース１００の床に固定される。ただし、これに限らず、光学ユニット３０を第３増幅器ユニットＰＡ３に固定してもよいし、第４増幅器ユニットＰＡ４および第４増幅器ユニットＰＡ４上の第５増幅器ユニットＰＡ５に固定してもよい。
【００２４】
ＯＳＣユニット１０、第３増幅器ユニットＰＡ３およびＯＳＣ電源Ｄ１は、縦積みされてもよい。同様に、第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５は、縦積みされてもよい。各ユニットを縦積みすることで、レーザ装置１の延べ床面積を縮小できる。
【００２５】
レイアウト例において、ＯＳＣユニット１０、第３増幅器ユニットＰＡ３、ＯＳＣ電源Ｄ１、光学ユニット３０、第４増幅器ユニットＰＡ４、第５増幅器ユニットＰＡ５、および第３電源ユニットＤ３は、第４電源ユニットＤ４および第５電源ユニットＤ５を取り囲むように配置されている。また、ＯＳＣユニット１０、第３増幅器ユニットＰＡ３、ＯＳＣ電源Ｄ１、光学ユニット３０、第４増幅器ユニットＰＡ４、第５増幅器ユニットＰＡ５、および第３電源ユニットＤ３の外側には、これらをメンテナンスするための作業スペース７０が確保されている。
【００２６】
本実施の形態において、配電盤５０の前には、第４電源ユニットＤ４および第５電源ユニットＤ５が配置される。この第４電源ユニットＤ４および第５電源ユニットＤ５は、配電盤５０の作業面、すなわち扉５１Ａおよび５１Ｂによって開閉される面に対して垂直な方向に移動可能である。第４電源ユニットＤ４および第５電源ユニットＤ５を配電盤５０の作業面から最も遠ざけた際に配電盤５０の前に確保される作業スペースＳＰの幅は、上述のように、少なくとも１ｍである。この結果、図４に示すように、レーザ装置１の停止またはメンテナンス中は、配電盤５０の前に幅１ｍの作業スペースＳＰを確保することが可能となる。
【００２７】
第４電源ユニットＤ４および第５電源ユニットＤ５の移動は、たとえば収容スペース１００の床に配電盤５０の作業面と垂直な方向へ延在する２本のレールＲ１および不図示のキャスタによって実現される。第４電源ユニットＤ４の第５電源ユニットＤ５側の面のカバーまたは第５電源ユニットＤ５の第４電源ユニットＤ４側の面のカバーを開けてユニット内部の部品等をメンテナンスする際は、図５Ａに示すように、第４電源ユニットＤ４をレールＲ１に沿って配電盤５０側へスライドさせる。これにより、第４電源ユニットＤ４と第５電源ユニットＤ５との間に作業スペース７１が確保される。また、第５電源ユニットＤ５のＯＳＣユニット１０側の面のカバーまたはＯＳＣユニット１０、第３増幅器ユニットＰＡ３およびＯＳＣ電源Ｄ１（以下、ＯＳＣユニット１０等という）の第５電源ユニットＤ５側の面のカバーを開けてユニット内部の部品等をメンテナンスする際は、図５Ｂに示すように、第４電源ユニットＤ４および第５電源ユニットＤ５をレールＲ１に沿って配電盤５０側へスライドさせる。これにより、第５電源ユニットＤ５とＯＳＣユニット１０等との間に作業スペース７２が確保される。
【００２８】
同様に、第３電源ユニットＤ３にもこれをスライドさせるためのレールＲ２を床に設けてもよい。これにより、図５Ａおよび図５Ｂから明らかなように、第３電源ユニットＤ３の周囲にメンテナンス用の作業スペース７３および７４を確保することが可能となる。
【００２９】
図４〜図５Ｂに示す例では、第３〜第５電源ユニットＤ３〜Ｄ５が移動可能である場合を例に挙げた。しかし、本開示はこれに限定されない。たとえば図６に示すように、縦積みされた第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５が、たとえば第４電源ユニットＤ４と同様のレールＲ３１およびＲ３２ならびに不図示のキャスタを用いた構成によって移動可能なように構成されてもよい。これにより、第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５と光学ユニット３０との間に、必要に応じて作業スペース７５を確保することが可能となる。なお、図６は、本実施の形態による収容スペース内に収容されたレーザ装置の他のレイアウト例を上から見た図である。
【００３０】
また、たとえば図７に示すように、縦積みされたＯＳＣユニット１０、第３増幅器ユニットＰＡ３およびＯＳＣ電源Ｄ１、ならびに光学ユニット３０が、たとえば第４電源ユニットＤ４と同様のレールＲ４１およびＲ４２ならびに不図示のキャスタ、ならびに、レールＲ４３およびＲ４４ならびに不図示のキャスタを用いた構成によってそれぞれ移動可能なように構成されてもよい。これにより、ＯＳＣユニット１０、第３増幅器ユニットＰＡ３およびＯＳＣ電源Ｄ１が収容スペース１００の壁に近接して配置された場合でも、必要に応じて各ユニットと壁との間に作業スペースを確保することができるようになる。同様に、光学ユニット３０が収容スペース１００の壁に近接して配置された場合でも、必要に応じて光学ユニット３０と壁との間に作業スペースを確保することができるようになる。結果として、より狭いスペースにレーザ装置１を収容することが可能となる。なお、図７は、本実施の形態による収容スペース内に収容されたレーザ装置の他のレイアウト例を上から見た図である。
【００３１】
さらに、たとえば図８Ａおよび図８Ｂに示すように、収容スペース１００に収容された各ユニット（以下の例では縦積みされた第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５）は、クロスするレールＲ３１およびＲ３２とレールＲ３３およびＲ３４とからなる２次元移動機構によって、２次元的に移動可能なように構成されてもよい。なお、図８Ａは、本実施の形態による収容スペース内に収容されたレーザ装置の他のレイアウト例を上から見た図である（その１）。図８Ｂは、本実施の形態による収容スペース内に収容されたレーザ装置の他のレイアウト例を上から見た図である（その２）。
【００３２】
図８Ａおよび図８Ｂに示すように、レールＲ３３およびＲ３４には、たとえばキャスタが設けられる。レールＲ３３およびＲ３４は、このキャスタがレールＲ３１およびＲ３２上に置かれることにより、レールＲ３１およびＲ３２に沿って（図面中、上下方向）移動可能となる。また、第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５は、同じくキャスタを備える。このキャスタがレールＲ３３およびＲ３４上に配置されることで、第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５がレールＲ３３およびＲ３４に沿って（図面中、左右方向）移動可能となる。
【００３３】
このような構成を備えることで、各ユニットが収容スペース１００の壁に近接して配置された場合でも、必要に応じて各ユニットと壁との間に作業スペースを確保することが可能となる。
【００３４】
ここで図９Ａおよび図９Ｂを用いて、本実施の形態による第４電源ユニットＤ４および第５電源ユニットＤ５のレールＲ１を用いた移動機構を詳細に説明する。図９Ａは、本実施の形態による第４および第５電源ユニットならびに移動機構をこれらの移動方向から見た側面図である。図９Ｂは、本実施の形態による第４および第５電源ユニットならびに移動機構をこれらの移動方向と垂直な方向から見た側面図である。なお、第５電源ユニットＤ５の移動機構は、第４電源ユニットＤ４の移動機構と同様であるため、図９Ａでは、第４電源ユニットＤ４に着目する。また、図９Ｂは、第４電源ユニットＤ４を配電盤５０側へスライドさせ、第５電源ユニットＤ５をＯＳＣユニット１０等側へスライドさせた状態を示す。さらに、第３電源ユニットＤ３のレールＲ２を用いた移動機構は、第４電源ユニットＤ４および第５電源ユニットＤ５と同様であるため、ここでは詳細な説明を省略する。
【００３５】
図９Ａおよび図９Ｂに示すように、第４電源ユニットＤ４の底面のたとえば四隅には、回転可能なキャスタＣ１が設けられている。各キャスタＣ１は、レールＲ１の溝に嵌まった状態で回転する。これにより、キャスタＣ１に支えられた第４電源ユニットＤ４がレールＲ１に沿って移動する。同様に、第５電源ユニットＤ５の底面のたとえば四隅にも、回転可能なキャスタＣ１が設けられている。これにより、第５電源ユニットＤ５は、キャスタＣ１に支えられた状態でレールＲ１に沿って移動する。たとえば、稼働時の状態（図４参照）から第４電源ユニットＤ４のみを配電盤５０側へスライドさせた場合、図９Ｂに示すように、第４電源ユニットＤ４と第５電源ユニットＤ５との間には、作業スペース７１が確保される。
【００３６】
第４電源ユニットＤ４の底部には、Ｌ字金具Ａ１が固定されている。また、稼働時に第４電源ユニットＤ４を配置する位置の床面には、Ｌ字金具Ａ１と当接するストッパＡ２が固定されている。ストッパＡ２は、たとえば金属製であり、位置決め部として機能する。第４電源ユニットＤ４をレールＲ１に沿ってＯＳＣユニット１０等側へスライドさせてゆくと、稼働時に第４電源ユニットＤ４を配置する位置に到達した時点でＬ字金具Ａ１とストッパＡ２とが当接する。これにより、第４電源ユニットＤ４が所定の位置に位置決めされる。同様に、第５電源ユニットＤ５の底部には、Ｌ字金具Ａ１が固定されている。加えて、稼働時に第５電源ユニットＤ５を配置する位置の床面には、第５電源ユニットＤ５のＬ字金具Ａ１と当接するストッパＡ２が固定されている。第５電源ユニットＤ５をレールＲ１に沿ってＯＳＣユニット１０等側へスライドさせてゆくと、稼働時に第５電源ユニットＤ５を配置する位置に到達した時点でＬ字金具Ａ１とストッパＡ２とが当接する。これにより、第５電源ユニットＤ５が所定の位置に位置決めされる。
【００３７】
Ｌ字金具Ａ１とストッパＡ２とには、それぞれが当接した際に連通する貫通孔が設けられている。この貫通孔は、Ｌ字金具Ａ１とストッパＡ２とを当接した状態に固定する固定具Ａ３を嵌装するための貫通孔である。固定具Ａ３には、たとえばボルトＡ３１、ワッシャＡ３２およびナットＡ３３などの一般的な部品を用いることが可能である。ユニット底面に固定されたＬ字金具Ａ１と床面に固定されたストッパＡ２とを固定具Ａ３によって固定することで、第４電源ユニットＤ４および第５電源ユニットＤ５をそれぞれ所定の位置に固定することが可能である。この結果、たとえば稼働時に第４電源ユニットＤ４や第５電源ユニットＤ５が移動してしまうという不具合を低減することが可能となる。また、地震やその他の要因によって第４電源ユニットＤ４や第５電源ユニットＤ５が振動してしまうという不具合の発生も低減できる。すなわち、Ｌ字金具Ａ１とストッパＡ２と固定具Ａ３とは、第４電源ユニットＤ４および第５電源ユニットＤ５の位置決め用金具の他、耐震用の固定金具としても機能する。第４電源ユニットＤ４および第５電源ユニットＤ５をより確実に固定するために、図９Ｂに示すように、キャスタＣ１がレールＲ１上を移動しないようにタイヤ止めＡ４を配置してもよい。
【００３８】
また、図１０に示すように、第４電源ユニットＤ４および第５電源ユニットＤ５は、レールＲ１に設けた窪みによってもその位置を位置決めすることが可能である。図１０は、本実施の形態の変形例による第４および第５電源ユニットならびに移動機構を示す。ただし、図１０は、第４および第５電源ユニットを移動方向と垂直な方向から見た側面図である。なお、図１０では、説明の簡略化のため、第５電源ユニットＤ５およびこれを位置決めするための構成については省略する。図１０に示すように、本変形例では、第４電源ユニットＤ４の複数のキャスタＣ１のうち配電盤５０側またはＯＳＣユニット１０等側のキャスタＣ１１の軸受けが他方のキャスタＣ１の軸受けよりも長い。ここで、軸受けとは、キャスタにおけるホイールの回転軸を支持する部材である。また、レールＲ１において、配電盤５０側に第４電源ユニットＤ４を位置決めする箇所に、Ｖ字状または凹型の溝Ｒ１ａが設けられている。同様に、ＯＳＣユニット１０等側に第４電源ユニットＤ４を位置決めする箇所に、Ｖ字状または凹型の溝Ｒ１ａが設けられている。キャスタＣ１１の軸受けは、キャスタＣ１の軸受けよりも、溝Ｒ１ａの深さ分だけ長い。したがって、軸受けの長いキャスタＣ１１が溝Ｒ１ａに嵌まると、第４電源ユニットＤ４が水平を維持しつつ位置決めされる。
【００３９】
第４電源ユニットＤ４および第５電源ユニットＤ５は、それぞれの移動を補助するための移動補助機構を備えてもよい。ここで、図１１〜図１３を用いて、本実施の形態による移動補助機構の構成例を詳細に説明する。図１１は、本実施の形態による移動補助機構の第１の構成例を示す側面図である。図１２は、本実施の形態による移動補助機構の第２の構成例を示す側面図である。図１３は、本実施の形態による移動補助機構の第３の構成例を示す側面図である。
【００４０】
図１１に示すように、本実施の形態による移動補助機構の第１の構成例では、第４電源ユニットＤ４が手動にて自走可能なように構成されている。具体的には、第１の構成例による移動補助機構は、第４電源ユニットＤ４の側面に設けられたディスクＣ１３およびハンドルＣ１４と、第４電源ユニットＤ４の少なくとも１つのキャスタＣ１に設けられたローラＣ１６ａとを備える。ディスクＣ１３は、たとえば、第４電源ユニットＤ４の側面であってレールＲ１の延在方向と垂直な軸に対して回転可能に設けられる。ハンドルＣ１４は、ディスクＣ１３を手動にて回転させるための構成であり、ディスクＣ１３に固定されている。ローラＣ１６ａは、キャスタＣ１におけるタイヤＣ１２ａの回転軸に固定される。ディスクＣ１３およびローラＣ１６ａには、ベルトＣ１５が掛架される。ハンドルＣ１４によってディスクＣ１３に与えられた回転力は、ベルトＣ１５によってローラＣ１６ａへ伝達される。この結果、第４電源ユニットＤ４が自走する。また、タイヤＣ１２ａに生じた回転力は、これと同一レールＲ１上に置かれるキャスタＣ１のタイヤＣ１２ｂに伝達されてもよい。この場合、タイヤＣ１２ｂの回転軸にローラＣ１６ｂが固定されると共に、ローラＣ１６ａおよびＣ１６ｂにベルトＣ１２が掛架される。
【００４１】
また、図１２に示すように、本実施の形態による移動補助機構の第２の構成例は、図１１に示す第１の構成例と同様の構成を備える。ただし、第１の構成例におけるレールＲ１が、上面に規則的な凹凸を備えたスライドギアレールＲ１１に置き換えられる。加えて、各キャスタＣ１のタイヤＣ１２ａおよびＣ１２ｂがスライドギアレールＲ１１の凹凸と噛み合うギアＣ２２ａおよびＣ２２ｂにそれぞれ置き換えられる。この構成により、第１の構成例と同様に、ハンドルＣ１４を手動にて回転させることで生じた回転力がベルトＣ１５を介してギアＣ２２ａに伝達される。この結果、第４電源ユニットＤ４が自走する。なお、ギアＣ２２ａおよびＣ２２ｂならびにスライドギアレールＲ１１は、第４電源ユニットＤ４における片側のみに設けられてもよい。
【００４２】
さらに、図１３に示すように、本実施の形態による移動補助機構の第３の構成例では、ディスクＣ１３およびハンドルＣ１４が、たとえば、第４電源ユニットＤ４の側面であってレールＲ１の延在方向と平行な軸に対して回転可能に設けられる。また、レールＲ１がスライドギアレールＲ１１に置き換えられる。さらに、第４電源ユニットＤ４の底面に、同一のスライドギアレールＲ１１上に置かれる１つ以上のキャスタＣ１の代わりに、回転軸がスライドギアレールＲ１１と平行なスクリューギアＣ３３が設けられる。このスクリューギアＣ３３の回転軸Ｃ３１は、第４電源ユニットＤ４の底面に設けられた軸受けＣ３２ａおよびＣ３２ｂによって回転可能に支持される。この構成により、第１および第２の構成例と同様に、ハンドルＣ１４を手動にて回転させることで生じた回転力がベルトＣ１５を介してスクリューギアＣ３３に伝達される。この結果、第４電源ユニットＤ４が自走する。なお、スクリューギアＣ３３およびスライドギアレールＲ１１は、第４電源ユニットＤ４における片側のみに設けられてもよい。
【００４３】
つづいて、本実施の形態による光学ユニット３０について図面を用いて詳細に説明する。図１４Ａは、本実施の形態による光学ユニットを床面に固定した場合の構成例を示す上視図である。図１４Ｂは、本実施の形態による光学ユニットを床面に固定した場合の構成例を示す側視図（その１）である。図１４Ｃは、本実施の形態による光学ユニットを床面に固定した場合の構成例を示す側視図（その２）である。
【００４４】
図１４Ａ〜図１４Ｃに示すように、光学ユニット３０は、収容スペース１００（たとえば図３参照）の床面に設置される。この際、光学ユニット３０を支える支持部材には、それぞれ高さを調節することが可能なレベルアジャスタ３０１を用いるとよい。これにより、光学ユニット３０を水平に調整して支持することが可能となる。また、光学ユニット３０は、上述したＬ字金具Ａ１、ストッパＡ２および固定具Ａ３よりなる耐震固定金具と同様の耐震固定金具３０２を用いて床面に固定されるとよい。
【００４５】
光学ユニット３０は、収容スペース１００の床面の他、図１５に示すように、たとえば、ＯＳＣユニット１０等にボルト３１１を用いて固定されてもよい。または、図１６に示すように、光学ユニット３０は、たとえば第４および第５増幅器ユニットＰＡ４およびＰＡ５にボルト３１１を用いて固定されてもよい。この際、第４および第５増幅器ユニットＰＡ４およびＰＡ５は、フレーム４００によって上下に縦積みされていてもよい。図１５は、本実施の形態による光学ユニットをＯＳＣユニット等に固定した場合の構成例を示す側視図である。図１６は、本実施の形態による光学ユニットを第４および第５増幅器ユニットに固定した場合の構成例を示す側視図である。
【００４６】
つづいて、本実施の形態による光学ユニット３０の構成について、図面を用いて詳細に説明する。図１７Ａおよび図１７Ｂは、本実施の形態による光学ユニットの概略構成を示す外観図である。また、図１８Ａは、本実施の形態による光学ユニットにおける第１リレー光学系の構成例を示す図である。図１８Ｂは、本実施の形態による光学ユニットにおける第２リレー光学系の構成例を示す図である。図１８Ｃは、本実施の形態による光学ユニットにおける第３リレー光学系の構成例を示す図である。
【００４７】
図１７Ａおよび図１７Ｂに示すように、光学ユニット３０は、第１リレー光学系３０−１と、第２リレー光学系３０−２と、第３リレー光学系３０−３と、を備える。第１リレー光学系３０−１は、第３増幅器ユニットＰＡ３から出力されたレーザ光を第４増幅器ユニットＰＡ４へ導く。第２リレー光学系３０−２は、第４増幅器ユニットＰＡ４から出力されたレーザ光を第５増幅器ユニットＰＡ５へ導く。第３リレー光学系３０−３は、第５増幅器ユニットＰＡ５から出力されたレーザ光を不図示のチャンバへ導く。
【００４８】
図１８Ａに示すように、第１リレー光学系３０−１は、たとえば、入射ウィンドウＷ１と、軸外放物面ミラーＭ１と、を備える。入射ウィンドウＷ１は、第３増幅器ユニットＰＡ３から出射したレーザ光を光学系内部に導入する。軸外放物面ミラーＭ１は、入射ウィンドウＷ１から入射したレーザ光を平行光化すると共に、平行光化されたレーザ光を第４増幅器ユニットＰＡ４へ向けて反射する。
【００４９】
軸外放物面ミラーＭ１は、補償光学素子（Ａｄａｐｔｉｖｅ Ｏｐｔｉｃｓ：ＡＯ）に置き換えることもできる。軸外放物面ミラーＭ１で反射されたレーザ光は、第４増幅器ユニットＰＡ４の入射ウィンドウＷ４１（図２６参照）を介して第４増幅器ユニットＰＡ４に入射する。補償光学素子には、たとえば、焦点距離を自由に調整できるデフォーマブルミラー等がある。デフォーマブルミラーは、たとえば、トロイダル形状や球面形状の鏡面の形状を変化させることで、焦点距離を所望の焦点距離に調節することができる。
【００５０】
図１８Ｂに示すように、第２リレー光学系３０−２は、たとえば、平面ミラーＭ２と、軸外放物面ミラーＭ３と、を備える。平面ミラーＭ２は、第４増幅器ユニットＰＡ４の出射ウィンドウＷ４２（図２６参照）から出射したレーザ光を反射する。軸外放物面ミラーＭ３は、平面ミラーＭ２で反射されたレーザ光を平行光化すると共に第４増幅器ユニットＰＡ４の上段に配置された第５増幅器ユニットＰＡ５へ向けて反射する。この軸外放物面ミラーＭ３は、補償光学素子（ＡＯ）に置き換えることもできる。軸外放物面ミラーＭ３で反射されたレーザ光は、第５増幅器ユニットＰＡ５の入射ウィンドウＷ５１（図２６参照）を介して第５増幅器ユニットＰＡ５に入射する。
【００５１】
図１８Ｃに示すように、第３リレー光学系３０−３は、たとえば、軸外放物面ミラーＭ４を備える。軸外放物面ミラーＭ４は、第５増幅器ユニットＰＡ５の出射ウィンドウＷ５２（図２６参照）から出射したレーザ光を平行光化すると共に、平行光化されたレーザ光を不図示のチャンバへ向けて反射する。この軸外放物面ミラーＭ４は、平面ミラーに置き換えることもできる。軸外放物面ミラーＭ４で反射されたレーザ光は、その後、チャンバ内におけるターゲット物質が到達または通過するプラズマ生成領域に集光される。なお、プラズマ生成領域とは、ターゲット物質にレーザ光を照射する位置周囲を含む空間である。ＥＵＶ光の放射源であるプラズマは、このプラズマ生成領域で生成される。
【００５２】
本実施の形態による光学ユニット３０は、図１９および図２０に示すようにも構成することが可能である。図１９は、本実施の形態による光学ユニットの他の概略構成を示す外観図である。図２０は、本実施の形態による光学ユニットにおける第２リレー光学系の他の構成例を示す図である。図１９に示すように、光学ユニット３０の他の構成例では、第２リレー光学系３０−２が第２リレー光学系３０−１２に置き換えられている。第２リレー光学系３０−１２は、たとえば、平面ミラーＭ１１およびＭ１２と、球面ミラーＭ１３と、平面ミラーＭ１４およびＭ１５と、を備える。平面ミラーＭ１１およびＭ１２は、第４増幅器ユニットＰＡ４の出射ウィンドウＷ４２から出射したレーザ光を反射する。球面ミラーＭ１３は、平面ミラーＭ１２で反射されたレーザ光を平行光化しつつ反射する。平面ミラーＭ１４およびＭ１５は、球面ミラーＭ１３で反射されたレーザ光を第５増幅器ユニットＰＡ５へ導く。球面ミラーＭ１３は、補償光学素子（ＡＯ）に置き換えることが可能である。また、第１リレー光学系３０−１における軸外放物面ミラーＭ１は、平面ミラーに置き換えられてもよい。さらに、第３リレー光学系３０−３における軸外放物面ミラーＭ４を平面ミラーに置き換えることもできる。
【００５３】
また、本実施の形態による光学ユニット３０は、図２１および図２２に示すようにも構成することが可能である。図２１は、本実施の形態による光学ユニットの他の概略構成を示す外観図である。図２２は、本実施の形態による光学ユニットにおける第１リレー光学系の他の構成例を示す図である。図２１に示すように、光学ユニット３０の他の構成例では、第１リレー光学系３０−１が第１リレー光学系３０−２１に置き換えられている。第１リレー光学系３０−２１は、たとえば、平面ミラーＭ２１と、球面ミラーＭ２２と、平面ミラーＭ２３と、を備える。平面ミラーＭ２１は、入射ウィンドウＷ１から入射した第３増幅器ユニットＰＡ３からのレーザ光を反射する。球面ミラーＭ２２は、平面ミラーＭ２１で反射されたレーザ光を平行光化しつつ反射する。平面ミラーＭ２３は、球面ミラーＭ２２で反射されたレーザ光を第４増幅器ユニットＰＡ４へ向けて反射する。球面ミラーＭ２２は、補償光学素子（ＡＯ）に置き換えることも可能である。また、第２リレー光学系には、図２０に示した第２リレー光学系３０−１２を用いることができる。この場合、平面ミラーＭ１１に代えて補償光学素子（ＡＯ）を用いてもよい。
【００５４】
さらに、本実施の形態による光学ユニット３０は、図２３および図２４に示すようにも構成することが可能である。図２３は、本実施の形態による光学ユニットの他の概略構成を示す外観図である。図２４は、本実施の形態による光学ユニットにおける第３リレー光学系の他の構成例を示す図である。図２３に示すように、光学ユニット３０の他の構成例では、第３リレー光学系３０−３が第３リレー光学系３０−３３に置き換えられている。第３リレー光学系３０−３３は、たとえば、平面ミラーＭ３１、Ｍ３２およびＭ３３を備える。平面ミラーＭ３１、Ｍ３２およびＭ３３は、第５増幅器ユニットＰＡ５の出射ウィンドウＷ５２から出射したレーザ光をチャンバへ導く。
【００５５】
また、本実施の形態による光学ユニット３０は、第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５から出力されたレーザ光の光強度をモニタリングするように構成してもよい。この場合、モニタリング対象の第４増幅器ユニットＰＡ４から出力されたレーザ光を反射するミラー（平面ミラーＭ２、Ｍ１１に相当）がビームスプリッタに置き換えられる。同様に、第５増幅器ユニットＰＡ５から出力されたレーザ光を反射するミラー（軸外放物面ミラーＭ４、平面ミラーＭ３１に相当）がビームスプリッタに置き換えられる。ここで図２５に、本実施の形態における第４増幅器ユニットおよび第５増幅器ユニットからの出力をモニタリングする構成の一例を示す。
【００５６】
図２５に示すように、第４増幅器ユニットおよび第５増幅器ユニットからの出力をモニタリングする構成は、平面ミラーＭ４１、補償光学素子（ＡＯ）Ｍ４２および平面ミラーＭ４３よりなる第１リレー光学系３０−４１を含む。第１リレー光学系３０−４１は、第３増幅器ユニットＰＡ３から出力されたレーザ光を第４増幅器ユニットＰＡ４へ導く。
【００５７】
加えて、図２５のモニタリング構成は、たとえば、ビームスプリッタＭ４４、補償光学素子（ＡＯ）Ｍ４５および平面ミラーＭ４６よりなる第２リレー光学系３０−４２を含む。ビームスプリッタＭ４４は、第４増幅器ユニットＰＡ４から出射したレーザ光の一部を透過させつつ残りを反射する。補償光学素子（ＡＯ）は、ビームスプリッタＭ４４で反射されたレーザ光を第５増幅器ユニットＰＡ５へ導く。
【００５８】
また、図２５のモニタリング構成は、たとえば、ビームスプリッタＭ４７よりなる第３リレー光学系３０−４３を含む。ビームスプリッタＭ４７は、第５増幅器ユニットＰＡ５から出射したレーザ光の一部を透過させつつ残りをチャンバへ向けて反射する。
【００５９】
さらに、図２５のモニタリング構成は、たとえば、モニタボックスＢ１と、モニタボックスＢ２とを含む。モニタボックスＢ１は、第２リレー光学系３０−４２のビームスプリッタＭ４４を透過したレーザ光をモニタリングする。モニタボックスＢ２は、第３リレー光学系３０−４３のビームスプリッタＭ４７を透過したレーザ光をモニタリングする。
【００６０】
第２リレー光学系３０−４２のビームスプリッタＭ４４を透過したレーザ光の一部は、モニタボックスＢ１の入力段に設けられたビームスプリッタＢ１１を透過した後、出力モニタＢ１２に入射する。出力モニタＢ１２は、入射したレーザ光の強度を測定する。これにより、出力モニタＢ１２は、第４増幅器ユニットＰＡ４から出力されたレーザ光の強度（エネルギー）および第４増幅器ユニットＰＡ４による増幅率等を検出する。また、ビームスプリッタＢ１１で反射されたレーザ光は、ビームプロファイラＢ１３に入射する。ビームプロファイラＢ１３は、入射したレーザ光のビーム形状や強度分布等を測定する。これにより、ビームプロファイラＢ１３は、第４増幅器ユニットＰＡ４から出力されたレーザ光のプロファイルを測定する。
【００６１】
同様に、第３リレー光学系３０−４３のビームスプリッタＭ４７を透過したレーザ光の一部は、モニタボックスＢ２の入力段に設けられたビームスプリッタＢ２１を透過した後、出力モニタＢ２２に入射する。これにより、出力モニタＢ２２によって、第５増幅器ユニットＰＡ５から出力されたレーザ光の強度（エネルギー）および第５増幅器ユニットＰＡ５による増幅率等が検出される。また、ビームスプリッタＢ２１で反射されたレーザ光は、ビームプロファイラＢ２３に入射する。これにより、ビームプロファイラＢ２３によって、第５増幅器ユニットＰＡ５から出力されたレーザ光のプロファイルが測定される。
【００６２】
つぎに、本実施の形態による第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５について、図面を用いて詳細に説明する。図２６は、本実施の形態による第４増幅器ユニットまたは第５増幅器ユニットの外観構成を示す斜視図である。図２６に示すように、第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５の外観は、たとえば、略立方体の形状である。第４増幅器ユニットＰＡ４の側面の１つには、増幅対象のレーザ光が入射する入射ウィンドウＷ４１と、増幅後のレーザ光が出射する出射ウィンドウＷ４２とが設けられている。同様に、第５増幅器ユニットＰＡ５の側面の１つには、増幅対象のレーザ光が入射する入射ウィンドウＷ５１と、増幅後のレーザ光が出射する出射ウィンドウＷ５２とが設けられている。
【００６３】
つづいて、本実施の形態による第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５の内部構成について、図面を参照に詳細に説明する。ただし、第５増幅器ユニットＰＡ５の内部構成は、第４増幅器ユニットＰＡ４の内部構成と同様であるため、ここでは第４増幅器ユニットＰＡ４について説明する。図２７は、本実施の形態による第４増幅器ユニットの内部概略構成を示す側視図である。図２８は、図２７に示す第４増幅器ユニットの分解図である。図２９は、図２７に示す第４増幅器ユニットの上段に位置するガス流路の概略構成を示す上視図である。図３０は、図２７に示す第４増幅器ユニットの中段に位置する増幅光路の概略構成を示す上視図である。
【００６４】
図２７〜図３０に示すように、第４増幅器ユニットＰＡ４は、上下に配置された２つのガス流路７２ａおよび７２ｂと、２つのガス流路７２ａおよび７２ｂの間に配置された共振器フレーム７７と、を含む。
【００６５】
図２９に示すように、下段のガス流路７２ｂは、４つの第１ガス流路７２ｘと、４つの第２ガス流路７２ｙと、を備える。４つの第１ガス流路７２ｘは、たとえば十字状に配置されている。また、４つの第２ガス流路７２ｙは、第１ガス流路７２ｘに対して４５°傾いた×字状に配置されている。各ガス流路７２ｘおよび７２ｙは、たとえば断面が四角形または円形（楕円を含む）である中空のパイプより構成される。各ガス流路７２ｘおよび７２ｙの内部には、増幅媒体としてのＣＯ２混合ガスが充填される。各ガス流路７２ｘおよび７２ｙが集合する中心の下部には、第１ガス流路７２ｘ中のＣＯ２混合ガスを第２流路７２ｙへ循環させる循環ポンプ７１ｂが設けられてもよい。
【００６６】
図２７および図２８に示すように、循環ポンプ７１ｂによって第２ガス流路７２ｙに送り込まれたＣＯ２混合ガスは、第２ガス流路７２ｂの端部に接続された縦配管７５ｂを介して、中段（図２８（ｂ）参照）における下段側の増幅光路７４ｂへ流入する。増幅光路７４ｂは、円筒状の配管の組立体である。図３０に示すように、この増幅光路７４ｂは、四角形または長方形の共振器フレーム７７の外周に配置される。増幅光路７４ｂは、たとえばアルミブロック７６Ａおよび７６Ｂによって共振器フレーム７７に固定される。図２８〜図３０に示すように、この増幅光路７４ｂ内に送り込まれたＣＯ２混合ガスは、増幅光路７４ｂを各辺の中央付近で分岐する縦配管７３ｂを介して第１ガス流路７２ｘへ流入し、その後、循環ポンプ７１ｂによって再び第２ガス流路７２ｙへ送り出される。
【００６７】
また、図３０に示すように、下段側の増幅光路７４ｂ内を、入射ウィンドウＷ４１から入射したレーザ光が通過する。そこで、増幅光路７４ｂの各コーナを共振器フレーム７７に固定するアルミブロック７６Ａ内には、レーザ光のビーム軸を増幅光路７４ｂに沿って９０°屈折させる平面ミラーが設けられる。入射ウィンドウＷ４１から入射後、増幅光路７４ｂ内をたとえば反時計回りに一周したレーザ光は、入射ウィンドウＷ４１を備えるアルミブロック７６Ａに設けられたリターンミラー７８で反射されることで、上段側の増幅光路７４ａへ導かれる。これにより、下段で増幅されたレーザ光が上段の増幅光路７４ａ内に入射する。
【００６８】
増幅光路７４ａ内には、上段のガス流路７２ａから送り込まれたＣＯ２混合ガスが充填されている。なお、ガス流路７２ａ、縦配管７３ａおよび７５ａならびに増幅光路７４ａが形成する流路におけるＣＯ２混合ガスの循環は、上述したガス流路７２ｂ、縦配管７３ｂおよび７５ｂならびに増幅光路７４ｂが形成する流路におけるＣＯ２混合ガスの循環と同様であるため、ここでは説明を省略する。
【００６９】
下段側の増幅光路７４ｂから上段側の増幅光路７４ａ内に入射したレーザ光は、この増幅光路７４ａ内を通過する。そこで、増幅光路７４ａの各コーナを共振器フレーム７７に固定するアルミブロック７６Ａ内には、レーザ光のビーム軸を増幅光路７４ａに沿って９０°屈折させる平面ミラーが設けられる。増幅光路７４ａ内をたとえば時計回りに一周したレーザ光は、その後、入射ウィンドウＷ４１を備えるアルミブロック７６Ａに設けられた出射ウィンドウＷ４２より外部（光学ユニット３０）へ出射する。
【００７０】
以上のような構成を備えた第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５は、それぞれ２つの循環ポンプ７１ａおよび７１ｂを備える。このため、第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５は、共振器の振動を防止するための構成を備えるとよい。図３１Ａ〜図３１Ｃは、本実施の形態による増幅器内部の振動防止機構の一例を示す模式図である。なお、第５増幅器ユニットＰＡ５の振動防止機構の構成は、第４増幅器ユニットＰＡ４の内部構成と同様であるため、ここでは第４増幅器ユニットＰＡ４について説明する。
【００７１】
図３１Ａ〜図３１Ｃに示すように、第４増幅器ユニットＰＡ４の内部構成は、外部筐体の底部であるメインアンプフレーム８０上に載置される。メインアンプフレーム８０の下面には、たとえば複数のダンパ８３が設けられる。内部構成における下段のガス流路７２ｂは、振動吸収部であるダンパ８１ｂを介してメインアンプフレーム８０上に置かれる。上段のガス流路７２ａは、振動吸収部である支持部材８１ａによって下段のガス流路７２ｂに対して支持される。ガス流路７２ｂ，７２ａからの振動がアルミブロック７６Ａ、７６Ｂに伝達しないように、接続される縦配管７３ｂ，７５ｂ，７３ａ，７５ａは、ベローズ配管で構成されている。
【００７２】
一方、共振器フレーム７７は、振動吸収部であるダンパ機構８２によってメインアンプフレーム８０に対して支持される。図３１Ｃに示すように、ダンパ機構８２は、迂回部８２ａを含む支持部と、ダンパ８２ｂとを含む。迂回部８２ａは、ガス流路７２ｂに接触せずに迂回する。ダンパ８２ｂは、メインアンプフレーム８０から伝達した振動が共振器フレーム７７へ入力されることを防止する。
【００７３】
このように、循環ポンプ７１ａおよび７１ｂを備えたガス流路７２ａおよび７２ｂと増幅光路７４ａおよび７４ｂが固定された共振器フレーム７７とを、個別の振動吸収機構によってそれぞれメインアンプフレーム８０に対して支持する。これにより、循環ポンプ７１ａおよび７１ｂで発生した振動によって共振器フレーム７７が振動することを効率的に低減できる。この結果、増幅器内部の光路を構成する光学素子に発生する振動を低減できる。
【００７４】
また、本実施の形態による第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５は、上述したように、占有床面積を縮小するために、上下に縦積みされる。この際、たとえば図３２に示すように、下段の第４増幅器ユニットＰＡ４に対して振動分離されたフレーム９０を用いて、第５増幅器ユニットＰＡ５を第４増幅器ユニットＰＡ４上に設置するとよい。図３２は、本実施の形態において２段に縦積みされた第４および第５増幅器ユニットの概略構成を示す斜視図である。また、図３３は、本実施の形態によるフレームの概略構成を示す斜視図である。図３４Ａ〜図３４Ｃは、図３３に示すフレームの外観図である。なお、図３４Ａは、フレーム９０の上面図であり、図３４Ｂは、フレーム９０の前面図であり、図３４Ｃは、フレーム９０の側面図である。図３２に示すように、第５増幅器ユニットＰＡ５を第４増幅器ユニットＰＡ４上に直接載置しない構成とすることで、第４増幅器ユニットＰＡ４と第５増幅器ユニットＰＡ５との間で伝達される振動を低減することが可能となる。
【００７５】
また、図３３および図３４に示すように、フレーム９０は、たとえば、梁９２ａおよび９２ｂと、桁９２ｃと、ガイド部材９２ｄと、スライダレール９１ａおよび９１ｂと、支柱９４と、すじかい９５とを備える。梁９２ａは、互いに離間した状態で支柱９４の下段に平行に２本並べられる。同様に、梁９２ｂは、互いに離間した状態で支柱９４の上段に平行に２本並べられる。２本の桁９２ｃは、下段の２本の梁９２ａの間隔および上段の２本の梁９２ｂの間隔をそれぞれ固定する。ガイド部材９２ｄは、第４増幅器ユニットＰＡ４または第５増幅器ユニットＰＡ５の底面から突出した循環ポンプ７１ｂを収容するポンプ収容部９３ａまたは９３ｂを形成する。スライダレール９１ａは、下段の２本の梁９２ａとそれぞれ平行に設けられる。スライダレール９１ｂは、上段の２本の梁９２ｂとそれぞれ平行に設けられる。４本の支柱９４およびすじかい９５は、下段の２本の梁９２ａに対して上段の２本の梁９２ｂを支持する。
【００７６】
下段の第４増幅器ユニットＰＡ４は、下段のスライダレール９１ａ上に載置される。これにより、第４増幅器ユニットＰＡ４がフレーム９０に対して容易に出し入れ可能となる。同様に、上段の第５増幅器ユニットＰＡ５は、上段のスライダレール９１ｂ上に載置され、これにより、第５増幅器ユニットＰＡ５がフレーム９０に対して容易に出し入れ可能となる。
【００７７】
図３５Ａ〜図３５Ｄに示すように、以上のようなフレーム９０を用いて縦積みされた第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５は、入射ウィンドウＷ４１およびＷ５１と出射ウィンドウＷ４２およびＷ５２とが光学ユニット３０に向くように配置される。この場合、第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５は、光学ユニット３０の対向面に対して垂直な方向（引出し方向ｄ１）へ引き出し可能である。なお、図３５Ａ〜図３５Ｄは、本実施の形態における光学ユニットと第４および第５増幅器ユニットとの接続を示す外観図である。図３５Ａは、その上視図である。図３５Ｂは、その正面図である。図３５Ｃは、その側面図である。図３５Ｄは、その背面図である。
【００７８】
また、図３６Ａおよび図３６Ｂに示すように、本実施の形態による第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５は、正対する光学ユニット３０の対向面に平行な方向（引出し方向ｄ２）へ引き出せるように構成されてもよい。なお、図３６Ａおよび図３６Ｂは、本実施の形態における光学ユニットと第４および第５増幅器ユニットとの他の接続を示す外観図である。図３６Ａは、その上視図である。図３６Ｂは、その側面図である。
【００７９】
また、本実施の形態では、増幅器を２段に積み上げた場合（第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５）を例に挙げた。しかし、たとえば図３７および図３８に示すように、下段のフレーム９０−１の上に上段のフレーム９０−２を積み重ねることで、３つの増幅器（第４〜第６増幅器ユニットＰＡ４〜ＰＡ６）を縦積みすることも可能である。さらに、４つ以上の増幅器を縦積みすることも可能である。なお、図３７は、本実施の形態において３つの増幅器を縦積みした場合の構成例を示す斜視図である。図３８は、本実施の形態において３つの増幅器を縦積みした場合の構成例を示す背面図である。図３７および図３８において、フレーム９０−１および９０−２は、それぞれフレーム９０と同様の構成を備える。
【００８０】
また、本実施の形態では、下段の第４増幅器ユニットＰＡ４と上段の第５増幅器ユニットＰＡ５とが一体のフレーム９０に載置される場合を例に挙げた。しかし、これに限定されない。たとえば、下段の第４増幅器ユニットＰＡ４が載置されるフレームを、上段の第５増幅器ユニットＰＡ５が載置されるフレームとは別体のフレームとしてもよい。この場合、第４増幅器ユニットＰＡ４が載置されるフレームは、たとえばフレーム９０における下段の梁９２ａ、桁９２ｃ、ガイド部材９２ｄおよびスライダレール９１ａによって構成される。一方、第５増幅器ユニットＰＡ５が載置されるフレームは、たとえばフレーム９０における下段の桁９２ｃの１つ、ガイド部材９２ｄおよびスライダレール９１ａが省略された構成となる。ただし、第４増幅器ユニットＰＡ４が載置されるフレームは、第５増幅器ユニットＰＡ５が載置されるフレームの内側に接触せずに収容できるように、一回り小さく構成されるとよい。
【００８１】
以上のように、本実施の形態によれば、少なくとも１つのユニットが移動可能な状態で収容スペース１００内に配置されるため、レーザ装置１を停止またはメンテナンス時の作業スペースを確保しつつ有限のスペース内に収めることが可能となる。さらに、このようなレーザ装置１を備えた極端紫外光生成装置を実現することが可能となる。
【００８２】
ここで図３９に、本実施の形態における装置停止時からのメンテナンス手順を示す。図３９に示すように、装置停止時からのメンテナンスでは、まず、配電盤５０の前に確保されている作業スペースＳＰに進入して、配電盤５０のブレーカを落とす（ステップＳ１０１）。つぎに、メンテナンス対象のユニット（たとえば第５電源ユニットＤ５）に対する作業スペースを確保するために、ユニット（たとえば第４電源ユニットＤ４）を移動させる（ステップＳ１０２）。このように、メンテナンス対象のユニットに対して作業スペースを確保し、つぎに、このユニットに対するメンテナンスを実行する（ステップＳ１０３）。その後、別のユニットをメンテナンスする必要があるか否かを確認し（ステップＳ１０４）、別のメンテナンス対象のユニットがある場合（ステップＳ１０４のＮＯ）、ステップＳ１０２に戻り、次のメンテナンス対象のユニットに対する作業を実行する（ステップＳ１０２〜Ｓ１０３）。また、別のユニットに対するメンテナンスが必要でなければ（ステップＳ１０４のＹＥＳ）、メンテナンスのために移動したユニットを稼働時の配置に戻し（ステップＳ１０６）、その後、配電盤５０のブレーカを上げて（ステップＳ１０６）、作業を終了する。
【００８３】
また、上記実施の形態およびその変形例は本開示を実施するための例にすぎず、本開示はこれらに限定されるものではなく、仕様等に応じて種々変形することは本開示の範囲内であり、更に本開示の範囲内において、他の様々な実施の形態が可能であることは上記記載から自明である。例えば各実施の形態に対して適宜例示した変形例は、他の実施の形態に対して適用することも可能であることは言うまでもない。
【符号の説明】
【００８４】
１ レーザ装置
１０ ＯＳＣユニット
１１ マスタオシレータ
３０−１、３０−２１、３０−４１ 第１リレー光学系
３０−２、３０−１２、３０−４２ 第２リレー光学系
３０−３、３０−３３、３０−４３ 第３リレー光学系
３０ 光学ユニット
３１〜３３ 高反射ミラー
５０ 配電盤
５１ キャビネット
５１Ａ、５１Ｂ 扉
５２ 配線
５３、５４ａ、５４ｃ、５６ａ、５６ｃ、５６ｄ ブレーカ
５４ｂ、５６ｂ トランス
５７ 配線
６０ ガス・冷却水分配器
７０、７１ 作業スペース
７１ａ、７１ｂ 循環ポンプ
７２ 作業スペース
７２ａ、７２ｂ ガス流路
７２ｘ 第１ガス流路
７２ｙ 第２ガス流路
７３、７４ 作業スペース
７３ａ、７３ｂ、７５ａ、７５ｂ 縦配管
７４ａ、７４ｂ 増幅光路
７５ 作業スペース
７６Ａ、７６Ｂ アルミブロック
７７ 共振器フレーム
７８ リターンミラー
８０ メインアンプフレーム
８１ａ 支持部材
８１ｂ、８２ｂ ダンパ
８２ ダンパ機構
８２ａ 迂回部
９０、９０−１、９０−２、９０Ａ フレーム
９１ａ、９１ｂ スライダレール
９２ａ、９２ｂ 梁
９２ｃ 桁
９２ｄ ガイド部材
９３ａ、９３ｂ ポンプ収容部
９４ 支柱
９５ すじかい
Ｄ１ ＯＳＣ電源
Ｄ３ 第３電源ユニット
Ｄ４ 第４電源ユニット
Ｄ５ 第５電源ユニット
ｄ１、ｄ２ 引出し方向
１００ 収容スペース
３０１ レベルアジャスタ
３０２ 耐震固定金具
３１１ ボルト
４００ フレーム
Ａ１ Ｌ字金具
Ａ２ ストッパ
Ａ３ 固定具
Ａ４ タイヤ止め
Ａ３１ ボルト
Ａ３２ ワッシャ
Ａ３３ ナット
ＡＧ１ ＣＯ２ガス増幅媒体
Ｂ１、Ｂ２ モニタボックス
Ｂ１１、Ｂ２１ ビームスプリッタ
Ｂ１２、Ｂ２２ 出力モニタ
Ｂ１３、Ｂ２３ ビームプロファイラ
Ｃ１、Ｃ１１ キャスタ
Ｃ１２ａ、Ｃ１２ｂ タイヤ
Ｃ１３ ディスク
Ｃ１４ ハンドル
Ｃ１５、Ｃ１７ ベルト
Ｃ１６ａ、Ｃ１６ｂ ローラ
Ｃ２２ａ、Ｃ２２ｂ ギア
Ｃ３１ 回転軸
Ｃ３２ａ、Ｃ３２ｂ 軸受け
Ｃ３３ スクリューギア
Ｌ１、Ｌ２ レーザ光
ＬＳ シード光
Ｍ１、Ｍ３、Ｍ４ 軸外放物面ミラー
Ｍ２、Ｍ１１、Ｍ１２、Ｍ１４、Ｍ１５、Ｍ２１、Ｍ２３、Ｍ３１、Ｍ３２、Ｍ３３、Ｍ４１、Ｍ４３ 平面ミラー
Ｍ１３、Ｍ２２ 球面ミラー
Ｍ４２、Ｍ４５ 補償光学素子
Ｍ４４、Ｍ４７ ビームスプリッタ
Ｍ４６ 平面ミラー
ＭＡ メインアンプ
ＰＡ プリアンプ
ＰＡ１ 第１増幅器
ＰＡ２ 第２増幅器
ＰＡ３ 第３増幅器ユニット
ＰＡ４ 第４増幅器ユニット
ＰＡ５ 第５増幅器ユニット
ＰＡ６ 第６増幅器ユニット
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４ レール
Ｒ１１ スライドギアレール
Ｒ１ａ 溝
ＳＰ 作業スペース
Ｗ１、Ｗ４１、Ｗ５１ 入射ウィンドウ
Ｗ４２、Ｗ５２ 出射ウィンドウ
【技術分野】
【０００１】
本開示は、レーザ装置、極端紫外光生成装置、およびメンテナンス方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体プロセスの微細化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、７０ｎｍ〜４５ｎｍの微細加工、さらには３２ｎｍ以下の微細加工が要求されるようになる。このため、たとえば３２ｎｍ以下の微細加工の要求に応えるべく、波長１３ｎｍ程度の極端紫外光光源装置と縮小投影反射光学系とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。
【０００３】
ＥＵＶ光源装置としては、ターゲット物質にレーザビームを照射することによって生成されるプラズマを用いたＬＰＰ（Ｌａｓｅｒ Ｐｒｏｄｕｃｅｄ Ｐｌａｓｍａ：レーザ励起プラズマ）光源装置と、放電によって生成されるプラズマを用いたＤＰＰ（Ｄｉｓｃｈａｒｇｅ Ｐｒｏｄｕｃｅｄ Ｐｌａｓｍａ）光源装置と、軌道放射光を用いたＳＲ（Ｓｙｎｃｈｒｏｔｒｏｎ Ｒａｄｉａｔｉｏｎ）光源装置との３種類がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−１２８１５７号公報
【概要】
【０００５】
本開示の一態様によるレーザ装置は、所定空間内に、かつ所定の床面積範囲内に配置されるレーザ装置であって、マスタオシレータと、前記マスタオシレータから出力されたレーザ光を増幅する、少なくとも１つの増幅器ユニットと、前記少なくとも１つの増幅器ユニットのそれぞれに励起エネルギーを供給する少なくとも１つの電源ユニットと、前記少なくとも１つ増幅器ユニットおよび前記少なくとも１つの電源ユニットの少なくともいずれか一方を床と略平行な方向へ移動可能にする移動機構と、を備えてもよい。
【０００６】
本開示の他の態様による極端紫外光生成装置は、マスタオシレータ、前記マスタオシレータから出力されたレーザ光を増幅する少なくとも１つの増幅器ユニット、前記少なくとも１つの増幅器ユニットのそれぞれに励起エネルギーを供給する少なくとも１つの電源ユニット、外部電力を前記少なくとも１つの電源ユニットへ配電する配電盤、前記少なくとも１つ増幅器ユニット及び前記少なくとも１つの電源ユニットの少なくともいずれか一方を前記配電盤に対して移動可能にする移動機構、を含む、所定空間内に配置されるレーザ装置と、前記所定空間外に配置され、その内部で極端紫外光の発生源となるターゲットに前記レーザ装置から出力されたレーザ光が照射されるチャンバと、を備えてもよい。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】図１は、本開示の一実施の形態によるレーザ装置の概略構成を示すブロック図である。
【図２】図２は、本実施の形態による配電盤の構成例を示す模式図である。
【図３】図３は、本実施の形態による収容スペース内に収容されたレーザ装置の稼働時のレイアウト例を示す斜視図である。
【図４】図４は、本実施の形態による収容スペース内に収容されたレーザ装置の稼働時のレイアウト例を上から見た図である。
【図５Ａ】図５Ａは、本実施の形態による収容スペース内に収容されたレーザ装置のメンテナンス時のレイアウト例を上から見た図である（その１）。
【図５Ｂ】図５Ｂは、本実施の形態による収容スペース内に収容されたレーザ装置のメンテナンス時のレイアウト例を上から見た図である（その２）。
【図６】図６は、本実施の形態による収容スペース内に収容されたレーザ装置の他のレイアウト例を上から見た図である。
【図７】図７は、本実施の形態による収容スペース内に収容されたレーザ装置の他のレイアウト例を上から見た図である。
【図８Ａ】図８Ａは、本実施の形態による収容スペース内に収容されたレーザ装置の他のレイアウト例を上から見た図である（その１）。
【図８Ｂ】図８Ｂは、本実施の形態による収容スペース内に収容されたレーザ装置の他のレイアウト例を上から見た図である（その２）。
【図９Ａ】図９Ａは、本実施の形態による第４および第５電源ユニットならびに移動機構をこれの移動方向から見た側面図である。
【図９Ｂ】図９Ｂは、本実施の形態による第４および第５電源ユニットならびに移動機構をこれの移動方向と垂直な方向から見た側面図である。
【図１０】図１０は、本実施の形態の変形例による第４および第５電源ユニットならびに移動機構をこれの移動方向と垂直な方向から見た側面図である。
【図１１】図１１は、本実施の形態による移動補助機構の第１の構成例を示す側面図である。
【図１２】図１２は、本実施の形態による移動補助機構の第２の構成例を示す側面図である。
【図１３】図１３は、本実施の形態による移動補助機構の第３の構成例を示す側面図である。
【図１４Ａ】図１４Ａは、本実施の形態による光学ユニットを床面に固定した場合の構成例を示す上視図である。
【図１４Ｂ】図１４Ｂは、本実施の形態による光学ユニットを床面に固定した場合の構成例を示す側視図（その１）である。
【図１４Ｃ】図１４Ｃは、本実施の形態による光学ユニットを床面に固定した場合の構成例を示す側視図（その２）である。
【図１５】図１５は、本実施の形態による光学ユニットをＯＳＣユニット等に固定した場合の構成例を示す側視図である。
【図１６】図１６は、本実施の形態による光学ユニットを第４および第５増幅器ユニットに固定した場合の構成例を示す側視図である。
【図１７Ａ】図１７Ａは、本実施の形態による光学ユニットの概略構成を示す側面図である。
【図１７Ｂ】図１７Ｂは、本実施の形態による光学ユニットの概略構成を示す背面図である。
【図１８Ａ】図１８Ａは、本実施の形態による光学ユニットにおける第１リレー光学系の構成例を示す図である。
【図１８Ｂ】図１８Ｂは、本実施の形態による光学ユニットにおける第２リレー光学系の構成例を示す図である。
【図１８Ｃ】図１８Ｃは、本実施の形態による光学ユニットにおける第３リレー光学系の構成例を示す図である。
【図１９】図１９は、本実施の形態による光学ユニットの他の概略構成を示す外観図である。
【図２０】図２０は、本実施の形態による光学ユニットにおける第２リレー光学系の他の構成例を示す図である。
【図２１】図２１は、本実施の形態による光学ユニットの他の概略構成を示す外観図である。
【図２２】図２２は、本実施の形態による光学ユニットにおける第１リレー光学系の他の構成例を示す図である。
【図２３】図２３は、本実施の形態による光学ユニットの他の概略構成を示す外観図である。
【図２４】図２４は、本実施の形態による光学ユニットにおける第３リレー光学系の他の構成例を示す図である。
【図２５】図２５は、本実施の形態における第４増幅器ユニットおよび第５増幅器ユニットからの出力をモニタリングする構成の一例を示す模式図である。
【図２６】図２６は、本実施の形態による第４増幅器ユニットまたは第５増幅器ユニットの外観構成を示す斜視図である。
【図２７】図２７は、本実施の形態による第４増幅器ユニットの内部概略構成を示す側視図である。
【図２８】図２８は、図２７に示す第４増幅器ユニットの分解図である。
【図２９】図２９は、図２７に示す第４増幅器ユニットの上段に位置するガス流路の概略構成を示す上視図である。
【図３０】図３０は、図２７に示す第４増幅器ユニットの中段に位置する増幅光路の概略構成を示す上視図である。
【図３１Ａ】図３１Ａは、本実施の形態による増幅器内部の振動防止機構の一例を示す内部側視図である。
【図３１Ｂ】図３１Ｂは、本実施の形態による増幅器内部の振動防止機構の一例を示す一部配置図である。
【図３１Ｃ】図３１Ｃは、本実施の形態による増幅器内部の振動防止機構の一例を示す部分断面図である。
【図３２】図３２は、本実施の形態において２段に縦積みされた第４および第５増幅器ユニットの概略構成を示す斜視図である。
【図３３】図３３は、本実施の形態によるフレームの概略構成を示す斜視図である。
【図３４Ａ】図３４Ａは、図３３に示すフレームの上面図である。
【図３４Ｂ】図３４Ｂは、図３３に示すフレームの前面図である。
【図３４Ｃ】図３４Ｃは、図３３に示すフレームの側面図である。
【図３５Ａ】図３５Ａは、本実施の形態における光学ユニットと第４および第５増幅器ユニットとの接続を示す上面図である。
【図３５Ｂ】図３５Ｂは、本実施の形態における光学ユニットと第４および第５増幅器ユニットとの接続を示す正面図である。
【図３５Ｃ】図３５Ｃは、本実施の形態における光学ユニットと第４および第５増幅器ユニットとの接続を示す側面図である。
【図３５Ｄ】図３５Ｄは、本実施の形態における光学ユニットと第４および第５増幅器ユニットとの接続を示す背面図である。
【図３６Ａ】図３６Ａは、本実施の形態における光学ユニットと第４および第５増幅器ユニットとの他の接続を示す上面図である。
【図３６Ｂ】図３６Ｂは、本実施の形態における光学ユニットと第４および第５増幅器ユニットとの他の接続を示す側面図である。
【図３７】図３７は、本実施の形態において増幅器を３段に縦積みした場合の構成例を示す斜視図である。
【図３８】図３８は、本実施の形態において増幅器を３段に縦積みした場合の構成例を示す正面図である。
【図３９】図３９は、本実施の形態における稼働時からのメンテナンス手順を示す。
【実施の形態】
【０００８】
以下、本開示を実施するための形態を図面を参照に詳細に説明する。なお、以下の説明において、各図は本開示の内容を理解でき得る程度に形状、大きさ、および位置関係を概略的に示してあるに過ぎず、従って、本開示は各図で例示された形状、大きさ、および位置関係のみに限定されるものではない。また、各図では、構成の明瞭化のため、断面におけるハッチングの一部が省略されている。さらに、後述において例示する数値は、本開示の好適な例に過ぎず、従って、本開示は例示された数値に限定されるものではない。
【０００９】
以下、本開示の一実施の形態によるレーザ装置、極端紫外光生成装置、およびメンテナンス方法を、図面を参照して詳細に説明する。図１は、本実施の形態によるレーザ装置の概略構成を示すブロック図である。図１に示すように、本実施の形態によるレーザ装置１は、共振器（ＯＳＣ）ユニット１０と、プリアンプＰＡと、多段のメインアンプＭＡと、光学ユニット３０と、を備える。また、レーザ装置１は、ＯＳＣ電源Ｄ１と、第３〜第５電源ユニットＤ３〜Ｄ５と、配電盤５０と、を備える。レーザ装置１における各ユニットは、レーザガス、光路パージガス、空圧機器用ガスおよび温調または冷却用の冷却水を必要とする場合がある。この場合、レーザ装置１はこれらを各ユニットへ分配するガス・冷却水分配器６０（たとえば図３参照）をさらに備えてもよい。
【００１０】
ＯＳＣユニット１０は、パルス状のレーザ光をシード光ＬＳとして出力する。プリアンプＰＡは、ＯＳＣユニット１０から出力されたシード光ＬＳを増幅してレーザ光Ｌ１として出力する第３増幅器ユニットＰＡ３を含んでもよい。多段のメインアンプＭＡは、プリアンプＰＡから出力されたレーザ光Ｌ１を増幅してレーザ光Ｌ２として出力する第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５を含んでもよい。光学ユニット３０は、第３〜第５増幅器ユニットＰＡ３〜ＰＡ５から出力されたレーザ光Ｌ１およびＬ２をそれぞれ下流側の増幅器（第４／第５増幅器ユニットＰＡ４／ＰＡ５）または不図示のチャンバへ導く。ＯＳＣ電源Ｄ１および第３〜第５電源ユニットＤ３〜Ｄ５は、ＯＳＣユニット１０、プリアンプＰＡおよびメインアンプＭＡそれぞれへ励起エネルギーを供給する。配電盤５０は、ＯＳＣ電源Ｄ１および第３〜第５電源ユニットＤ３〜Ｄ５へ電力を分配する。
【００１１】
ここで、ＣＯ２ガスを増幅媒体とする場合、励起エネルギーの供給は、ＣＯ２ガスを含むガス中で電極に高電圧を印加することで行われる。電極に高電圧が印加されると、電極間で放電が発生する。これにより、ＣＯ２ガスが励起される。なお、ＣＯ２ガス中で高周波放電させるための電極に高周波を印加させてもよい。また、ＣＯ２ＴＥＡレーザの場合は、電極に高電圧パルスを印加してもよい。
【００１２】
ＯＳＣユニット１０は、マスタオシレータ１１と、第１増幅器ＰＡ１および第２増幅器ＰＡ２と、を一体化したユニットである。マスタオシレータ１１は、特定波長のレーザ光をシード光ＬＳとして出力する。第１増幅器ＰＡ１および第２増幅器ＰＡ２は、このマスタオシレータ１１から出力されたシード光ＬＳを増幅する。
【００１３】
ＯＳＣユニット１０のうちマスタオシレータ１１は、ＯＳＣ電源Ｄ１から供給された電気エネルギーによってシングル縦モードまたはマルチ縦モードでシード光ＬＳを発振する。このシード光ＬＳは、下流側の各増幅器（ＰＡ１〜ＰＡ５）におけるパルス幅や繰返し周波数を決定する。なお、シード光ＬＳに含まれるそれぞれの波長成分は、下流側の増幅器（ＰＡ１〜ＰＡ５）における１つ以上の増幅ラインのいずれかに対応する。このようなシード光ＬＳを出力可能なマスタオシレータ１１としては、量子カスケードレーザなどの半導体レーザや、ＣＯ２ガスレーザや、固体レーザなどが存在する。
【００１４】
第１増幅器ＰＡ１および第２増幅器ＰＡ２は、マスタオシレータ１１から出力された特定波長のシード光ＬＳを順次増幅する。ＯＳＣユニット１０の第２増幅器ＰＡ２から出力されたシード光ＬＳは、下流側のプリアンプＰＡに入力される。プリアンプＰＡにおける第３増幅器ユニットＰＡ３は、ＯＳＣユニット１０から出力されたシード光ＬＳを増幅する。増幅後のシード光ＬＳは、レーザ光Ｌ１としてプリアンプＰＡから出力される。
【００１５】
プリアンプＰＡから出力されたレーザ光Ｌ１は、たとえば光学ユニット３０を介して下流側のメインアンプＭＡに入力される。なお、光学ユニット３０は、たとえば高反射ミラー３１〜３３の他、部分反射ミラーや軸外放物面ミラーや可飽和吸収体や波面補正器や光品位計測装置など（不図示）を含んでもよい。可飽和吸収体は、チャンバから戻ってくるレーザ光（戻り光）やメインアンプＭＡからの寄生発振光や自励発振光等を吸収する。これにより、プリアンプＰＡやＯＳＣユニット１０の破損を防止できる。波面補正器は、レーザ光Ｌ１のビーム角度と波面の曲率とがメインアンプＭＡにおいて高効率で増幅されるのに有効なビーム角度と波面の曲率となるように、レーザ光Ｌ１のビーム径を拡大するとともにビームプロファイルを整える。以上のように、可飽和吸収体や波面補正器等の光学素子を光学ユニット３０に設けることで、増幅対象のレーザ光の波面を補正することが可能となる。これにより、たとえばメインアンプＭＡでの増幅効率を向上させることが可能となる。この結果、高出力のレーザ光Ｌ２を得ることが可能となる。
【００１６】
光学ユニット３０を介してメインアンプＭＡに入力されたレーザ光Ｌ１は、まず、第４増幅器ユニットＰＡ４において増幅される。第４増幅ユニットＰＡ４で増幅されたレーザ光Ｌ１は、つぎに第５増幅器ユニットＰＡ５において増幅される。この結果、第５増幅器ユニットＰＡ５からは、たとえば、波長が１０．６μｍ、エネルギーが１００〜２００ｍＪ、パワーが１０ｋＷ〜２０ｋＷのシングル横モードのレーザ光Ｌ２が出力される。レーザ光Ｌ２は、たとえば繰返し周波数が１００ｋＨｚのパルス状のレーザ光である。
【００１７】
第５増幅器ユニットＰＡ５から出力されたレーザ光Ｌ２は、たとえば光学ユニット３０を介してチャンバに導かれ、その後、チャンバ内に供給されたターゲット物質に照射される。これにより、レーザ光Ｌ２が照射されたターゲット物質が励起されてプラズマ化する。この生成されたプラズマからは、ＥＵＶ光が放出される。このようなチャンバは、たとえばレーザ装置１が設置される収容スペース１００（たとえば図３参照）の上階の部屋に設けられる。
【００１８】
各増幅器（ＰＡ１〜ＰＡ５）は、少なくともＣＯ２ガスを成分とするＣＯ２ガス増幅媒体ＡＧ１が充填された増幅領域を有する。この増幅領域には、それぞれの増幅器（ＰＡ１〜ＰＡ５）に接続されたＯＳＣ電源Ｄ１および第３〜第５電源ユニットＤ３〜Ｄ５から供給された高周波電力を用いて所定の電位差が与えられる。シード光ＬＳおよびレーザ光Ｌ１は、所定の電位差が与えられた増幅領域中を通過する際に増幅される。
【００１９】
たとえばマスタオシレータ１１を半導体レーザとした場合、ＯＳＣユニット１０が電流制御アクチュエータ（不図示）を備えることが好ましい。この電流制御アクチュエータは、マスタオシレータ１１を発振させるための電流信号を生成し、この電流信号をマスタオシレータ１１に入力する。このように、マスタオシレータ１１に半導体レーザを用いた場合、半導体レーザに供給される電流の波形および電流値を電流制御アクチュエータによって制御することで、マスタオシレータ１１から出力されるシード光ＬＳのパルス幅や波形や強度や周波数を容易に制御することが可能となる。この結果、所望のレーザ光を容易に得ることが可能となる。
【００２０】
以上のような構成において、ＯＳＣ電源Ｄ１、第３〜第５電源ユニットＤ３〜Ｄ５には、配電盤５０を介して電力が分配される。ここで図２に、本実施の形態による配電盤の構成例を示す。図２に示すように、配電盤５０は、たとえば両開きの扉５１Ａおよび５１Ｂにて開閉可能なキャビネット５１を備える。キャビネット５１内には、トランス５４ｂおよび５６ｂや、ブレーカ５３、５４ａ、５４ｃ、５６ａ、５６ｃおよび５６ｄや、不図示のコンタクタなどが設けられる。この配電盤５０には、外部の工場設備などの電源から配線５２を介して外部電力が供給される。供給された外部電力は、各電源（Ｄ１、Ｄ３〜Ｄ５）にそれぞれ対応付けられた配線５２上のトランス５４ｂおよび５６ｂによって適宜昇圧される。その後、昇圧された外部電力は、配線５７を介して各電源（Ｄ１、Ｄ３〜Ｄ５）へ供給される。各電源（Ｄ１、Ｄ３〜Ｄ５）は、配線５７を介して供給された電力を所定の電圧まで昇圧および変調する。この昇圧・変調された電力は、各増幅器（ＰＡ１〜ＰＡ５）へ供給される。
【００２１】
配電盤５０の前（扉５１Ａおよび５１Ｂ側）には、少なくとも停止またはメンテナンス時に、ブレーカを落とすなどの作業をするための作業スペースＳＰを確保しておくことが要求される（たとえばＮＦＰＡ７０（米国電気工事基準）参照）。以下の説明では、簡略化のため、この要求される作業スペースＳＰの幅を１ｍとする。一方、レーザ装置１を設置する空間（部屋）の大きさ（床面積や容積）は有限である。このため、配電盤５０の前に幅１ｍの作業スペースＳＰを確保しつつ全ユニットを収めることが困難な場合が存在する。特に、高スループットおよび高出力を実現するために個々のユニットが大型化されている場合、各ユニットをメンテナンスするための作業スペースを確保しつつ有限の収容スペース１００内にレーザ装置１を収めることが非常に困難である場合が存在する。
【００２２】
そこで本実施の形態では、少なくとも配電盤５０の前に配置されるユニットを移動可能にする。これにより、収容スペース１００内の空き領域でそれらのユニットを移動させることが可能となる。この結果、必要に応じて配電盤５０の前に作業スペースＳＰを確保することが可能となる。以下、これを、図面を参照して詳細に説明する。図３は、本実施の形態による収容スペース内に収容されたレーザ装置の稼働時のレイアウト例を示す斜視図である。図４は、本実施の形態による収容スペース内に収容されたレーザ装置の稼働時のレイアウト例を上から見た図である。図５Ａは、本実施の形態による収容スペース内に収容されたレーザ装置のメンテナンス時のレイアウト例を上から見た図である（その１）。図５Ｂは、本実施の形態による収容スペース内に収容されたレーザ装置のメンテナンス時の別のレイアウト例を上から見た図である（その２）。
【００２３】
図３〜図５Ｂに示すレイアウト例において、配電盤５０、ガス・冷却水分配器６０、ＯＳＣ電源Ｄ１および第４増幅器ユニットＰＡ４は、たとえば収容スペース１００内の床に固定される。光学ユニット３０は、収容スペース１００の床に固定される。ただし、これに限らず、光学ユニット３０を第３増幅器ユニットＰＡ３に固定してもよいし、第４増幅器ユニットＰＡ４および第４増幅器ユニットＰＡ４上の第５増幅器ユニットＰＡ５に固定してもよい。
【００２４】
ＯＳＣユニット１０、第３増幅器ユニットＰＡ３およびＯＳＣ電源Ｄ１は、縦積みされてもよい。同様に、第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５は、縦積みされてもよい。各ユニットを縦積みすることで、レーザ装置１の延べ床面積を縮小できる。
【００２５】
レイアウト例において、ＯＳＣユニット１０、第３増幅器ユニットＰＡ３、ＯＳＣ電源Ｄ１、光学ユニット３０、第４増幅器ユニットＰＡ４、第５増幅器ユニットＰＡ５、および第３電源ユニットＤ３は、第４電源ユニットＤ４および第５電源ユニットＤ５を取り囲むように配置されている。また、ＯＳＣユニット１０、第３増幅器ユニットＰＡ３、ＯＳＣ電源Ｄ１、光学ユニット３０、第４増幅器ユニットＰＡ４、第５増幅器ユニットＰＡ５、および第３電源ユニットＤ３の外側には、これらをメンテナンスするための作業スペース７０が確保されている。
【００２６】
本実施の形態において、配電盤５０の前には、第４電源ユニットＤ４および第５電源ユニットＤ５が配置される。この第４電源ユニットＤ４および第５電源ユニットＤ５は、配電盤５０の作業面、すなわち扉５１Ａおよび５１Ｂによって開閉される面に対して垂直な方向に移動可能である。第４電源ユニットＤ４および第５電源ユニットＤ５を配電盤５０の作業面から最も遠ざけた際に配電盤５０の前に確保される作業スペースＳＰの幅は、上述のように、少なくとも１ｍである。この結果、図４に示すように、レーザ装置１の停止またはメンテナンス中は、配電盤５０の前に幅１ｍの作業スペースＳＰを確保することが可能となる。
【００２７】
第４電源ユニットＤ４および第５電源ユニットＤ５の移動は、たとえば収容スペース１００の床に配電盤５０の作業面と垂直な方向へ延在する２本のレールＲ１および不図示のキャスタによって実現される。第４電源ユニットＤ４の第５電源ユニットＤ５側の面のカバーまたは第５電源ユニットＤ５の第４電源ユニットＤ４側の面のカバーを開けてユニット内部の部品等をメンテナンスする際は、図５Ａに示すように、第４電源ユニットＤ４をレールＲ１に沿って配電盤５０側へスライドさせる。これにより、第４電源ユニットＤ４と第５電源ユニットＤ５との間に作業スペース７１が確保される。また、第５電源ユニットＤ５のＯＳＣユニット１０側の面のカバーまたはＯＳＣユニット１０、第３増幅器ユニットＰＡ３およびＯＳＣ電源Ｄ１（以下、ＯＳＣユニット１０等という）の第５電源ユニットＤ５側の面のカバーを開けてユニット内部の部品等をメンテナンスする際は、図５Ｂに示すように、第４電源ユニットＤ４および第５電源ユニットＤ５をレールＲ１に沿って配電盤５０側へスライドさせる。これにより、第５電源ユニットＤ５とＯＳＣユニット１０等との間に作業スペース７２が確保される。
【００２８】
同様に、第３電源ユニットＤ３にもこれをスライドさせるためのレールＲ２を床に設けてもよい。これにより、図５Ａおよび図５Ｂから明らかなように、第３電源ユニットＤ３の周囲にメンテナンス用の作業スペース７３および７４を確保することが可能となる。
【００２９】
図４〜図５Ｂに示す例では、第３〜第５電源ユニットＤ３〜Ｄ５が移動可能である場合を例に挙げた。しかし、本開示はこれに限定されない。たとえば図６に示すように、縦積みされた第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５が、たとえば第４電源ユニットＤ４と同様のレールＲ３１およびＲ３２ならびに不図示のキャスタを用いた構成によって移動可能なように構成されてもよい。これにより、第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５と光学ユニット３０との間に、必要に応じて作業スペース７５を確保することが可能となる。なお、図６は、本実施の形態による収容スペース内に収容されたレーザ装置の他のレイアウト例を上から見た図である。
【００３０】
また、たとえば図７に示すように、縦積みされたＯＳＣユニット１０、第３増幅器ユニットＰＡ３およびＯＳＣ電源Ｄ１、ならびに光学ユニット３０が、たとえば第４電源ユニットＤ４と同様のレールＲ４１およびＲ４２ならびに不図示のキャスタ、ならびに、レールＲ４３およびＲ４４ならびに不図示のキャスタを用いた構成によってそれぞれ移動可能なように構成されてもよい。これにより、ＯＳＣユニット１０、第３増幅器ユニットＰＡ３およびＯＳＣ電源Ｄ１が収容スペース１００の壁に近接して配置された場合でも、必要に応じて各ユニットと壁との間に作業スペースを確保することができるようになる。同様に、光学ユニット３０が収容スペース１００の壁に近接して配置された場合でも、必要に応じて光学ユニット３０と壁との間に作業スペースを確保することができるようになる。結果として、より狭いスペースにレーザ装置１を収容することが可能となる。なお、図７は、本実施の形態による収容スペース内に収容されたレーザ装置の他のレイアウト例を上から見た図である。
【００３１】
さらに、たとえば図８Ａおよび図８Ｂに示すように、収容スペース１００に収容された各ユニット（以下の例では縦積みされた第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５）は、クロスするレールＲ３１およびＲ３２とレールＲ３３およびＲ３４とからなる２次元移動機構によって、２次元的に移動可能なように構成されてもよい。なお、図８Ａは、本実施の形態による収容スペース内に収容されたレーザ装置の他のレイアウト例を上から見た図である（その１）。図８Ｂは、本実施の形態による収容スペース内に収容されたレーザ装置の他のレイアウト例を上から見た図である（その２）。
【００３２】
図８Ａおよび図８Ｂに示すように、レールＲ３３およびＲ３４には、たとえばキャスタが設けられる。レールＲ３３およびＲ３４は、このキャスタがレールＲ３１およびＲ３２上に置かれることにより、レールＲ３１およびＲ３２に沿って（図面中、上下方向）移動可能となる。また、第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５は、同じくキャスタを備える。このキャスタがレールＲ３３およびＲ３４上に配置されることで、第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５がレールＲ３３およびＲ３４に沿って（図面中、左右方向）移動可能となる。
【００３３】
このような構成を備えることで、各ユニットが収容スペース１００の壁に近接して配置された場合でも、必要に応じて各ユニットと壁との間に作業スペースを確保することが可能となる。
【００３４】
ここで図９Ａおよび図９Ｂを用いて、本実施の形態による第４電源ユニットＤ４および第５電源ユニットＤ５のレールＲ１を用いた移動機構を詳細に説明する。図９Ａは、本実施の形態による第４および第５電源ユニットならびに移動機構をこれらの移動方向から見た側面図である。図９Ｂは、本実施の形態による第４および第５電源ユニットならびに移動機構をこれらの移動方向と垂直な方向から見た側面図である。なお、第５電源ユニットＤ５の移動機構は、第４電源ユニットＤ４の移動機構と同様であるため、図９Ａでは、第４電源ユニットＤ４に着目する。また、図９Ｂは、第４電源ユニットＤ４を配電盤５０側へスライドさせ、第５電源ユニットＤ５をＯＳＣユニット１０等側へスライドさせた状態を示す。さらに、第３電源ユニットＤ３のレールＲ２を用いた移動機構は、第４電源ユニットＤ４および第５電源ユニットＤ５と同様であるため、ここでは詳細な説明を省略する。
【００３５】
図９Ａおよび図９Ｂに示すように、第４電源ユニットＤ４の底面のたとえば四隅には、回転可能なキャスタＣ１が設けられている。各キャスタＣ１は、レールＲ１の溝に嵌まった状態で回転する。これにより、キャスタＣ１に支えられた第４電源ユニットＤ４がレールＲ１に沿って移動する。同様に、第５電源ユニットＤ５の底面のたとえば四隅にも、回転可能なキャスタＣ１が設けられている。これにより、第５電源ユニットＤ５は、キャスタＣ１に支えられた状態でレールＲ１に沿って移動する。たとえば、稼働時の状態（図４参照）から第４電源ユニットＤ４のみを配電盤５０側へスライドさせた場合、図９Ｂに示すように、第４電源ユニットＤ４と第５電源ユニットＤ５との間には、作業スペース７１が確保される。
【００３６】
第４電源ユニットＤ４の底部には、Ｌ字金具Ａ１が固定されている。また、稼働時に第４電源ユニットＤ４を配置する位置の床面には、Ｌ字金具Ａ１と当接するストッパＡ２が固定されている。ストッパＡ２は、たとえば金属製であり、位置決め部として機能する。第４電源ユニットＤ４をレールＲ１に沿ってＯＳＣユニット１０等側へスライドさせてゆくと、稼働時に第４電源ユニットＤ４を配置する位置に到達した時点でＬ字金具Ａ１とストッパＡ２とが当接する。これにより、第４電源ユニットＤ４が所定の位置に位置決めされる。同様に、第５電源ユニットＤ５の底部には、Ｌ字金具Ａ１が固定されている。加えて、稼働時に第５電源ユニットＤ５を配置する位置の床面には、第５電源ユニットＤ５のＬ字金具Ａ１と当接するストッパＡ２が固定されている。第５電源ユニットＤ５をレールＲ１に沿ってＯＳＣユニット１０等側へスライドさせてゆくと、稼働時に第５電源ユニットＤ５を配置する位置に到達した時点でＬ字金具Ａ１とストッパＡ２とが当接する。これにより、第５電源ユニットＤ５が所定の位置に位置決めされる。
【００３７】
Ｌ字金具Ａ１とストッパＡ２とには、それぞれが当接した際に連通する貫通孔が設けられている。この貫通孔は、Ｌ字金具Ａ１とストッパＡ２とを当接した状態に固定する固定具Ａ３を嵌装するための貫通孔である。固定具Ａ３には、たとえばボルトＡ３１、ワッシャＡ３２およびナットＡ３３などの一般的な部品を用いることが可能である。ユニット底面に固定されたＬ字金具Ａ１と床面に固定されたストッパＡ２とを固定具Ａ３によって固定することで、第４電源ユニットＤ４および第５電源ユニットＤ５をそれぞれ所定の位置に固定することが可能である。この結果、たとえば稼働時に第４電源ユニットＤ４や第５電源ユニットＤ５が移動してしまうという不具合を低減することが可能となる。また、地震やその他の要因によって第４電源ユニットＤ４や第５電源ユニットＤ５が振動してしまうという不具合の発生も低減できる。すなわち、Ｌ字金具Ａ１とストッパＡ２と固定具Ａ３とは、第４電源ユニットＤ４および第５電源ユニットＤ５の位置決め用金具の他、耐震用の固定金具としても機能する。第４電源ユニットＤ４および第５電源ユニットＤ５をより確実に固定するために、図９Ｂに示すように、キャスタＣ１がレールＲ１上を移動しないようにタイヤ止めＡ４を配置してもよい。
【００３８】
また、図１０に示すように、第４電源ユニットＤ４および第５電源ユニットＤ５は、レールＲ１に設けた窪みによってもその位置を位置決めすることが可能である。図１０は、本実施の形態の変形例による第４および第５電源ユニットならびに移動機構を示す。ただし、図１０は、第４および第５電源ユニットを移動方向と垂直な方向から見た側面図である。なお、図１０では、説明の簡略化のため、第５電源ユニットＤ５およびこれを位置決めするための構成については省略する。図１０に示すように、本変形例では、第４電源ユニットＤ４の複数のキャスタＣ１のうち配電盤５０側またはＯＳＣユニット１０等側のキャスタＣ１１の軸受けが他方のキャスタＣ１の軸受けよりも長い。ここで、軸受けとは、キャスタにおけるホイールの回転軸を支持する部材である。また、レールＲ１において、配電盤５０側に第４電源ユニットＤ４を位置決めする箇所に、Ｖ字状または凹型の溝Ｒ１ａが設けられている。同様に、ＯＳＣユニット１０等側に第４電源ユニットＤ４を位置決めする箇所に、Ｖ字状または凹型の溝Ｒ１ａが設けられている。キャスタＣ１１の軸受けは、キャスタＣ１の軸受けよりも、溝Ｒ１ａの深さ分だけ長い。したがって、軸受けの長いキャスタＣ１１が溝Ｒ１ａに嵌まると、第４電源ユニットＤ４が水平を維持しつつ位置決めされる。
【００３９】
第４電源ユニットＤ４および第５電源ユニットＤ５は、それぞれの移動を補助するための移動補助機構を備えてもよい。ここで、図１１〜図１３を用いて、本実施の形態による移動補助機構の構成例を詳細に説明する。図１１は、本実施の形態による移動補助機構の第１の構成例を示す側面図である。図１２は、本実施の形態による移動補助機構の第２の構成例を示す側面図である。図１３は、本実施の形態による移動補助機構の第３の構成例を示す側面図である。
【００４０】
図１１に示すように、本実施の形態による移動補助機構の第１の構成例では、第４電源ユニットＤ４が手動にて自走可能なように構成されている。具体的には、第１の構成例による移動補助機構は、第４電源ユニットＤ４の側面に設けられたディスクＣ１３およびハンドルＣ１４と、第４電源ユニットＤ４の少なくとも１つのキャスタＣ１に設けられたローラＣ１６ａとを備える。ディスクＣ１３は、たとえば、第４電源ユニットＤ４の側面であってレールＲ１の延在方向と垂直な軸に対して回転可能に設けられる。ハンドルＣ１４は、ディスクＣ１３を手動にて回転させるための構成であり、ディスクＣ１３に固定されている。ローラＣ１６ａは、キャスタＣ１におけるタイヤＣ１２ａの回転軸に固定される。ディスクＣ１３およびローラＣ１６ａには、ベルトＣ１５が掛架される。ハンドルＣ１４によってディスクＣ１３に与えられた回転力は、ベルトＣ１５によってローラＣ１６ａへ伝達される。この結果、第４電源ユニットＤ４が自走する。また、タイヤＣ１２ａに生じた回転力は、これと同一レールＲ１上に置かれるキャスタＣ１のタイヤＣ１２ｂに伝達されてもよい。この場合、タイヤＣ１２ｂの回転軸にローラＣ１６ｂが固定されると共に、ローラＣ１６ａおよびＣ１６ｂにベルトＣ１２が掛架される。
【００４１】
また、図１２に示すように、本実施の形態による移動補助機構の第２の構成例は、図１１に示す第１の構成例と同様の構成を備える。ただし、第１の構成例におけるレールＲ１が、上面に規則的な凹凸を備えたスライドギアレールＲ１１に置き換えられる。加えて、各キャスタＣ１のタイヤＣ１２ａおよびＣ１２ｂがスライドギアレールＲ１１の凹凸と噛み合うギアＣ２２ａおよびＣ２２ｂにそれぞれ置き換えられる。この構成により、第１の構成例と同様に、ハンドルＣ１４を手動にて回転させることで生じた回転力がベルトＣ１５を介してギアＣ２２ａに伝達される。この結果、第４電源ユニットＤ４が自走する。なお、ギアＣ２２ａおよびＣ２２ｂならびにスライドギアレールＲ１１は、第４電源ユニットＤ４における片側のみに設けられてもよい。
【００４２】
さらに、図１３に示すように、本実施の形態による移動補助機構の第３の構成例では、ディスクＣ１３およびハンドルＣ１４が、たとえば、第４電源ユニットＤ４の側面であってレールＲ１の延在方向と平行な軸に対して回転可能に設けられる。また、レールＲ１がスライドギアレールＲ１１に置き換えられる。さらに、第４電源ユニットＤ４の底面に、同一のスライドギアレールＲ１１上に置かれる１つ以上のキャスタＣ１の代わりに、回転軸がスライドギアレールＲ１１と平行なスクリューギアＣ３３が設けられる。このスクリューギアＣ３３の回転軸Ｃ３１は、第４電源ユニットＤ４の底面に設けられた軸受けＣ３２ａおよびＣ３２ｂによって回転可能に支持される。この構成により、第１および第２の構成例と同様に、ハンドルＣ１４を手動にて回転させることで生じた回転力がベルトＣ１５を介してスクリューギアＣ３３に伝達される。この結果、第４電源ユニットＤ４が自走する。なお、スクリューギアＣ３３およびスライドギアレールＲ１１は、第４電源ユニットＤ４における片側のみに設けられてもよい。
【００４３】
つづいて、本実施の形態による光学ユニット３０について図面を用いて詳細に説明する。図１４Ａは、本実施の形態による光学ユニットを床面に固定した場合の構成例を示す上視図である。図１４Ｂは、本実施の形態による光学ユニットを床面に固定した場合の構成例を示す側視図（その１）である。図１４Ｃは、本実施の形態による光学ユニットを床面に固定した場合の構成例を示す側視図（その２）である。
【００４４】
図１４Ａ〜図１４Ｃに示すように、光学ユニット３０は、収容スペース１００（たとえば図３参照）の床面に設置される。この際、光学ユニット３０を支える支持部材には、それぞれ高さを調節することが可能なレベルアジャスタ３０１を用いるとよい。これにより、光学ユニット３０を水平に調整して支持することが可能となる。また、光学ユニット３０は、上述したＬ字金具Ａ１、ストッパＡ２および固定具Ａ３よりなる耐震固定金具と同様の耐震固定金具３０２を用いて床面に固定されるとよい。
【００４５】
光学ユニット３０は、収容スペース１００の床面の他、図１５に示すように、たとえば、ＯＳＣユニット１０等にボルト３１１を用いて固定されてもよい。または、図１６に示すように、光学ユニット３０は、たとえば第４および第５増幅器ユニットＰＡ４およびＰＡ５にボルト３１１を用いて固定されてもよい。この際、第４および第５増幅器ユニットＰＡ４およびＰＡ５は、フレーム４００によって上下に縦積みされていてもよい。図１５は、本実施の形態による光学ユニットをＯＳＣユニット等に固定した場合の構成例を示す側視図である。図１６は、本実施の形態による光学ユニットを第４および第５増幅器ユニットに固定した場合の構成例を示す側視図である。
【００４６】
つづいて、本実施の形態による光学ユニット３０の構成について、図面を用いて詳細に説明する。図１７Ａおよび図１７Ｂは、本実施の形態による光学ユニットの概略構成を示す外観図である。また、図１８Ａは、本実施の形態による光学ユニットにおける第１リレー光学系の構成例を示す図である。図１８Ｂは、本実施の形態による光学ユニットにおける第２リレー光学系の構成例を示す図である。図１８Ｃは、本実施の形態による光学ユニットにおける第３リレー光学系の構成例を示す図である。
【００４７】
図１７Ａおよび図１７Ｂに示すように、光学ユニット３０は、第１リレー光学系３０−１と、第２リレー光学系３０−２と、第３リレー光学系３０−３と、を備える。第１リレー光学系３０−１は、第３増幅器ユニットＰＡ３から出力されたレーザ光を第４増幅器ユニットＰＡ４へ導く。第２リレー光学系３０−２は、第４増幅器ユニットＰＡ４から出力されたレーザ光を第５増幅器ユニットＰＡ５へ導く。第３リレー光学系３０−３は、第５増幅器ユニットＰＡ５から出力されたレーザ光を不図示のチャンバへ導く。
【００４８】
図１８Ａに示すように、第１リレー光学系３０−１は、たとえば、入射ウィンドウＷ１と、軸外放物面ミラーＭ１と、を備える。入射ウィンドウＷ１は、第３増幅器ユニットＰＡ３から出射したレーザ光を光学系内部に導入する。軸外放物面ミラーＭ１は、入射ウィンドウＷ１から入射したレーザ光を平行光化すると共に、平行光化されたレーザ光を第４増幅器ユニットＰＡ４へ向けて反射する。
【００４９】
軸外放物面ミラーＭ１は、補償光学素子（Ａｄａｐｔｉｖｅ Ｏｐｔｉｃｓ：ＡＯ）に置き換えることもできる。軸外放物面ミラーＭ１で反射されたレーザ光は、第４増幅器ユニットＰＡ４の入射ウィンドウＷ４１（図２６参照）を介して第４増幅器ユニットＰＡ４に入射する。補償光学素子には、たとえば、焦点距離を自由に調整できるデフォーマブルミラー等がある。デフォーマブルミラーは、たとえば、トロイダル形状や球面形状の鏡面の形状を変化させることで、焦点距離を所望の焦点距離に調節することができる。
【００５０】
図１８Ｂに示すように、第２リレー光学系３０−２は、たとえば、平面ミラーＭ２と、軸外放物面ミラーＭ３と、を備える。平面ミラーＭ２は、第４増幅器ユニットＰＡ４の出射ウィンドウＷ４２（図２６参照）から出射したレーザ光を反射する。軸外放物面ミラーＭ３は、平面ミラーＭ２で反射されたレーザ光を平行光化すると共に第４増幅器ユニットＰＡ４の上段に配置された第５増幅器ユニットＰＡ５へ向けて反射する。この軸外放物面ミラーＭ３は、補償光学素子（ＡＯ）に置き換えることもできる。軸外放物面ミラーＭ３で反射されたレーザ光は、第５増幅器ユニットＰＡ５の入射ウィンドウＷ５１（図２６参照）を介して第５増幅器ユニットＰＡ５に入射する。
【００５１】
図１８Ｃに示すように、第３リレー光学系３０−３は、たとえば、軸外放物面ミラーＭ４を備える。軸外放物面ミラーＭ４は、第５増幅器ユニットＰＡ５の出射ウィンドウＷ５２（図２６参照）から出射したレーザ光を平行光化すると共に、平行光化されたレーザ光を不図示のチャンバへ向けて反射する。この軸外放物面ミラーＭ４は、平面ミラーに置き換えることもできる。軸外放物面ミラーＭ４で反射されたレーザ光は、その後、チャンバ内におけるターゲット物質が到達または通過するプラズマ生成領域に集光される。なお、プラズマ生成領域とは、ターゲット物質にレーザ光を照射する位置周囲を含む空間である。ＥＵＶ光の放射源であるプラズマは、このプラズマ生成領域で生成される。
【００５２】
本実施の形態による光学ユニット３０は、図１９および図２０に示すようにも構成することが可能である。図１９は、本実施の形態による光学ユニットの他の概略構成を示す外観図である。図２０は、本実施の形態による光学ユニットにおける第２リレー光学系の他の構成例を示す図である。図１９に示すように、光学ユニット３０の他の構成例では、第２リレー光学系３０−２が第２リレー光学系３０−１２に置き換えられている。第２リレー光学系３０−１２は、たとえば、平面ミラーＭ１１およびＭ１２と、球面ミラーＭ１３と、平面ミラーＭ１４およびＭ１５と、を備える。平面ミラーＭ１１およびＭ１２は、第４増幅器ユニットＰＡ４の出射ウィンドウＷ４２から出射したレーザ光を反射する。球面ミラーＭ１３は、平面ミラーＭ１２で反射されたレーザ光を平行光化しつつ反射する。平面ミラーＭ１４およびＭ１５は、球面ミラーＭ１３で反射されたレーザ光を第５増幅器ユニットＰＡ５へ導く。球面ミラーＭ１３は、補償光学素子（ＡＯ）に置き換えることが可能である。また、第１リレー光学系３０−１における軸外放物面ミラーＭ１は、平面ミラーに置き換えられてもよい。さらに、第３リレー光学系３０−３における軸外放物面ミラーＭ４を平面ミラーに置き換えることもできる。
【００５３】
また、本実施の形態による光学ユニット３０は、図２１および図２２に示すようにも構成することが可能である。図２１は、本実施の形態による光学ユニットの他の概略構成を示す外観図である。図２２は、本実施の形態による光学ユニットにおける第１リレー光学系の他の構成例を示す図である。図２１に示すように、光学ユニット３０の他の構成例では、第１リレー光学系３０−１が第１リレー光学系３０−２１に置き換えられている。第１リレー光学系３０−２１は、たとえば、平面ミラーＭ２１と、球面ミラーＭ２２と、平面ミラーＭ２３と、を備える。平面ミラーＭ２１は、入射ウィンドウＷ１から入射した第３増幅器ユニットＰＡ３からのレーザ光を反射する。球面ミラーＭ２２は、平面ミラーＭ２１で反射されたレーザ光を平行光化しつつ反射する。平面ミラーＭ２３は、球面ミラーＭ２２で反射されたレーザ光を第４増幅器ユニットＰＡ４へ向けて反射する。球面ミラーＭ２２は、補償光学素子（ＡＯ）に置き換えることも可能である。また、第２リレー光学系には、図２０に示した第２リレー光学系３０−１２を用いることができる。この場合、平面ミラーＭ１１に代えて補償光学素子（ＡＯ）を用いてもよい。
【００５４】
さらに、本実施の形態による光学ユニット３０は、図２３および図２４に示すようにも構成することが可能である。図２３は、本実施の形態による光学ユニットの他の概略構成を示す外観図である。図２４は、本実施の形態による光学ユニットにおける第３リレー光学系の他の構成例を示す図である。図２３に示すように、光学ユニット３０の他の構成例では、第３リレー光学系３０−３が第３リレー光学系３０−３３に置き換えられている。第３リレー光学系３０−３３は、たとえば、平面ミラーＭ３１、Ｍ３２およびＭ３３を備える。平面ミラーＭ３１、Ｍ３２およびＭ３３は、第５増幅器ユニットＰＡ５の出射ウィンドウＷ５２から出射したレーザ光をチャンバへ導く。
【００５５】
また、本実施の形態による光学ユニット３０は、第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５から出力されたレーザ光の光強度をモニタリングするように構成してもよい。この場合、モニタリング対象の第４増幅器ユニットＰＡ４から出力されたレーザ光を反射するミラー（平面ミラーＭ２、Ｍ１１に相当）がビームスプリッタに置き換えられる。同様に、第５増幅器ユニットＰＡ５から出力されたレーザ光を反射するミラー（軸外放物面ミラーＭ４、平面ミラーＭ３１に相当）がビームスプリッタに置き換えられる。ここで図２５に、本実施の形態における第４増幅器ユニットおよび第５増幅器ユニットからの出力をモニタリングする構成の一例を示す。
【００５６】
図２５に示すように、第４増幅器ユニットおよび第５増幅器ユニットからの出力をモニタリングする構成は、平面ミラーＭ４１、補償光学素子（ＡＯ）Ｍ４２および平面ミラーＭ４３よりなる第１リレー光学系３０−４１を含む。第１リレー光学系３０−４１は、第３増幅器ユニットＰＡ３から出力されたレーザ光を第４増幅器ユニットＰＡ４へ導く。
【００５７】
加えて、図２５のモニタリング構成は、たとえば、ビームスプリッタＭ４４、補償光学素子（ＡＯ）Ｍ４５および平面ミラーＭ４６よりなる第２リレー光学系３０−４２を含む。ビームスプリッタＭ４４は、第４増幅器ユニットＰＡ４から出射したレーザ光の一部を透過させつつ残りを反射する。補償光学素子（ＡＯ）は、ビームスプリッタＭ４４で反射されたレーザ光を第５増幅器ユニットＰＡ５へ導く。
【００５８】
また、図２５のモニタリング構成は、たとえば、ビームスプリッタＭ４７よりなる第３リレー光学系３０−４３を含む。ビームスプリッタＭ４７は、第５増幅器ユニットＰＡ５から出射したレーザ光の一部を透過させつつ残りをチャンバへ向けて反射する。
【００５９】
さらに、図２５のモニタリング構成は、たとえば、モニタボックスＢ１と、モニタボックスＢ２とを含む。モニタボックスＢ１は、第２リレー光学系３０−４２のビームスプリッタＭ４４を透過したレーザ光をモニタリングする。モニタボックスＢ２は、第３リレー光学系３０−４３のビームスプリッタＭ４７を透過したレーザ光をモニタリングする。
【００６０】
第２リレー光学系３０−４２のビームスプリッタＭ４４を透過したレーザ光の一部は、モニタボックスＢ１の入力段に設けられたビームスプリッタＢ１１を透過した後、出力モニタＢ１２に入射する。出力モニタＢ１２は、入射したレーザ光の強度を測定する。これにより、出力モニタＢ１２は、第４増幅器ユニットＰＡ４から出力されたレーザ光の強度（エネルギー）および第４増幅器ユニットＰＡ４による増幅率等を検出する。また、ビームスプリッタＢ１１で反射されたレーザ光は、ビームプロファイラＢ１３に入射する。ビームプロファイラＢ１３は、入射したレーザ光のビーム形状や強度分布等を測定する。これにより、ビームプロファイラＢ１３は、第４増幅器ユニットＰＡ４から出力されたレーザ光のプロファイルを測定する。
【００６１】
同様に、第３リレー光学系３０−４３のビームスプリッタＭ４７を透過したレーザ光の一部は、モニタボックスＢ２の入力段に設けられたビームスプリッタＢ２１を透過した後、出力モニタＢ２２に入射する。これにより、出力モニタＢ２２によって、第５増幅器ユニットＰＡ５から出力されたレーザ光の強度（エネルギー）および第５増幅器ユニットＰＡ５による増幅率等が検出される。また、ビームスプリッタＢ２１で反射されたレーザ光は、ビームプロファイラＢ２３に入射する。これにより、ビームプロファイラＢ２３によって、第５増幅器ユニットＰＡ５から出力されたレーザ光のプロファイルが測定される。
【００６２】
つぎに、本実施の形態による第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５について、図面を用いて詳細に説明する。図２６は、本実施の形態による第４増幅器ユニットまたは第５増幅器ユニットの外観構成を示す斜視図である。図２６に示すように、第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５の外観は、たとえば、略立方体の形状である。第４増幅器ユニットＰＡ４の側面の１つには、増幅対象のレーザ光が入射する入射ウィンドウＷ４１と、増幅後のレーザ光が出射する出射ウィンドウＷ４２とが設けられている。同様に、第５増幅器ユニットＰＡ５の側面の１つには、増幅対象のレーザ光が入射する入射ウィンドウＷ５１と、増幅後のレーザ光が出射する出射ウィンドウＷ５２とが設けられている。
【００６３】
つづいて、本実施の形態による第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５の内部構成について、図面を参照に詳細に説明する。ただし、第５増幅器ユニットＰＡ５の内部構成は、第４増幅器ユニットＰＡ４の内部構成と同様であるため、ここでは第４増幅器ユニットＰＡ４について説明する。図２７は、本実施の形態による第４増幅器ユニットの内部概略構成を示す側視図である。図２８は、図２７に示す第４増幅器ユニットの分解図である。図２９は、図２７に示す第４増幅器ユニットの上段に位置するガス流路の概略構成を示す上視図である。図３０は、図２７に示す第４増幅器ユニットの中段に位置する増幅光路の概略構成を示す上視図である。
【００６４】
図２７〜図３０に示すように、第４増幅器ユニットＰＡ４は、上下に配置された２つのガス流路７２ａおよび７２ｂと、２つのガス流路７２ａおよび７２ｂの間に配置された共振器フレーム７７と、を含む。
【００６５】
図２９に示すように、下段のガス流路７２ｂは、４つの第１ガス流路７２ｘと、４つの第２ガス流路７２ｙと、を備える。４つの第１ガス流路７２ｘは、たとえば十字状に配置されている。また、４つの第２ガス流路７２ｙは、第１ガス流路７２ｘに対して４５°傾いた×字状に配置されている。各ガス流路７２ｘおよび７２ｙは、たとえば断面が四角形または円形（楕円を含む）である中空のパイプより構成される。各ガス流路７２ｘおよび７２ｙの内部には、増幅媒体としてのＣＯ２混合ガスが充填される。各ガス流路７２ｘおよび７２ｙが集合する中心の下部には、第１ガス流路７２ｘ中のＣＯ２混合ガスを第２流路７２ｙへ循環させる循環ポンプ７１ｂが設けられてもよい。
【００６６】
図２７および図２８に示すように、循環ポンプ７１ｂによって第２ガス流路７２ｙに送り込まれたＣＯ２混合ガスは、第２ガス流路７２ｂの端部に接続された縦配管７５ｂを介して、中段（図２８（ｂ）参照）における下段側の増幅光路７４ｂへ流入する。増幅光路７４ｂは、円筒状の配管の組立体である。図３０に示すように、この増幅光路７４ｂは、四角形または長方形の共振器フレーム７７の外周に配置される。増幅光路７４ｂは、たとえばアルミブロック７６Ａおよび７６Ｂによって共振器フレーム７７に固定される。図２８〜図３０に示すように、この増幅光路７４ｂ内に送り込まれたＣＯ２混合ガスは、増幅光路７４ｂを各辺の中央付近で分岐する縦配管７３ｂを介して第１ガス流路７２ｘへ流入し、その後、循環ポンプ７１ｂによって再び第２ガス流路７２ｙへ送り出される。
【００６７】
また、図３０に示すように、下段側の増幅光路７４ｂ内を、入射ウィンドウＷ４１から入射したレーザ光が通過する。そこで、増幅光路７４ｂの各コーナを共振器フレーム７７に固定するアルミブロック７６Ａ内には、レーザ光のビーム軸を増幅光路７４ｂに沿って９０°屈折させる平面ミラーが設けられる。入射ウィンドウＷ４１から入射後、増幅光路７４ｂ内をたとえば反時計回りに一周したレーザ光は、入射ウィンドウＷ４１を備えるアルミブロック７６Ａに設けられたリターンミラー７８で反射されることで、上段側の増幅光路７４ａへ導かれる。これにより、下段で増幅されたレーザ光が上段の増幅光路７４ａ内に入射する。
【００６８】
増幅光路７４ａ内には、上段のガス流路７２ａから送り込まれたＣＯ２混合ガスが充填されている。なお、ガス流路７２ａ、縦配管７３ａおよび７５ａならびに増幅光路７４ａが形成する流路におけるＣＯ２混合ガスの循環は、上述したガス流路７２ｂ、縦配管７３ｂおよび７５ｂならびに増幅光路７４ｂが形成する流路におけるＣＯ２混合ガスの循環と同様であるため、ここでは説明を省略する。
【００６９】
下段側の増幅光路７４ｂから上段側の増幅光路７４ａ内に入射したレーザ光は、この増幅光路７４ａ内を通過する。そこで、増幅光路７４ａの各コーナを共振器フレーム７７に固定するアルミブロック７６Ａ内には、レーザ光のビーム軸を増幅光路７４ａに沿って９０°屈折させる平面ミラーが設けられる。増幅光路７４ａ内をたとえば時計回りに一周したレーザ光は、その後、入射ウィンドウＷ４１を備えるアルミブロック７６Ａに設けられた出射ウィンドウＷ４２より外部（光学ユニット３０）へ出射する。
【００７０】
以上のような構成を備えた第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５は、それぞれ２つの循環ポンプ７１ａおよび７１ｂを備える。このため、第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５は、共振器の振動を防止するための構成を備えるとよい。図３１Ａ〜図３１Ｃは、本実施の形態による増幅器内部の振動防止機構の一例を示す模式図である。なお、第５増幅器ユニットＰＡ５の振動防止機構の構成は、第４増幅器ユニットＰＡ４の内部構成と同様であるため、ここでは第４増幅器ユニットＰＡ４について説明する。
【００７１】
図３１Ａ〜図３１Ｃに示すように、第４増幅器ユニットＰＡ４の内部構成は、外部筐体の底部であるメインアンプフレーム８０上に載置される。メインアンプフレーム８０の下面には、たとえば複数のダンパ８３が設けられる。内部構成における下段のガス流路７２ｂは、振動吸収部であるダンパ８１ｂを介してメインアンプフレーム８０上に置かれる。上段のガス流路７２ａは、振動吸収部である支持部材８１ａによって下段のガス流路７２ｂに対して支持される。ガス流路７２ｂ，７２ａからの振動がアルミブロック７６Ａ、７６Ｂに伝達しないように、接続される縦配管７３ｂ，７５ｂ，７３ａ，７５ａは、ベローズ配管で構成されている。
【００７２】
一方、共振器フレーム７７は、振動吸収部であるダンパ機構８２によってメインアンプフレーム８０に対して支持される。図３１Ｃに示すように、ダンパ機構８２は、迂回部８２ａを含む支持部と、ダンパ８２ｂとを含む。迂回部８２ａは、ガス流路７２ｂに接触せずに迂回する。ダンパ８２ｂは、メインアンプフレーム８０から伝達した振動が共振器フレーム７７へ入力されることを防止する。
【００７３】
このように、循環ポンプ７１ａおよび７１ｂを備えたガス流路７２ａおよび７２ｂと増幅光路７４ａおよび７４ｂが固定された共振器フレーム７７とを、個別の振動吸収機構によってそれぞれメインアンプフレーム８０に対して支持する。これにより、循環ポンプ７１ａおよび７１ｂで発生した振動によって共振器フレーム７７が振動することを効率的に低減できる。この結果、増幅器内部の光路を構成する光学素子に発生する振動を低減できる。
【００７４】
また、本実施の形態による第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５は、上述したように、占有床面積を縮小するために、上下に縦積みされる。この際、たとえば図３２に示すように、下段の第４増幅器ユニットＰＡ４に対して振動分離されたフレーム９０を用いて、第５増幅器ユニットＰＡ５を第４増幅器ユニットＰＡ４上に設置するとよい。図３２は、本実施の形態において２段に縦積みされた第４および第５増幅器ユニットの概略構成を示す斜視図である。また、図３３は、本実施の形態によるフレームの概略構成を示す斜視図である。図３４Ａ〜図３４Ｃは、図３３に示すフレームの外観図である。なお、図３４Ａは、フレーム９０の上面図であり、図３４Ｂは、フレーム９０の前面図であり、図３４Ｃは、フレーム９０の側面図である。図３２に示すように、第５増幅器ユニットＰＡ５を第４増幅器ユニットＰＡ４上に直接載置しない構成とすることで、第４増幅器ユニットＰＡ４と第５増幅器ユニットＰＡ５との間で伝達される振動を低減することが可能となる。
【００７５】
また、図３３および図３４に示すように、フレーム９０は、たとえば、梁９２ａおよび９２ｂと、桁９２ｃと、ガイド部材９２ｄと、スライダレール９１ａおよび９１ｂと、支柱９４と、すじかい９５とを備える。梁９２ａは、互いに離間した状態で支柱９４の下段に平行に２本並べられる。同様に、梁９２ｂは、互いに離間した状態で支柱９４の上段に平行に２本並べられる。２本の桁９２ｃは、下段の２本の梁９２ａの間隔および上段の２本の梁９２ｂの間隔をそれぞれ固定する。ガイド部材９２ｄは、第４増幅器ユニットＰＡ４または第５増幅器ユニットＰＡ５の底面から突出した循環ポンプ７１ｂを収容するポンプ収容部９３ａまたは９３ｂを形成する。スライダレール９１ａは、下段の２本の梁９２ａとそれぞれ平行に設けられる。スライダレール９１ｂは、上段の２本の梁９２ｂとそれぞれ平行に設けられる。４本の支柱９４およびすじかい９５は、下段の２本の梁９２ａに対して上段の２本の梁９２ｂを支持する。
【００７６】
下段の第４増幅器ユニットＰＡ４は、下段のスライダレール９１ａ上に載置される。これにより、第４増幅器ユニットＰＡ４がフレーム９０に対して容易に出し入れ可能となる。同様に、上段の第５増幅器ユニットＰＡ５は、上段のスライダレール９１ｂ上に載置され、これにより、第５増幅器ユニットＰＡ５がフレーム９０に対して容易に出し入れ可能となる。
【００７７】
図３５Ａ〜図３５Ｄに示すように、以上のようなフレーム９０を用いて縦積みされた第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５は、入射ウィンドウＷ４１およびＷ５１と出射ウィンドウＷ４２およびＷ５２とが光学ユニット３０に向くように配置される。この場合、第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５は、光学ユニット３０の対向面に対して垂直な方向（引出し方向ｄ１）へ引き出し可能である。なお、図３５Ａ〜図３５Ｄは、本実施の形態における光学ユニットと第４および第５増幅器ユニットとの接続を示す外観図である。図３５Ａは、その上視図である。図３５Ｂは、その正面図である。図３５Ｃは、その側面図である。図３５Ｄは、その背面図である。
【００７８】
また、図３６Ａおよび図３６Ｂに示すように、本実施の形態による第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５は、正対する光学ユニット３０の対向面に平行な方向（引出し方向ｄ２）へ引き出せるように構成されてもよい。なお、図３６Ａおよび図３６Ｂは、本実施の形態における光学ユニットと第４および第５増幅器ユニットとの他の接続を示す外観図である。図３６Ａは、その上視図である。図３６Ｂは、その側面図である。
【００７９】
また、本実施の形態では、増幅器を２段に積み上げた場合（第４増幅器ユニットＰＡ４および第５増幅器ユニットＰＡ５）を例に挙げた。しかし、たとえば図３７および図３８に示すように、下段のフレーム９０−１の上に上段のフレーム９０−２を積み重ねることで、３つの増幅器（第４〜第６増幅器ユニットＰＡ４〜ＰＡ６）を縦積みすることも可能である。さらに、４つ以上の増幅器を縦積みすることも可能である。なお、図３７は、本実施の形態において３つの増幅器を縦積みした場合の構成例を示す斜視図である。図３８は、本実施の形態において３つの増幅器を縦積みした場合の構成例を示す背面図である。図３７および図３８において、フレーム９０−１および９０−２は、それぞれフレーム９０と同様の構成を備える。
【００８０】
また、本実施の形態では、下段の第４増幅器ユニットＰＡ４と上段の第５増幅器ユニットＰＡ５とが一体のフレーム９０に載置される場合を例に挙げた。しかし、これに限定されない。たとえば、下段の第４増幅器ユニットＰＡ４が載置されるフレームを、上段の第５増幅器ユニットＰＡ５が載置されるフレームとは別体のフレームとしてもよい。この場合、第４増幅器ユニットＰＡ４が載置されるフレームは、たとえばフレーム９０における下段の梁９２ａ、桁９２ｃ、ガイド部材９２ｄおよびスライダレール９１ａによって構成される。一方、第５増幅器ユニットＰＡ５が載置されるフレームは、たとえばフレーム９０における下段の桁９２ｃの１つ、ガイド部材９２ｄおよびスライダレール９１ａが省略された構成となる。ただし、第４増幅器ユニットＰＡ４が載置されるフレームは、第５増幅器ユニットＰＡ５が載置されるフレームの内側に接触せずに収容できるように、一回り小さく構成されるとよい。
【００８１】
以上のように、本実施の形態によれば、少なくとも１つのユニットが移動可能な状態で収容スペース１００内に配置されるため、レーザ装置１を停止またはメンテナンス時の作業スペースを確保しつつ有限のスペース内に収めることが可能となる。さらに、このようなレーザ装置１を備えた極端紫外光生成装置を実現することが可能となる。
【００８２】
ここで図３９に、本実施の形態における装置停止時からのメンテナンス手順を示す。図３９に示すように、装置停止時からのメンテナンスでは、まず、配電盤５０の前に確保されている作業スペースＳＰに進入して、配電盤５０のブレーカを落とす（ステップＳ１０１）。つぎに、メンテナンス対象のユニット（たとえば第５電源ユニットＤ５）に対する作業スペースを確保するために、ユニット（たとえば第４電源ユニットＤ４）を移動させる（ステップＳ１０２）。このように、メンテナンス対象のユニットに対して作業スペースを確保し、つぎに、このユニットに対するメンテナンスを実行する（ステップＳ１０３）。その後、別のユニットをメンテナンスする必要があるか否かを確認し（ステップＳ１０４）、別のメンテナンス対象のユニットがある場合（ステップＳ１０４のＮＯ）、ステップＳ１０２に戻り、次のメンテナンス対象のユニットに対する作業を実行する（ステップＳ１０２〜Ｓ１０３）。また、別のユニットに対するメンテナンスが必要でなければ（ステップＳ１０４のＹＥＳ）、メンテナンスのために移動したユニットを稼働時の配置に戻し（ステップＳ１０６）、その後、配電盤５０のブレーカを上げて（ステップＳ１０６）、作業を終了する。
【００８３】
また、上記実施の形態およびその変形例は本開示を実施するための例にすぎず、本開示はこれらに限定されるものではなく、仕様等に応じて種々変形することは本開示の範囲内であり、更に本開示の範囲内において、他の様々な実施の形態が可能であることは上記記載から自明である。例えば各実施の形態に対して適宜例示した変形例は、他の実施の形態に対して適用することも可能であることは言うまでもない。
【符号の説明】
【００８４】
１ レーザ装置
１０ ＯＳＣユニット
１１ マスタオシレータ
３０−１、３０−２１、３０−４１ 第１リレー光学系
３０−２、３０−１２、３０−４２ 第２リレー光学系
３０−３、３０−３３、３０−４３ 第３リレー光学系
３０ 光学ユニット
３１〜３３ 高反射ミラー
５０ 配電盤
５１ キャビネット
５１Ａ、５１Ｂ 扉
５２ 配線
５３、５４ａ、５４ｃ、５６ａ、５６ｃ、５６ｄ ブレーカ
５４ｂ、５６ｂ トランス
５７ 配線
６０ ガス・冷却水分配器
７０、７１ 作業スペース
７１ａ、７１ｂ 循環ポンプ
７２ 作業スペース
７２ａ、７２ｂ ガス流路
７２ｘ 第１ガス流路
７２ｙ 第２ガス流路
７３、７４ 作業スペース
７３ａ、７３ｂ、７５ａ、７５ｂ 縦配管
７４ａ、７４ｂ 増幅光路
７５ 作業スペース
７６Ａ、７６Ｂ アルミブロック
７７ 共振器フレーム
７８ リターンミラー
８０ メインアンプフレーム
８１ａ 支持部材
８１ｂ、８２ｂ ダンパ
８２ ダンパ機構
８２ａ 迂回部
９０、９０−１、９０−２、９０Ａ フレーム
９１ａ、９１ｂ スライダレール
９２ａ、９２ｂ 梁
９２ｃ 桁
９２ｄ ガイド部材
９３ａ、９３ｂ ポンプ収容部
９４ 支柱
９５ すじかい
Ｄ１ ＯＳＣ電源
Ｄ３ 第３電源ユニット
Ｄ４ 第４電源ユニット
Ｄ５ 第５電源ユニット
ｄ１、ｄ２ 引出し方向
１００ 収容スペース
３０１ レベルアジャスタ
３０２ 耐震固定金具
３１１ ボルト
４００ フレーム
Ａ１ Ｌ字金具
Ａ２ ストッパ
Ａ３ 固定具
Ａ４ タイヤ止め
Ａ３１ ボルト
Ａ３２ ワッシャ
Ａ３３ ナット
ＡＧ１ ＣＯ２ガス増幅媒体
Ｂ１、Ｂ２ モニタボックス
Ｂ１１、Ｂ２１ ビームスプリッタ
Ｂ１２、Ｂ２２ 出力モニタ
Ｂ１３、Ｂ２３ ビームプロファイラ
Ｃ１、Ｃ１１ キャスタ
Ｃ１２ａ、Ｃ１２ｂ タイヤ
Ｃ１３ ディスク
Ｃ１４ ハンドル
Ｃ１５、Ｃ１７ ベルト
Ｃ１６ａ、Ｃ１６ｂ ローラ
Ｃ２２ａ、Ｃ２２ｂ ギア
Ｃ３１ 回転軸
Ｃ３２ａ、Ｃ３２ｂ 軸受け
Ｃ３３ スクリューギア
Ｌ１、Ｌ２ レーザ光
ＬＳ シード光
Ｍ１、Ｍ３、Ｍ４ 軸外放物面ミラー
Ｍ２、Ｍ１１、Ｍ１２、Ｍ１４、Ｍ１５、Ｍ２１、Ｍ２３、Ｍ３１、Ｍ３２、Ｍ３３、Ｍ４１、Ｍ４３ 平面ミラー
Ｍ１３、Ｍ２２ 球面ミラー
Ｍ４２、Ｍ４５ 補償光学素子
Ｍ４４、Ｍ４７ ビームスプリッタ
Ｍ４６ 平面ミラー
ＭＡ メインアンプ
ＰＡ プリアンプ
ＰＡ１ 第１増幅器
ＰＡ２ 第２増幅器
ＰＡ３ 第３増幅器ユニット
ＰＡ４ 第４増幅器ユニット
ＰＡ５ 第５増幅器ユニット
ＰＡ６ 第６増幅器ユニット
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４ レール
Ｒ１１ スライドギアレール
Ｒ１ａ 溝
ＳＰ 作業スペース
Ｗ１、Ｗ４１、Ｗ５１ 入射ウィンドウ
Ｗ４２、Ｗ５２ 出射ウィンドウ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定空間内に、かつ所定の床面積範囲内に配置されるレーザ装置であって、
マスタオシレータと、
前記マスタオシレータから出力されたレーザ光を増幅する、少なくとも１つの増幅器ユニットと、
前記少なくとも１つの増幅器ユニットのそれぞれに励起エネルギーを供給する少なくとも１つの電源ユニットと、
前記少なくとも１つ増幅器ユニットおよび前記少なくとも１つの電源ユニットの少なくともいずれか一方を床と略平行な方向へ移動可能にする移動機構と、
を備えるレーザ装置。
【請求項２】
前記所定空間内には、外部電力を前記少なくとも１つの電源ユニットへ配電する配電盤が設置され、
前記移動機構は、前記少なくとも１つの増幅器ユニットおよび前記少なくとも１つの電源ユニットの少なくともいずれか一方を前記配電盤に対して移動可能にする、
請求項１記載のレーザ装置。
【請求項３】
前記移動機構は、前記配電盤の前に配置される前記少なくとも１つの増幅器ユニットおよび前記少なくとも１つの電源ユニットの少なくともいずれか一方を、前記配電盤の前に所定幅の作業スペースを確保するように移動させることを可能にする、
請求項２記載のレーザ装置。
【請求項４】
前記移動機構は、
前記所定空間内の床面に設置される少なくとも１つのレールと、
前記少なくとも１つの増幅器ユニットおよび前記少なくとも１つの電源ユニットの少なくともいずれか一方の下面に設置され、前記少なくとも１つのレールと滑動可能に係合する少なくとも１つの部材と、
を含む、請求項１記載のレーザ装置。
【請求項５】
前記少なくとも１つの部材はキャスタである、請求項４記載のレーザ装置。
【請求項６】
前記少なくとも１つのレールはスライドギアレールであり、
前記少なくとも１つの部材はスライドギアである、
請求項４記載のレーザ装置。
【請求項７】
前記移動機構が移動可能にするユニットのメンテナンス時の位置と、非メンテナンス時の位置とをそれぞれ規定する位置決め部をさらに備える、請求項１記載のレーザ装置。
【請求項８】
前記移動機構は、前記ユニットの移動を補助する動力を発生させる移動補助機構を含む、請求項１記載のレーザ装置。
【請求項９】
前記少なくとも１つの増幅器ユニットは、ＣＯ２ガスを含む増幅媒体が充填された領域を含む、請求項１記載のレーザ装置。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの増幅器ユニットから出力されたレーザ光の光路を調整する光学ユニットをさらに備える請求項１記載のレーザ装置。
【請求項１１】
マスタオシレータ、前記マスタオシレータから出力されたレーザ光を増幅する少なくとも１つの増幅器ユニット、前記少なくとも１つの増幅器ユニットのそれぞれに励起エネルギーを供給する少なくとも１つの電源ユニット、外部電力を前記少なくとも１つの電源ユニットへ配電する配電盤、前記少なくとも１つ増幅器ユニット及び前記少なくとも１つの電源ユニットの少なくともいずれか一方を前記配電盤に対して移動可能にする移動機構、を含む、所定空間内に配置されるレーザ装置と、
前記所定空間外に配置され、その内部で極端紫外光の発生源となるターゲットに前記レーザ装置から出力されたレーザ光が照射されるチャンバと、
を備える極端紫外光生成装置。
【請求項１】
所定空間内に、かつ所定の床面積範囲内に配置されるレーザ装置であって、
マスタオシレータと、
前記マスタオシレータから出力されたレーザ光を増幅する、少なくとも１つの増幅器ユニットと、
前記少なくとも１つの増幅器ユニットのそれぞれに励起エネルギーを供給する少なくとも１つの電源ユニットと、
前記少なくとも１つ増幅器ユニットおよび前記少なくとも１つの電源ユニットの少なくともいずれか一方を床と略平行な方向へ移動可能にする移動機構と、
を備えるレーザ装置。
【請求項２】
前記所定空間内には、外部電力を前記少なくとも１つの電源ユニットへ配電する配電盤が設置され、
前記移動機構は、前記少なくとも１つの増幅器ユニットおよび前記少なくとも１つの電源ユニットの少なくともいずれか一方を前記配電盤に対して移動可能にする、
請求項１記載のレーザ装置。
【請求項３】
前記移動機構は、前記配電盤の前に配置される前記少なくとも１つの増幅器ユニットおよび前記少なくとも１つの電源ユニットの少なくともいずれか一方を、前記配電盤の前に所定幅の作業スペースを確保するように移動させることを可能にする、
請求項２記載のレーザ装置。
【請求項４】
前記移動機構は、
前記所定空間内の床面に設置される少なくとも１つのレールと、
前記少なくとも１つの増幅器ユニットおよび前記少なくとも１つの電源ユニットの少なくともいずれか一方の下面に設置され、前記少なくとも１つのレールと滑動可能に係合する少なくとも１つの部材と、
を含む、請求項１記載のレーザ装置。
【請求項５】
前記少なくとも１つの部材はキャスタである、請求項４記載のレーザ装置。
【請求項６】
前記少なくとも１つのレールはスライドギアレールであり、
前記少なくとも１つの部材はスライドギアである、
請求項４記載のレーザ装置。
【請求項７】
前記移動機構が移動可能にするユニットのメンテナンス時の位置と、非メンテナンス時の位置とをそれぞれ規定する位置決め部をさらに備える、請求項１記載のレーザ装置。
【請求項８】
前記移動機構は、前記ユニットの移動を補助する動力を発生させる移動補助機構を含む、請求項１記載のレーザ装置。
【請求項９】
前記少なくとも１つの増幅器ユニットは、ＣＯ２ガスを含む増幅媒体が充填された領域を含む、請求項１記載のレーザ装置。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの増幅器ユニットから出力されたレーザ光の光路を調整する光学ユニットをさらに備える請求項１記載のレーザ装置。
【請求項１１】
マスタオシレータ、前記マスタオシレータから出力されたレーザ光を増幅する少なくとも１つの増幅器ユニット、前記少なくとも１つの増幅器ユニットのそれぞれに励起エネルギーを供給する少なくとも１つの電源ユニット、外部電力を前記少なくとも１つの電源ユニットへ配電する配電盤、前記少なくとも１つ増幅器ユニット及び前記少なくとも１つの電源ユニットの少なくともいずれか一方を前記配電盤に対して移動可能にする移動機構、を含む、所定空間内に配置されるレーザ装置と、
前記所定空間外に配置され、その内部で極端紫外光の発生源となるターゲットに前記レーザ装置から出力されたレーザ光が照射されるチャンバと、
を備える極端紫外光生成装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５Ａ】
【図５Ｂ】
【図６】
【図７】
【図８Ａ】
【図８Ｂ】
【図９Ａ】
【図９Ｂ】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４Ａ】
【図１４Ｂ】
【図１４Ｃ】
【図１５】
【図１６】
【図１７Ａ】
【図１７Ｂ】
【図１８Ａ】
【図１８Ｂ】
【図１８Ｃ】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図２９】
【図３０】
【図３１Ａ】
【図３１Ｂ】
【図３１Ｃ】
【図３２】
【図３３】
【図３４Ａ】
【図３４Ｂ】
【図３４Ｃ】
【図３５Ａ】
【図３５Ｂ】
【図３５Ｃ】
【図３５Ｄ】
【図３６Ａ】
【図３６Ｂ】
【図３７】
【図３８】
【図３９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５Ａ】
【図５Ｂ】
【図６】
【図７】
【図８Ａ】
【図８Ｂ】
【図９Ａ】
【図９Ｂ】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４Ａ】
【図１４Ｂ】
【図１４Ｃ】
【図１５】
【図１６】
【図１７Ａ】
【図１７Ｂ】
【図１８Ａ】
【図１８Ｂ】
【図１８Ｃ】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図２９】
【図３０】
【図３１Ａ】
【図３１Ｂ】
【図３１Ｃ】
【図３２】
【図３３】
【図３４Ａ】
【図３４Ｂ】
【図３４Ｃ】
【図３５Ａ】
【図３５Ｂ】
【図３５Ｃ】
【図３５Ｄ】
【図３６Ａ】
【図３６Ｂ】
【図３７】
【図３８】
【図３９】
【公開番号】特開２０１１−１９２９６１（Ｐ２０１１−１９２９６１Ａ）
【公開日】平成２３年９月２９日（２０１１．９．２９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２８０９８１（Ｐ２０１０−２８０９８１）
【出願日】平成２２年１２月１６日（２０１０．１２．１６）
【出願人】（０００００１２３６）株式会社小松製作所 (1,686)
【出願人】（３０００７３９１９）ギガフォトン株式会社 (227)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年９月２９日（２０１１．９．２９）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１２月１６日（２０１０．１２．１６）
【出願人】（０００００１２３６）株式会社小松製作所 (1,686)
【出願人】（３０００７３９１９）ギガフォトン株式会社 (227)
【Ｆターム（参考）】
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